2.xD/3D・PLP時代に求められる
ガラス基板技術の開発動向
~実装技術の現状、今後の必要技術/ガラスの必要特性/TGVへの湿式Cu直接めっき技術~
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本セミナーでは以下の3つのトピックスについて業界の有識者が解説します。
●「ガラス基板実装のこれまでの推移と動向、ならびに関連要素技術」
●「半導体パッケージ用ガラス基板に求められる特性」
●「TGVへのオールウェットCu直接めっき法GWCプロセス」
日時 | 2025年8月27日(水) 13:00~16:50 |
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受講料 39,600円(E-Mail案内登録価格 37,840円) 定価:本体36,000円+税3,600円 E-Mail案内登録価格:本体34,400円+税3,440円 ※1名様でオンライン配信セミナーを受講する場合、上記特別価格になります。 ※お申込みフォームで【テレワーク応援キャンペーン】を選択のうえお申込みください。 ※他の割引は併用できません。
3名以上のお申込みで1名あたり:受講料 22,000円 本体20,000円+税2,000円(1名あたり) ※受講者全員のE-Mail案内登録が必須です。 ※お申込みフォームで【半導体産業応援キャンペーン】を選択のうえお申込みください。 ※本ページからのお申込みに限り適用いたします。他の割引は併用できません。
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配布資料 | PDFデータ(印刷可) 弊社HPマイページよりダウンロードいただきます(開催2日前を目安にDL可となります)。 | |||
オンライン配信 | ZoomによるLive配信 ►受講方法・接続確認(申込み前に必ずご確認ください) ・セミナー視聴はマイページから お申込み後、マイページの「セミナー資料ダウンロード/映像視聴ページ」に お申込み済みのセミナー一覧が表示されますので、該当セミナーをクリックしてください。 開催日の【営業日2日前】より視聴用リンクが表示されます。 |
セミナー講師
「ガラス基板実装のこれまでの推移と動向、ならびに関連要素技術」
講師:Grand Joint Technology LTD マネージングダイレクタ 大西哲也 氏
[講師紹介]
長野実装フォーラムにて、ガラス基板実装について、故傳田先生とともに長く調査を継続して実施。国内外での講演など多数。プロセスコンサルティングを行う28年目のGrand Joint Technology LTD社のマネージングダイレクタ。電子部品実装分野で45年の経験。長野実装フォーラム理事、JIEPシニアメンバ。
第2部(14:20~15:30)
「半導体パッケージ用ガラス基板に求められる特性」
講師:イトウデバイスコンサルティング 代表 伊藤丈二 氏
[講師紹介]
1987年よりコーニングジャパン㈱にて,LCD用/OLED用/Micro-LED/LTPS・IGZO用ガラス基板製品の仕様・特性評価・技術ロードマップに携わる。1996年~2006年までセミジャパンのFPDテクノロジー基板委員会代表を務める。2024年から、最新FPDと半導体関連勉強会の代表を兼務。博士(工学)早稲田大学
第3部(15:40~16:50)
「TGVへのオールウェットCu直接めっき法GWCプロセス」
講師:江東電気(株) デバイス本部 表面処理デバイス部 執行役員 部長 髙山昌敏 氏
[講師紹介]
1997年江東電気(株)に入社。ハーメチックシールの製造、ならびに開発を担当。特に表面処理に携わり、新規プロセスの構築、新規設備導入に従事。近年は、ガラスと金属の接合技術を軸にした技術開発と新規事業を担っている。博士(工学)。
セミナー講演内容
ガラス実装技術のこれまでの推移を、学会での講演内容などから分析し、現時点でのマーケットで実用化レベルにあるものや今後のアプリケーションについて紹介する。HPC用の半導体サブストレートやインターポーザでの課題事項と現況をまとめ、今後さらに必要となる要素技術について議論する。
1. ガラスPKGの概要
2. ガラス実装技術のこれまでの推移を、学会での講演内容から分析
3. 現時点でのマーケットで実用化レベルにあるものや今後のアプリケーションについて紹介
4. HPC用の半導体サブストレートやインターポーザでの課題事項と現況を確認し、今後さらに必要となる
要素技術について議論
5. 関連する今後の実装学会の紹介
●質疑応答
■得られる知識
・ガラス実装技術のこれまでの推移と背景
・ガラス実装技術のメインプレーヤ
・ガラス実装技術のアプリケーション
・HPC用の半導体サブストレートやインターポーザでの課題事項と現況
・今後さらに必要となる要素技術
・関連する今後の実装学会
第2部『半導体パッケージ用ガラス基板に求められる特性』
FPD用ガラスは、従来の表示用基板以外に、インターポーザー的な基板として用いる提案がなされている。このような提案は近年、半導体パッケージ用基板に対しても適用が可能であるが、電気的特性が異なる。
本講演ではFPD用ガラスの特性と電気的特性の関係を明らかにした後、新たにガラスインターポーザーやコアガラス用に開発されている半導体パッケージ用ガラスの特性について総括する。
1. FPD用基板に要求された特性
2. FPD用基板とGlass Interposerとの関連
3. 半導体パッケージ用ガラス基板に求められる特性と形状
・基板反りに影響する特性
・電気的特性
・成形性
4. 加工(Via)特性に影響するガラス組成(エッチングとレーザ穴あけ)
5. 半導体パッケージ用ガラスの信頼性
6. 半導体パッケージ用ガラスの候補
・電気特性と物理的特性
・FPD用ガラスとの特性差異
・ガラス組成と電気・物理特性との関係
・今後のガラス組成に期待される特性
●質疑応答
■得られる知識
・FPD用基板の代表的特性
・半導体パッケージ用ガラス基板に求められる特性と形状
・Via加工(エッチングとレーザ穴あけ)とガラス組成の関係
・TGVやガラスインターポーザーの信頼性
第3部『TGVへのオールウェットCu直接めっき法GWCプロセス』
TGV基板は、今後主にデータセンターで利用される見込みである。これらのTGV基板には高いAspect ratioなVia有しており、Via内部への金属成膜が困難となっている。
本講演では、湿式法を用いたガラスへのCuめっきによって、立体構造したガラスに均一に銅を成膜可能なプロセスを紹介します。
1. 会社紹介
2. ガラスと金属の接合
3. GWCの説明
3.1 コンセプト、プロセスならびに評価結果
3.2 採用事例(アプリケーション)
●質疑応答
■得られる知識
・ガラスと金属の接合
・ガラス材料への表面処理
・ガラス上へのめっきプロセス
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~皮膚/生体貼付型・衣服型など未来のウェアラブルセンサに向けて~

