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次世代パワーデバイス開発の最前線
~Si・SiC・GaN・Ga₂O₃の技術進化と実装課題~

量産課題と将来性から考えるパワーデバイス材料別の技術優位性と産業構造の変化

受講可能な形式:【Live配信(アーカイブ配信付)】or【アーカイブ配信】のみ

次世代パワーデバイス開発の全体像を、材料別に整理・比較。
電動化社会を支える材料別戦略を一挙解説!

パワーエレクトロニクス産業を支えるパワーデバイスの最新動向を、SiからSiC、GaN、Ga₂O₃まで広く取り上げ、各材料の特性・課題・量産性を詳細に解説します。また、今後日本が取るべき技術戦略と復活の鍵についても提言します。初学者にもわかりやすい構成で、研究・開発・事業企画に役立つ内容です。

日時 【Live配信】 2025年9月29日(月)  13:00~16:30
【アーカイブ配信】 2025年10月14日(火)  まで申込み受付(視聴期間:10/14~10/27)
受講料(税込)
各種割引特典
49,500円 ( E-Mail案内登録価格 46,970円 ) S&T会員登録とE-Mail案内登録特典について
定価:本体45,000円+税4,500円
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【半導体産業応援キャンペーン対象セミナー】3名以上のお申込みでさらにおトク

3名以上のお申込みで1名あたり:受講料 22,000円
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1名で受講の場合:37,840円(税込) ※テレワーク応援キャンペーン/E-mail案内登録の場合
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4名で受講の場合:88,000円(税込)  ※半導体産業応援キャンペーン:1名あたり22,000円(税込)
5名で受講の場合:110,000円(税込)  ※半導体産業応援キャンペーン:1名あたり22,000円(税込)
配布資料 PDFテキスト(印刷可・編集不可)
※開催2日前を目安に、弊社HPのマイページよりダウンロード可となります。
※アーカイブ配信受講の場合は配信開始日(8/8)からダウンロード可となります。
オンライン配信ZoomによるLive配信 ►受講方法・接続確認(申込み前に必ずご確認ください)
 Live配信受講のアーカイブ(見逃し)配信について
 視聴期間:[9/30~10/14中]を予定
 ※見逃し配信は原則として編集は行いません
 ※視聴準備が整い次第、担当から視聴開始のメールご連絡をいたします。
  (開催終了後にマイページでご案内するZoomの録画視聴用リンクからご視聴いただきます)

アーカイブ配信 ►受講方法・視聴環境確認(申込み前に必ずご確認ください)
 セミナー視聴・資料ダウンロードはマイページから
 お申し込み後、マイページの「セミナー資料ダウンロード/映像視聴ページ」に
 お申込み済みのセミナー一覧が表示されますので、該当セミナーをクリックしてください。
備考※講義中の録音・撮影はご遠慮ください。
※開催日の概ね1週間前を目安に、最少催行人数に達していない場合、セミナーを中止することがございます。
得られる知識・パワーエレクトロニクスおよびパワーデバイスの産業構造
・パワーデバイスによる電力変換と用途
・Siパワーデバイスの高性能化の歴史
・ワイドギャップ半導体の高いポテンシャルと開発ターゲット
・パワーデバイス用結晶の特異性
・SiCパワーデバイスの優位性と課題
・GaNパワーデバイスの優位性と課題
・Ga2O3パワーデバイスの優位性と課題
・パワーデバイス産業の将来展望と日本の復活
対象パワーエレクトロニクス製品/パワーデバイスの開発者、管理者、営業担当者
※初心者の受講でも問題ない

セミナー講師

グリーンパワー山本研究所 所長 山本 秀和 氏 
専門 : 半導体デバイス、半導体結晶
経歴:元 千葉工業大学教授
   元 三菱電機パワーデバイス開発部長
【講師詳細はこちら】
 

セミナー趣旨

パワーエレクトロニクス産業を根底から支えているパワーデバイスは、当面はSiデバイスが主流で製造されるのは間違いありません。一方で、Siデバイスの性能向上に限界が見えてきており、次世代パワーデバイス用材料として、ワイドギャップ半導体が期待されています。SiC、GaNおよびGa2O3は、物性値自身がパワーデバイスに適しており、試作されたデバイスの特性は、Siデバイスを凌駕します。しかしながら、結晶品質が劣る、信頼性に不安がある、歩留まりが低い、コストが高い等々、量産化には多くの課題があります。これまで、日本はパワーデバイス産業を牽引してきましたが、その地位は徐々に落ちてきています。Siおよびワイドギャップ半導体パワーデバイス進化の歴史、課題および将来展望、さらに、日本のパワーデバイス復活への有り方について、分かりやすく、かつ詳細に解説します。

セミナー講演内容

1.パワーエレクトロニクス/パワーデバイス産業
 1.1 パワーエレクトロニクスの重要性
 1.2 パワーデバイスの用途と産業構造

2.パワーデバイスの構造と高性能化の歴史
 2.1 パワーデバイスの構造と要求性能
 2.2 Siパワーデバイスの高性能化

3.SiCパワーデバイスの優位性と課題
 3.1 SiCパワーデバイスの優位性
 3.2 SiCパワーデバイスの課題

4.GaNパワーデバイスの優位性と課題
 4.1 GaNパワーデバイスの優位性
 4.2 GaNパワーデバイスの課題

5.Ga2O3パワーデバイスの優位性と課題
 5.1 Ga2O3パワーデバイスの優位性
 5.2 Ga2O3パワーデバイスの課題

6.パワーデバイスの将来展望
 6.1 パワーデバイス業界の動向
 6.2 日本のパワーデバイスの地位低下と復活

□質疑応答□