《データセンタ2026 冷却・電力・インフラ集中講座》
【データセンタ設備構造・冷却技術】
&
【液浸冷却/電力設計/インフラ構造】
2セット申込みページ
[1日目]AI時代のデータセンタ競争と構造転換
高発熱・高電力密度化に対応する冷却技術と設備設計の最適解
[2日目]AI革命によるデータセンター戦略
液浸冷却、電力設計と省電力化、インフラ構造の変革
※2名様ともE-Mail案内登録が必須です。
2名様以降の受講者は、申込み前にE-Mail案内登録をお済ませください。
※同一法人内(グループ会社でも可)による2名同時申込みのみ適用いたします。
※3名様以上のお申込みの場合、1名あたり定価半額で追加受講できます。
※他の割引は併用できません。
※1日目のみ見逃し配信付
データセンタを巡る2026年最新情報・最新技術(冷却・電力・次世代インフラ)を掴む2日間
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■ 生成AI・GPU高発熱化・電力密度増大に伴う設備変革 ■
■ 空冷・液冷・液浸の選択と導入判断、伝熱設計による冷却最適化 ■ 受講可能な形式:【ライブ配信(見逃し配信付)】のみ
※見逃し配信のみの視聴も可能です(視聴期間:5/13~5/20)※ |
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6月12日(金) 13:00~17:00
■ 消費電力爆増時代に対応する電源アーキテクチャと冷却技術の実装 ■
■ 液浸冷却・高電圧DC給電・デジタルツインが切り拓く次世代AIインフラ ■ 受講可能な形式:【ライブ配信】のみ
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本ページは上記2セミナーをまとめてお申しいただけるページです。各セミナーページから単独でもお申込みいただけます。
| 日時 | [1日目] 2026年5月12日(火) 13:00~16:15 |
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|---|---|---|
| [2日目] 2026年6月12日(金) 13:00~17:00 |
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受講料(税込)
各種割引特典
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77,000円
S&T会員登録とE-Mail案内登録特典について
定価:本体70,000円+税7,000円
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E-Mail案内登録なら、2名同時申込みで1名分無料
1名分無料適用条件
1名分無料適用条件
※2名様ともE-Mail案内登録が必須です。
2名様以降の受講者は、申込み前にE-Mail案内登録をお済ませください。 ※同一法人内(グループ会社でも可)による2名同時申込みのみ適用いたします。 ※3名様以上のお申込みの場合、1名あたり定価半額で追加受講できます。 ※請求書(PDFデータ)は、代表者にE-mailで送信いたします。 ※請求書および領収証は1名様ごとに発行可能です。 (申込みフォームの通信欄に「請求書1名ごと発行」と記入ください。) ※他の割引は併用できません。 2名で77,000円(2名ともE-Mail案内登録必須/1名あたり定価半額の38,500円)
受講料 61,600円(E-Mail案内登録価格 58,520円)
定価:本体56,000円+税5,600円E-Mail案内登録価格:本体53,200円+税5,320円 ※1名様でオンライン配信セミナーを受講する場合、上記特別価格になります。 ※お申込みフォームで【テレワーク応援キャンペーン】を選択のうえお申込みください。 ※他の割引は併用できません。 |
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| 配布資料 | PDFテキスト(印刷可・編集不可) ※開催2日前を目安に、弊社HPのマイページよりダウンロード可となります。 | |
