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《データセンタ2026 冷却・電力・インフラ集中講座》

【データセンタ設備構造・冷却技術】

【液浸冷却/電力設計/インフラ構造】
2セット申込みページ

[1日目]AI時代のデータセンタ競争と構造転換
高発熱・高電力密度化に対応する冷却技術と設備設計の最適解
[2日目]AI革命によるデータセンター戦略 
液浸冷却、電力設計と省電力化、インフラ構造の変革

受講可能な形式:【ライブ配信】のみ
※1日目のみ見逃し配信付

 データセンタを巡る2026年最新情報・最新技術(冷却・電力・次世代インフラ)を掴む2日間

 
 ■ 生成AI・GPU高発熱化・電力密度増大に伴う設備変革 ■
■ 空冷・液冷・液浸の選択と導入判断、伝熱設計による冷却最適化 ■
 
受講可能な形式:【ライブ配信(見逃し配信付)】のみ 
見逃し配信のみの視聴も可能です(視聴期間:5/13~5/20)※
 
 6月12日(金)  13:00~17:00
  ■ 消費電力爆増時代に対応する電源アーキテクチャと冷却技術の実装 ■
■ 液浸冷却・高電圧DC給電・デジタルツインが切り拓く次世代AIインフラ ■
 
受講可能な形式:【ライブ配信】のみ 

本ページは上記2セミナーをまとめてお申しいただけるページです。各セミナーページから単独でもお申込みいただけます。
日時 [1日目] 2026年5月12日(火)  13:00~16:15
[2日目] 2026年6月12日(金)  13:00~17:00
受講料(税込)
各種割引特典
定価:本体70,000円+税7,000円
E-Mail案内登録なら、2名同時申込みで1名分無料 1名分無料適用条件
2名で77,000円(2名ともE-Mail案内登録必須​/1名あたり定価半額の38,500円)

テレワーク応援キャンペーン(1名受講)【オンライン配信セミナー受講限定】
 受講料 61,600円(E-Mail案内登録価格 58,520円)
 定価:本体56,000円+税5,600円
 E-Mail案内登録価格:本体53,200円+税5,320円
  ※1名様でオンライン配信セミナーを受講する場合、上記特別価格になります。
  ※お申込みフォームで【テレワーク応援キャンペーン】を選択のうえお申込みください。
  ※他の割引は併用できません。
配布資料PDFテキスト(印刷可・編集不可)
開催2日前を目安に、弊社HPのマイページよりダウンロード可となります。
オンライン配信Zoomによるライブ配信 ►受講方法・接続確認(申込み前に必ずご確認ください)

セミナー視聴・資料ダウンロードはマイページから
お申し込み後、マイページの「セミナー資料ダウンロード/映像視聴ページ」に
お申込み済みのセミナー一覧が表示されますので、該当セミナーをクリックしてください。
開催日の【2日前】より視聴用リンクと配布用資料のダウンロードリンクが表示されます。
備考※講義中の録音・撮影はご遠慮ください。
※開催日の概ね1週間前を目安に、最少催行人数に達していない場合、セミナーを中止することがございます。

セミナー講師


[1日目]
【第1部】 東京大学大学院 情報理工学系研究科 教授 博士(工学)  江﨑 浩 氏 
 [ご専門] 情報工学、インターネット

【第2部】山陽小野田市立山口東京理科大学 工学部 機械工学科 教授 博士(工学) 結城 和久 氏
 [ご専門] 熱工学、流体工学、電子機器実装、エネルギー炉工学
[2日目]
【第1部】 NECネッツエスアイ株式会社 赤崎 好伸 氏 
 [ご専門]  データセンターIT、ファシリティ 通信、通信ネットワーク

【第2部】インフィニオン テクノロジーズ ジャパン株式会社 
      バイスプレジデント 戦略室 室長 兼 社長補佐 後藤 貴志​ 氏


【第3部】株式会社インフラコモンズ 代表取締役 今泉 大輔​ 氏

 [ご専門]  AIデータセンターを初めとするエンタープライズAI動向全般

セミナー講演内容

[1日目] 【ライブ配信(見逃し配信付)】2026年5月12日(火)  13:00~16:15
 
AI時代のデータセンタ競争と構造転換
高発熱・高電力密度化に対応する冷却技術と設備設計の最適解
■ 生成AI・GPU高発熱化・電力密度増大に伴う設備変革 ■
■ 空冷・液冷・液浸の選択と導入判断、伝熱設計による冷却最適化 ■

※[1日目]のみのお申込みはコチラから

第1部 13:00~14:30
データセンターの最新トピックス2026
 東京大学大学院 情報理工学系研究科 教授 江﨑 浩 氏

1.ワット・ビット連携 
 (ア) ワット・ビット+分子の法則 
 (イ) インフラと経済主力基盤の進化 
 (ウ) デジタル経済の安全保障と地政学 
 (エ) データセンタ産業の進化 
 (オ) 電力産業の歴史と今後 