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~センシング技術の進展と呼気ガス分析・香り再現・演出等への展開~

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~急速な成長を見せる車載LiDAR市場と採用・搭載レイアウト例、要素技術と低コスト化の進展、主要企業の製品動向まで~

光半導体とそのパッケージング・封止技術
~LED,レーザ,フォトダイオード,光ICなど、光半導体の種類・原理・用途から
封止・材料技術、ディスプレイや高速通信など先端応用に関わる開発課題まで~

金属ナノ粒子の合成・設計・制御と応用技術

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高周波対応基板の材料・要素技術の開発動向

小型化・集密化する電子デバイスを支える熱輸送・冷却技術の進化と新展開
・小型化/高機能化する電子デバイスに求められるサーマルマネジメント技術の進化
・ヒートパイプの/ 極薄化 / 自励振動型 / ループ型、 並列細管熱輸送デバイスの開発動向
・沸騰冷却 / 磁性流体 / 電気流体力学(EHD) 現象を利用した、熱輸送デバイスの開発
・新しい熱輸送現象として注目される「表面フォノンポラリトン」の原理と応用展開
・5G 対応スマートフォンおよびミニ基地局の放熱対策部品の事例を製品分解をもとに解説

環境発電・エネルギーハーベスティング技術―デバイス開発と応用展開―
~各種発電技術の仕組み・特徴、市場動向、先進的なデバイス・応用開発事例まで~


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高周波対応基板の材料・要素技術の開発動向

小型化・集密化する電子デバイスを支える熱輸送・冷却技術の進化と新展開
・小型化/高機能化する電子デバイスに求められるサーマルマネジメント技術の進化
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