| オンライン配信 | Zoomによるライブ配信 ►受講方法・接続確認(申込み前に必ずご確認ください) セミナー視聴・資料ダウンロードはマイページから お申し込み後、マイページの「セミナー資料ダウンロード/映像視聴ページ」に お申込み済みのセミナー一覧が表示されますので、該当セミナーをクリックしてください。 開催日の【2日前】より視聴用リンクと配布用資料のダウンロードリンクが表示されます。 | |
| 備考 | ※講義中の録音・撮影はご遠慮ください。 ※開催日の概ね1週間前を目安に、最少催行人数に達していない場合、セミナーを中止することがございます。 | |
セミナー講師
[1日目]
【第1部】 東京大学大学院 情報理工学系研究科 教授 博士(工学) 江﨑 浩 氏
[ご専門] 情報工学、インターネット
【第2部】山陽小野田市立山口東京理科大学 工学部 機械工学科 教授 博士(工学) 結城 和久 氏
[ご専門] 熱工学、流体工学、電子機器実装、エネルギー炉工学
[2日目]
【第1部】 NECネッツエスアイ株式会社 赤崎 好伸 氏
[ご専門] データセンターIT、ファシリティ 通信、通信ネットワーク
【第2部】インフィニオン テクノロジーズ ジャパン株式会社
バイスプレジデント 戦略室 室長 兼 社長補佐 後藤 貴志 氏
【第3部】株式会社インフラコモンズ 代表取締役 今泉 大輔 氏
[ご専門] AIデータセンターを初めとするエンタープライズAI動向全般
セミナー講演内容
| [1日目] 【ライブ配信(見逃し配信付)】2026年5月12日(火) 13:00~16:15 AI時代のデータセンタ競争と構造転換
■ 生成AI・GPU高発熱化・電力密度増大に伴う設備変革 ■高発熱・高電力密度化に対応する冷却技術と設備設計の最適解 ■ 空冷・液冷・液浸の選択と導入判断、伝熱設計による冷却最適化 ■ ※[1日目]のみのお申込みはコチラから |
第1部 13:00~14:30
『 データセンターの最新トピックス2026 』
東京大学大学院 情報理工学系研究科 教授 江﨑 浩 氏
1.ワット・ビット連携
(ア) ワット・ビット+分子の法則
(イ) インフラと経済主力基盤の進化
(ウ) デジタル経済の安全保障と地政学
(エ) データセンタ産業の進化
(オ) 電力産業の歴史と今後
2.半導体産業とデータセンター
(ア) NVIDEAの次は?
(イ) DeepSeekのインパクト
3.データセンタの課題 in 2026
(ア) グローバルシステムとしての データセンター
(イ) IoFへの進化と ワークロードシフト
(ウ) 熱と電力密度との闘い
(エ) ホワイトボックス化
(オ) サイバーセキュリティー
① スマートプロトコル化、
② 4レベル・段階でのサイバーセキュリティー基準
(カ) フルデジタル化するデータセンター
(キ) 地球温暖化対策とデータセンター
(ク) プライベート・オンプレ化への回帰
(ケ) 計算パワーの取り引き市場の創成
(コ) 宇宙へ飛び出すデータセンター
□質疑応答□
休憩 14:30~14:45
第2部 14:45~16:15
『 AI データセンターの冷却技術について―冷却から見える未来、最新動向―』
山陽小野田市立山口東京理科大学 工学部 機械工学科 教授 結城 和久 氏
1.はじめに(AIデータセンターの冷却問題)
2.空冷/液冷/浸漬冷却の性能差から見える今後のデータセンター冷却
3.液浸冷却の動向と今後の課題
・液浸冷却技術の原理(1相・2相)
・液浸冷却技術の冷却性能(2相)
・呼吸現象による新しい2相液浸冷却技術
・呼吸冷却の長所と液浸冷却への展開
4.日本液浸コンソーシアムの紹介
5.おわりに
□質疑応答□
※内容は変更になる可能性がございます。
| [2日目] 【ライブ配信】2026年6月12日(金) 13:00~17:00 AI革命によるデータセンター戦略
液浸冷却、電力設計と省電力化、インフラ構造の変革 ■ 消費電力爆増時代に対応する電源アーキテクチャと冷却技術の実装 ■ ■ 液浸冷却・高電圧DC給電・デジタルツインが切り拓く次世代AIインフラ ■ ※[2日目]のみのお申込みはコチラから |
第1部 13:00~14:00
『 液浸データセンターにおける液浸冷却システムの開発と省電力化 』
NECネッツエスアイ株式会社 赤崎 好伸 氏 氏
1.はじめに(データセンターの省エネの現状)
2.液浸冷却システムを活用したデータセンター実現に向けて取り組んだ経緯
3.液浸冷却技術に着目
4.実証実験の概要
5.実証実験で明らかになった効果
6.問題点、社会実装に向けた課題と解決策
7.社会実装を含めた今後の展望
休憩 14:00~14:10
第2部 14:10~15:10
