O250821:リソグラフィ技術・レジスト材料の基礎と微細化・高解像度に向けた応用技術、今後の展望 | 技術セミナーの開催・書籍出版　サイエンス＆テクノロジー＜Ｓ＆Ｔ＞

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セミナーセミナー番号:O250821(【オンデマンド】リソグラフィ技術)

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【オンデマンド】
リソグラフィ技術・レジスト材料の基礎と
微細化・高解像度に向けた応用技術、今後の展望

～フォトリソグラフィプロセスの理解とレジスト材料の開発指針～

視聴期間：申込日から10営業日後まで（期間中は何度でも視聴可）

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「半導体レジスト材料・周辺技術」の4つのオンデマンドセミナーをセットでお申込みがおトク！
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　本セミナーでは、これまでのリソグラフィ技術・レジスト材料開発の事例をまとめ、今後の効率的な技術開発・不良防止・トラブル対策への応用への指針とする。リソグラフィ技術のこれまでを学ぶことで、これからを見通す力を身に着ける。

日時

2025年10月30日（木）まで申込受付中／※ 映像時間約4時間45分

収録日時

2025年4月22日

受講料(税込)

各種割引特典

55,000円 ( E-Mail案内登録価格 52,250円 ) S&T会員登録とE-Mail案内登録特典について

定価：本体50,000円＋税5,000円

E-Mail案内登録価格：本体47,500円＋税4,750円

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備考

※録音・撮影、複製は固くお断りいたします。
※講師の所属などは、収録当時のものをご案内しております

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受講対象
研究開発、製造技術業務にたずさわって2～3年の若手技術者の方から中堅技術者、リーダー

得られる知識

１．レジスト・リソグラフィ技術の基礎と技術開発の必然性、マイクロエレクトロニクスの高密度化、高速化、低コスト化に伴うリソグラフィ技術の微細化・レジストの高解像度化などの高品位化の歴史的変遷およびイノベーションの創出過程を知ることができる。

２．技術・レジスト材料開発の実例を学ぶことにより、効率的な技術開発・不良防止・トラブル対策への応用が可能となる。

３．事業課題の設定、事業計画の策定・推進、その他、新規事業の立ち上げや海外進出の推進、他社との資本・業務提携・アライアンスなどに関する企画立案などの参考になる。

４．科学技術の進歩の負の側面として顕在化してきている地球規模の課題の解決に向けて半導体産業が果たす役割を考察し、日本の半導体産業の現状と課題を整理し、今後の展開の指針としたい。

セミナー講師

鴨志田技術事務所代表　鴨志田洋一　氏　（元神奈川大学、ＪＳＲ(株)）
【専門】機能性高分子、高分子合成、リソグラフィ材料、知的財産権、コーポレートガバナンス

セミナー趣旨

　今日の情報化社会は、マイクロエレクトロニクス(ME)の発展に支えられている。その先端技術ともいえる人工知能(AI)は医療分野、自動運転技術への展開から社会への浸透をはじめており、人間に代わるから超えるところまで議論されている。
　MEは、1950年代に集積回路(IC)が開発されて以来、大規模集積回路(LSI)のパターンの微細化、高集積化、すなわちメモリー大容量化、システムLSIの高性能化の方向で、一貫して発展してきている。あわせて情報処理の高速化、低価格化も実現してきた。今後もメモリーの大容量化およびシステムLSIの高性能化の流れは止まりそうにないと予測されている。このような流れの中で、フォトリソグラフィの進歩はフォトレジストなどの材料開発が中心軸となってMEの発展に寄与してきたが、これらの材料をうまく使いこなす露光装置を中心としたハードウェア、プロセス技術の進歩も著しいものがある。
　レジスト材料の開発はパターンの微細化、高解像度化が中心で、これは主として露光に用いる光の波長を短くすることで実現されてきた。ここまではさまざまな選択肢、さまざまな試行など、紆余曲折はあったものの、結果として振り返ってみれば、それまでの技術の延長線上で進んできている。1970年代から40年余りの短い時間に次のような大きな技術変革を経験している。
　1) コンタクトアライナーによるリソグラフィ技術の確立
　2) 投影露光方式の導入
　3) 化学増幅型レジスト／エキシマレーザ光源の採用
　4) EUV光源の採用など
　それぞれのステップで多くのイノベーションが実現され課題を克服してきたわけである。ここでは、これまでの技術・材料開発の事例をまとめ、今後の効率的な技術開発・不良防止・トラブル対策への応用への指針とする。あわせて、日本の今後の半導体関連産業の在り方についても考察する。