2.半導体産業とデータセンター 
 (ア) NVIDEAの次は? 
 (イ) DeepSeekのインパクト 

3.データセンタの課題 in 2026 
 (ア) グローバルシステムとしての データセンター  
 (イ) IoFへの進化と ワークロードシフト 
 (ウ) 熱と電力密度との闘い 
 (エ) ホワイトボックス化 
 (オ) サイバーセキュリティー  
   ① スマートプロトコル化、
   ② 4レベル・段階でのサイバーセキュリティー基準 
 (カ) フルデジタル化するデータセンター 
 (キ) 地球温暖化対策とデータセンター 
 (ク) プライベート・オンプレ化への回帰 
 (ケ) 計算パワーの取り引き市場の創成 
 (コ) 宇宙へ飛び出すデータセンター 

  □質疑応答□

休憩 14:30~14:45

第2部 14:45~16:15
『 AI データセンターの冷却技術について―冷却から見える未来、最新動向―』 
 山陽小野田市立山口東京理科大学 工学部 機械工学科 教授 結城 和久 氏

1.はじめに(AIデータセンターの冷却問題)

2.空冷/液冷/浸漬冷却の性能差から見える今後のデータセンター冷却

3.液浸冷却の動向と今後の課題
     ・液浸冷却技術の原理(1相・2相)
     ・液浸冷却技術の冷却性能(2相)
     ・呼吸現象による新しい2相液浸冷却技術
     ・呼吸冷却の長所と液浸冷却への展開

4.日本液浸コンソーシアムの紹介

5.おわりに

 □質疑応答□

※内容は変更になる可能性がございます。
 
[2日目] 【ライブ配信】2026年6月12日(金)  13:00~17:00
 
AI革命によるデータセンター戦略
液浸冷却、電力設計と省電力化、インフラ構造の変革

■ 消費電力爆増時代に対応する電源アーキテクチャと冷却技術の実装 ■
■ 液浸冷却・高電圧DC給電・デジタルツインが切り拓く次世代AIインフラ ■

※[2日目]のみのお申込みはコチラから

第1部 13:00~14:00
『 液浸データセンターにおける液浸冷却システムの開発と省電力化 』
 NECネッツエスアイ株式会社 赤崎 好伸 氏 氏
 
1.はじめに(データセンターの省エネの現状)
2.液浸冷却システムを活用したデータセンター実現に向けて取り組んだ経緯
3.液浸冷却技術に着目
4.実証実験の概要
5.実証実験で明らかになった効果
6.問題点、社会実装に向けた課題と解決策
7.社会実装を含めた今後の展望 

休憩 14:00~14:10

第2部 14:10~15:10
『 AIデータセンター電源の最前線 〜消費電力・効率・信頼性の設計と実装〜 』 
 インフィニオン テクノロジーズ ジャパン株式会社 後藤 貴志​ 氏

1.AI革命による電力需要の爆増 
 ・先端AIモデルの学習計算量は3.4か月ごとに2倍。 
 ・AIデータセンターの電力消費は 2030年に世界の消費電力の約7% に到達する可能性。 
 ・ハイパースケーラー(Meta, Microsoft, Amazon, Alphabet)は年間数百億ドル規模でCAPEXを増強。 
 
2.サーバーラック & プロセッサの消費電力は急増 
 ・GPU/AIアクセラレータは 2–4 kW/ユニットに増加。 
 ・サーバーラック当たりの消費電力は 
  60 kW → 100 kW → 150 kW → 600 kW – 1 MW+(2027〜2030)と急増。 
  これに対応するため、従来の単相PSU中心構成から高電圧DC給電へ移行。 
 
3.ラックアーキテクチャの進化 
 ・Gen1(現行)
  ITラックにPSU/BBU/ITが統合(<250 kW/rack) 
 ・Gen2(2027+) 
  3相HVDC PSU + サイドカー構成 → 約500 kW以上に対応 
 ・Gen3(2029+)  
  ハイブリッドDCマイクログリッド(SST + HVDC)
   → 1 MW超を中央電源で供給する次世代アーキテクチャ 
 
4.インフィニオンの役割:すべての電源段を提供(Grid → Core) 
  インフィニオンは以下のすべての電力変換段にソリューションを持つ: 
 1.    変電(SST/SSCB) 
 2.    PSU(単相/三相、SiC・GaN採用) 
 3.    BBU(バッテリーバックアップ) 
 4.    中間バスコンバーター(IBC:48V/800V → 12V/6V) 
 5.    セカンドステージ(VRM:Vcore 0.8V) 
 すべてで 
 Si / SiC / GaN を最適組み合わせるハイブリッドアプローチ により、
 効率・電力密度・コスト・信頼性のバランスを最適化。 