『 AIデータセンター電源の最前線 〜消費電力・効率・信頼性の設計と実装〜 』
インフィニオン テクノロジーズ ジャパン株式会社 後藤 貴志 氏
1.AI革命による電力需要の爆増
・先端AIモデルの学習計算量は3.4か月ごとに2倍。
・AIデータセンターの電力消費は 2030年に世界の消費電力の約7% に到達する可能性。
・ハイパースケーラー(Meta, Microsoft, Amazon, Alphabet)は年間数百億ドル規模でCAPEXを増強。
2.サーバーラック & プロセッサの消費電力は急増
・GPU/AIアクセラレータは 2–4 kW/ユニットに増加。
・サーバーラック当たりの消費電力は
60 kW → 100 kW → 150 kW → 600 kW – 1 MW+(2027〜2030)と急増。
これに対応するため、従来の単相PSU中心構成から高電圧DC給電へ移行。
3.ラックアーキテクチャの進化
・Gen1(現行)
ITラックにPSU/BBU/ITが統合(<250 kW/rack)
・Gen2(2027+)
3相HVDC PSU + サイドカー構成 → 約500 kW以上に対応
・Gen3(2029+)
ハイブリッドDCマイクログリッド(SST + HVDC)
→ 1 MW超を中央電源で供給する次世代アーキテクチャ
4.インフィニオンの役割:すべての電源段を提供(Grid → Core)
インフィニオンは以下のすべての電力変換段にソリューションを持つ:
1. 変電(SST/SSCB)
2. PSU(単相/三相、SiC・GaN採用)
3. BBU(バッテリーバックアップ)
4. 中間バスコンバーター(IBC:48V/800V → 12V/6V)
5. セカンドステージ(VRM:Vcore 0.8V)
すべてで
Si / SiC / GaN を最適組み合わせるハイブリッドアプローチ により、
効率・電力密度・コスト・信頼性のバランスを最適化。
5.ソリッドステート変圧器(SST)の市場性
・伝統的変圧器より 40倍軽量、14倍コンパクト、工期50%短縮。
・2030年に >10億USDの新市場へ成長見込み。
・Hyperscaler向けにすでに共同開発が進行。
6.PSUの進化(3kW → 30kW)
・単相で12kW(三相へ拡張で30kW級)
・効率98%超、100W/in³以上の高密度
→ SiC/GaNを用いたトーテムポールPFCとLLCが中核
7.BBU(バッテリバックアップ)の革新
・従来 12 kW が上限 → インフィニオンの新トポロジーで 25 kW級に拡張可能
・ 部分電力変換(Partial Power Conversion)
→ 効率99.5%・電力密度4倍・BOMコスト40%削減
8.中間バスコンバーター(IBC)
・HV IBC(±400/800V) と MV IBC(48V) の両方に対応
・多彩なトポロジー: Interleaved Buck / xSC / LLC / HSC / DR-HSC
・48Vシステム故障の約50%が電源関連であり、インフィニオンは**高信頼性(MTBF向上)**を重視
9.セカンドステージ(垂直給電VPD)による革新
・VRMをASIC背面に実装(Vertical Power Delivery)
・PDN損失を20% → 3%へ(85%削減)
・電流密度は 0.4 → 4 A/mm² へ(10倍成長ロードマップ)
10.まとめ
・AIの爆発的拡大は、電力供給インフラの全面革新を要請
・高電圧DC化・サイドカー化・マイクログリッド化が不可避の流れ
・インフィニオンは SST → PSU → IBC → VRM(Vcore)まで全段をカバーする唯一の企業のひとつ
・環境配慮(効率、サイズ、廃熱対応)とコスト最適化を両立
□質疑応答□
休憩 15:10~15:20
第3部 15:20~17:00
『 次世代AI半導体NVIDIA「Vera Rubin」の構成
及び Vera Rubin搭載次世代ギガワット級AIデータセンターの
デジタルツイン設計プラットフォーム「DSX」と製品サプライヤー群。日本企業が参入できるのはどこか? 』
株式会社インフラコモンズ 代表取締役 今泉 大輔 氏
1. データセンターから「トークン・ファクトリー」への変容
・「計算」から「生産」へ
従来のデータセンター(ファイル保存)と、現代のAIファクトリー(トークン生成)の違い。
・新しいコモディティ「トークン」
知能を生成する最小単位としてのトークン。その生産コストが企業の競争力を決める時代。