セミナー講演内容

１．技術パラダイムシフトと半導体集積回路
　1.1 科学技術の発展
　1.2 技術パラダイムシフト
　 1.3 マイクロエレクトロニクス(ME)と社会～AI技術の展開～
　1.4 ＭＥの黎明期とフォトレジスト

２．フォトレジストの本流
　2.1 ゴム系ネガ型フォトレジスト
　　(1) リソグラフィプロセスの確立
　　(2) 基本的構造及び製造法
　2.2 ノボラック系ポジ型レジスト
　　(1) 基本的組成
　　(2) マトリックス樹脂製法、感光性化合物
　　(3) レジストの透明性と解像度
　　(4) i-線レジスト
　　(5) リソグラフィプロセスでの化学と工程管理
　　(6) レジストの溶剤と環境への影響
　　(7) 高性能化への工夫と新たなイノベーション

３．フォトレジストの裏街道
　3.1 Ｘ線レジスト
　3.2 Top Surface Imaging：DESIRE
　3.3 Deep UVリソグラフィ
　　(1) 黎明期のレジスト
　　(2) 化学増幅型レジスト
　　(3) 光酸発生剤

４．エキシマレーザリソグラフィ
　4.1 KrFレジスト
　　(1) エキシマレーザリソグラフィ実現への課題
　　(2) 光源・光学系の課題
　　(3) 化学増幅型レジストの課題
　　(4) 材料からの改良
　　(5) プロセス面からの改良
　　(6) 実用化されたレジスト材料
　4.2 ArFレジスト
　　(1) ArFレジスト実現への課題
　4.3 液浸リソグラフィ

５．EUVリソグラフィ
　5.1 光源・露光機の開発
　5.2 レジスト開発
　　　開発現状と課題／LERの要因と対応
　5.3 無機レジスト
　　　感度・解像度／保存安定性
　5.4 EUVLの課題
　　　光源／露光装置／マスク／レジスト／評価装置

６．今後の展望
　6.1 高解像度化と現像プロセス
　　　現像過程での膨潤と解像度
　6.2 今後のパターン形成プロセス
　6.3 ナノインプリント技術の実用化

７．科学技術と社会(半導体と人間)
　7.1 実装材料（ポリイミド）
　7.2 フラットパネルディスプレイ材料
　7.3 ブレインマシンインターフェイス(BMI)
　7.4 科学技術と社会(地球規模の課題と科学技術/半導体)

８．国の安全保障の根幹を担う半導体産業
　8.1 半導体産業の重要性
　8.2 日本および世界の半導体産業の現状
　8.3 経産省の戦略
　8.4 再生のための論点

９．効率的にイノベーションを創出するために
　　知的財産戦略とMOT

１０．まとめ

□ 質疑応答 □

セミナーリクエスト

セミナーセミナー番号:O250821(【オンデマンド】リソグラフィ技術)

【オンデマンド】 リソグラフィ技術・レジスト材料の基礎と微細化・高解像度に向けた応用技術、今後の展望

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受講可能な形式：【会場受講】or【Live配信】

【 2 名同時申込で 1 名無料】対象セミナー

6G・AI・EV時代に求められる積層セラミックコンデンサ(MLCC)技術
受講可能な形式：【Live配信(アーカイブ配信付)】のみ

【 2 名同時申込で 1 名無料】対象セミナー

粘着・剥離現象の基礎と粘着テープ(粘着剤)の設計面/使用面の要点と評価法＜サンプル配付：手に取るようにわかる実演講義＞
受講可能な形式：【Live配信】のみ

【 2 名同時申込で 1 名無料】対象セミナー

【オンデマンド配信】特許情報からみた５Ｇ材料開発戦争［2021］
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【オンデマンド配信】特許情報からみた5G・6G材料開発戦争［2022］
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トライボロジーの基礎とプラスチック材料の摩擦摩耗特性向上
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【オンデマンド配信】特許情報からみた 5G 材料３セミナーセット申込みページ
【オンデマンド配信】※会社・自宅にいながら学習可能です※