5.ソリッドステート変圧器(SST)の市場性 
 ・伝統的変圧器より 40倍軽量、14倍コンパクト、工期50%短縮。 
 ・2030年に >10億USDの新市場へ成長見込み。 
 ・Hyperscaler向けにすでに共同開発が進行。 
 
6.PSUの進化(3kW → 30kW) 
 ・単相で12kW(三相へ拡張で30kW級) 
 ・効率98%超、100W/in³以上の高密度
  → SiC/GaNを用いたトーテムポールPFCとLLCが中核 
 
7.BBU(バッテリバックアップ)の革新 
 ・従来 12 kW が上限 → インフィニオンの新トポロジーで 25 kW級に拡張可能 
 ・ 部分電力変換(Partial Power Conversion)
   → 効率99.5%・電力密度4倍・BOMコスト40%削減 
 
8.中間バスコンバーター(IBC) 
 ・HV IBC(±400/800V) と MV IBC(48V) の両方に対応 
 ・多彩なトポロジー: Interleaved Buck / xSC / LLC / HSC / DR-HSC 
 ・48Vシステム故障の約50%が電源関連であり、インフィニオンは**高信頼性(MTBF向上)**を重視 
 
9.セカンドステージ(垂直給電VPD)による革新 
 ・VRMをASIC背面に実装(Vertical Power Delivery) 
 ・PDN損失を20% → 3%へ(85%削減) 
 ・電流密度は 0.4 → 4 A/mm² へ(10倍成長ロードマップ) 
 
10.まとめ 
 ・AIの爆発的拡大は、電力供給インフラの全面革新を要請 
 ・高電圧DC化・サイドカー化・マイクログリッド化が不可避の流れ 
 ・インフィニオンは SST → PSU → IBC → VRM(Vcore)まで全段をカバーする唯一の企業のひとつ 
 ・環境配慮(効率、サイズ、廃熱対応)とコスト最適化を両立 

 □質疑応答□

休憩 15:10~15:20

第3部 15:20~17:00
『 次世代AI半導体NVIDIA「Vera Rubin」の構成
 及び Vera Rubin搭載次世代ギガワット級AIデータセンターの
 デジタルツイン設計プラットフォーム「DSX」と製品サプライヤー群。日本企業が参入できるのはどこか? 』 

 株式会社インフラコモンズ 代表取締役 今泉 大輔​ 氏

1. データセンターから「トークン・ファクトリー」への変容
 ・「計算」から「生産」へ
   従来のデータセンター(ファイル保存)と、現代のAIファクトリー(トークン生成)の違い。
 ・新しいコモディティ「トークン」
   知能を生成する最小単位としてのトークン。その生産コストが企業の競争力を決める時代。
 ・「無料でも高すぎる」アーキテクチャ
  ギガワット級施設の建設コスト(400億ドル)を前提としたとき、
  いかに「ワットあたりのトークン数」を最大化するかが唯一の解であることの解説。

2. Vera Rubin:エージェンティックAI時代の物理基盤
 ・10年で4000万倍の進化
  Pascal世代(DGX-1)からVera Rubinに至るまでのスケーリング法則の軌跡。
 ・「チップ」から「システム」への垂直統合
   Vera CPU: LPDDR5を採用し、シングルスレッド性能と電力効率を極めた理由。
   第6世代NVLink: 液体冷却、260TB/sの広帯域がいかに「巨大な1つのGPU」を実現するか。
   Gro 3 LPUの統合: SRAMを活用した「トークン・アクセラレータ」がもたらす35倍のスループット。
 ・運用革新
   設置時間を2日から2時間へ。液冷による45度温水活用のメリット
  (施設全体のエネルギー最適化)。

3.NVIDIA DSX:AIファクトリーの「デジタル・ブループリント」
 ・DSXが必要とされる背景
  複雑すぎて「現場で合わせる」ことが不可能なシステム設計。
  仮想空間での「事前出会い(Virtual Commissioning)」の必要性。
 ・デジタルツインによる収益最大化
   1ヶ月の建設遅延が数十億ドルの損失を生む世界での、Omniverseの役割。
 ・4つの主要APIとエコシステム
   DSX SIM / Exchange: 熱、電気、ネットワークの物理シミュレーションと運用データの統合。
   DSX Flex / Max Q: 電力グリッドとの動的な連携と、トークン排出量の最大化。
 ・異業種連携の深化
   ダッソー、シーメンス、ケイデンスなどの伝統的エンジニアリング企業と
  NVIDIAが「AIファクトリー」という目的で合流する産業的意義。

 □質疑応答□

  ※内容は変更になる可能性がございます。