・「無料でも高すぎる」アーキテクチャ
ギガワット級施設の建設コスト(400億ドル)を前提としたとき、
いかに「ワットあたりのトークン数」を最大化するかが唯一の解であることの解説。
2. Vera Rubin:エージェンティックAI時代の物理基盤
・10年で4000万倍の進化
Pascal世代(DGX-1)からVera Rubinに至るまでのスケーリング法則の軌跡。
・「チップ」から「システム」への垂直統合
Vera CPU: LPDDR5を採用し、シングルスレッド性能と電力効率を極めた理由。
第6世代NVLink: 液体冷却、260TB/sの広帯域がいかに「巨大な1つのGPU」を実現するか。
Gro 3 LPUの統合: SRAMを活用した「トークン・アクセラレータ」がもたらす35倍のスループット。
・運用革新
設置時間を2日から2時間へ。液冷による45度温水活用のメリット
(施設全体のエネルギー最適化)。
3.NVIDIA DSX:AIファクトリーの「デジタル・ブループリント」
・DSXが必要とされる背景
複雑すぎて「現場で合わせる」ことが不可能なシステム設計。
仮想空間での「事前出会い(Virtual Commissioning)」の必要性。
・デジタルツインによる収益最大化
1ヶ月の建設遅延が数十億ドルの損失を生む世界での、Omniverseの役割。
・4つの主要APIとエコシステム
DSX SIM / Exchange: 熱、電気、ネットワークの物理シミュレーションと運用データの統合。
DSX Flex / Max Q: 電力グリッドとの動的な連携と、トークン排出量の最大化。
・異業種連携の深化
ダッソー、シーメンス、ケイデンスなどの伝統的エンジニアリング企業と
NVIDIAが「AIファクトリー」という目的で合流する産業的意義。
□質疑応答□
※内容は変更になる可能性がございます。
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封止・材料技術、ディスプレイや高速通信など先端応用に関わる開発課題まで~
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高周波対応基板の材料・要素技術の開発動向
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・ヒートパイプの/ 極薄化 / 自励振動型 / ループ型、 並列細管熱輸送デバイスの開発動向
・沸騰冷却 / 磁性流体 / 電気流体力学(EHD) 現象を利用した、熱輸送デバイスの開発
・新しい熱輸送現象として注目される「表面フォノンポラリトン」の原理と応用展開
・5G 対応スマートフォンおよびミニ基地局の放熱対策部品の事例を製品分解をもとに解説
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~各種発電技術の仕組み・特徴、市場動向、先進的なデバイス・応用開発事例まで~
≪解説動画9時間で学ぶeラーニング講座≫Excelを使った乾燥技術の評価実例とトラブル対策-乾燥技術のすべて。- NEW
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第1講 乾燥の基礎
第2講 乾燥機の選定
第3講 乾燥機の設計
≪解説動画で学ぶeラーニング講座≫押出機混練ノウハウによる上手な混練、トラブル対策の実践的要点 NEW
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半導体製造工程における洗浄・クリーン化技術と汚染制御対策
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3Dプリンティング材料の革新と2026年以降の3Dプリンティングビジネス戦略
受講可能な形式:【ライブ配信】or【アーカイブ配信】
AI革命によるデータセンター戦略液浸冷却、電力設計と省電力化、インフラ構造の変革 NEW
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積層セラミックコンデンサ(MLCC)の設計、材料技術、開発動向と課題
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リソグラフィ技術・レジスト材料の基礎と微細化・高解像度に向けた先端技術、今後の展望 NEW
受講可能な形式:【ライブ配信】or【アーカイブ配信】のみ