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DX/AI時代のエレクトロニクス・半導体実装技術最新パッケージ技術とチップレット集積の課題と展望
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高性能有機半導体の分子設計・合成・評価とデバイス作製・応用展開
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物体色の測定(測色)・評価・クレーム対策
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【 2 名同時申込で 1 名無料】対象セミナー

ものづくりと生産技術～塗装・加飾技術の最新動向～～人とAIの融合する新たな未来へ～
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【 2 名同時申込で 1 名無料】対象セミナー

金属ナノ粒子・微粒子の合成法、構造解析、焼結法、分散安定化、電子材料や接合材料としての応用
受講可能な形式：【Live配信】のみ

【 2 名同時申込で 1 名無料】対象セミナー

電子機器における実践的な熱設計・熱対策技術：発熱の削減や放熱設計の勘所、放熱材料の選定・使用法など
受講可能な形式：【Live配信(アーカイブ配信付)】のみ

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薄膜の剥離メカニズムと密着性の評価、改善手法
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自動車用パワーエレクトロニクスの基礎と技術動向
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気体の吸着・脱着基礎と応用：二酸化炭素の効率的な回収を目指して NEW
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【オンデマンド配信】特許情報からみたBeyond 5G 材料開発戦争［2023］
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【製本版＋ ebook版】ナノインプリント技術の基礎と応用最前線 NEW

半導体デバイス製造を支えるCMP技術の開発動向
～微細化・高集積化・難加工基板への対応で重要性が増すCMP技術の進展～

匂い・香りの科学と評価・可視化・応用技術
～センシング技術の進展と呼気ガス分析・香り再現・演出等への展開～

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～急速な成長を見せる車載LiDAR市場と採用・搭載レイアウト例、要素技術と低コスト化の進展、主要企業の製品動向まで～

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シランカップリング剤の基礎知識と使いこなすためのポイント
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電子機器の故障メカニズムと未然防止・故障解析のポイント＜実際の市場故障をもとに考える＞
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＜電子機器・光学用＞粘着シートの基礎と設計・開発技術、評価法、活用法
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ＡＬＤ（原子層堆積法）の基礎とプロセス最適化および最新技術動向
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クリーンルーム清浄度維持の勘どころ
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電子機器・電子デバイスにおける熱設計・熱問題への対策ノウハウ
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先進半導体パッケージの技術動向と三次元集積化プロセス開発の道程
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レーザ溶接の基礎と応用および溶接管理技術【LIVE配信】
受講可能な形式：【Live配信】のみ

【オンデマンド配信】半導体用レジストの基礎と材料設計および環境配慮型の新規レジスト除去技術
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CO2の電解還元技術における基礎と有用化合物への変換および将来展望
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次世代パワーデバイス開発の最前線～Si・SiC・GaN・Ga₂O₃の技術進化と実装課題～
受講可能な形式：【Live配信(アーカイブ配信付)】or【アーカイブ配信】のみ

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溶解度パラメータ（SP値・HSP値）の基礎および機能性材料開発のための活用ノウハウ最前線2ヵ月連続セミナー
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レジストリソグラフィー技術の基礎と実務およびトラブル対策
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脳波計測・解析の基礎と応用および、脳波データのビジネス展開の可能性
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超音波技術と圧電デバイスの基礎から応用まで【LIVE配信】
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光導波路の基礎と集積化技術
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防汚コーティング技術の総合知識
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インクジェットの各構成要素の総合知識と課題解決
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電気自動車（EV）向けワイヤレス給電の現状と可能性【LIVE配信】
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次世代通信（６G）に要求される高周波対応部品・部材の特性と技術動向
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溶解度パラメータ（HSP）の機能性材料開発への応用最前線
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酸化物半導体の基礎と三次元集積デバイス応用に向けた研究開発動向
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