使用環境・製造条件の悪影響を受けないロバストな設計条件を見極める品質工学
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半導体パッケージの反り対策に向けた材料開発と測定技術
受講可能な形式:【ライブ配信】のみ
精密部品の接着剤組立における接着技術の基礎と光通信用部品組立への応用
受講可能な形式:【ライブ配信】のみ
マイクロ波プロセスの基礎と産業導入における技術課題・トラブル対策
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2nm世代以降の先端半導体配線技術の最新動向
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市場クレームとその影響、対応コストを考慮した損失関数による安全係数・検査基準・規格値の決定法 【超入門編】
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製造条件・使用環境の変動に耐えうる最適設計仕様を導く非線形ロバストデザイン
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未知の不良や異常も検知する検査・センシング・モニタリングに適した人工知能MTシステム(MT法)基礎と応用【超入門編】
受講可能な形式:【ライブ配信(見逃し配信付)】のみ
市場クレームとその影響、対応コストを考慮した損失関数による安全係数・検査基準・規格値の決定法
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ナノインプリント技術の基礎と応用最前線
【製本版 + ebook版】ナノインプリント技術の基礎と応用最前線
【製本版 + ebook版】インクジェットインクの最適化 千態万様[進歩版]
次世代ウェアラブルデバイスに向けたフレキシブル・伸縮性エレクトロニクス技術とセンサ開発
~生体データを連続的・高精度に違和感なくセンシングするために~
~皮膚/生体貼付型・衣服型など未来のウェアラブルセンサに向けて~
半導体デバイス製造を支えるCMP技術の開発動向
~微細化・高集積化・難加工基板への対応で重要性が増すCMP技術の進展~
匂い・香りの科学と評価・可視化・応用技術
~センシング技術の進展と呼気ガス分析・香り再現・演出等への展開~
車載用LiDARの市場・技術トレンド
~急速な成長を見せる車載LiDAR市場と採用・搭載レイアウト例、要素技術と低コスト化の進展、主要企業の製品動向まで~
光半導体とそのパッケージング・封止技術
~LED,レーザ,フォトダイオード,光ICなど、光半導体の種類・原理・用途から
封止・材料技術、ディスプレイや高速通信など先端応用に関わる開発課題まで~
金属ナノ粒子の合成・設計・制御と応用技術
半導体製造プロセスを支える洗浄・クリーン化・汚染制御技術
高周波対応基板の材料・要素技術の開発動向
小型化・集密化する電子デバイスを支える熱輸送・冷却技術の進化と新展開
・小型化/高機能化する電子デバイスに求められるサーマルマネジメント技術の進化
・ヒートパイプの/ 極薄化 / 自励振動型 / ループ型、 並列細管熱輸送デバイスの開発動向
・沸騰冷却 / 磁性流体 / 電気流体力学(EHD) 現象を利用した、熱輸送デバイスの開発
・新しい熱輸送現象として注目される「表面フォノンポラリトン」の原理と応用展開
・5G 対応スマートフォンおよびミニ基地局の放熱対策部品の事例を製品分解をもとに解説
環境発電・エネルギーハーベスティング技術―デバイス開発と応用展開―
~各種発電技術の仕組み・特徴、市場動向、先進的なデバイス・応用開発事例まで~
≪解説動画9時間で学ぶeラーニング講座≫Excelを使った乾燥技術の評価実例とトラブル対策-乾燥技術のすべて。- NEW
≪解説動画で学ぶeラーニング講座≫
第1講 乾燥の基礎
第2講 乾燥機の選定
第3講 乾燥機の設計
≪解説動画で学ぶeラーニング講座≫押出機混練ノウハウによる上手な混練、トラブル対策の実践的要点 NEW
≪解説動画で学ぶeラーニング講座≫
テーマ1 混練の基礎、押出機の構造と工程プロセス
テーマ2 二軸押出機の混練要素と押出機・周辺設備の基礎
テーマ3 スクリュデザインの基礎と上手く混練するためのノウハウ、
および粉体の混練技術
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