シリコンパワー半導体の性能向上・機能付加の
最新動向と今後の展望
Si-IGBTの性能向上とそれを支える材料・プロセス技術
大口径インテリジェント・シリコンパワー半導体の開発動向
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☆大口径のシリコンパワー半導体にAI等の機能を付加し、高度な自己制御機能を持たせた大口径インテリジェント・シリコンパワー半導体。
新世代Siパワー半導体の開発動向について、サプライチェーン全体のパワー半導体の動向、SiおよびWBGパワーデバイスの開発動向や将来展望を含めて解説。専門外の項目も理解しやすいように分かりやすく解説します。
日時 | 2024年12月11日(水) 13:00~16:30 |
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受講料(税込)
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配布資料 | PDFテキスト(印刷可・編集不可) ※開催2日前を目安に、弊社HPのマイページよりダウンロード可となります。 | |||
オンライン配信 | ZoomによるLive配信 ►受講方法・接続確認(申込み前に必ずご確認ください) ■アーカイブ配信について 視聴期間:終了翌営業日から7日間[12/12~12/18中]を予定 ※動画は未編集のものになります。 ※視聴ページは、遅くとも終了翌営業日の正午までにマイページにリンクを設定します。 | |||
備考 | ※講義中の録音・撮影はご遠慮ください。 ※開催日の概ね1週間前を目安に、最少催行人数に達していない場合、セミナーを中止することがございます。 |
得られる知識 パワー半導体を取り巻く環境について総合的に整理し、シリコンおよび化合物パワー半導体の開発動向、サプライチェーン全体を通してのパワー半導体の動向、将来展望について解説する。特に、限界がうたわれて久しいシリコンパワー半導体について、性能向上、機能向上などを含め、継続的に進化し続けている状況を解説する。 |
受講対象 パワーデバイスを中心として、材料、プロセス、パワーエレクトロニクス応用に関係する方々 予備知識:不要です。材料・プロセス・デバイスとサプライチェーンをまたぐ解説を予定していて、自身の専門のところ以外もご理解いただけるよう注意して講演する予定です。(例:材料の方がパワエレの項目もご理解いただけるように) |
セミナー講師
専門:パワー半導体材料、パワーデバイスプロセス、結晶工学
1996~2017 電子技術総合研究祖・産業技術総合研究所にて、SiC及びSiを中心に、パワー半導体材料、デバイス・パワーエレクトロニクスの研究開発に従事。
2017~現在 九州大学にて、Siを中心に、パワー半導体材料、パワーデバイスプロセス、パワーデバイスの研究開発に従事
研究室HP:https://www.riam.kyushu-u.ac.jp/rese/rese.html
セミナー趣旨
本講演では、パワーデバイスを取り巻く環境、今後の動向について解説し、特にシリコン半導体およびIGBTを主として取り上げ、SI-IGBT性能向上、それを支える材料・プロセス技術の開発動向を紹介する。また、パワーデバイスにデジタル技術を融合することで、パワーデバイス動作性能向上に加え、機能付加など、新しい方向性を紹介する。
セミナー講演内容
2.パワーデバイスの開発動向
3.Si-IGBTの性能向上に向けて
3.1 スケーリングIGBT
3.2 ウェハおよびプロセス技術
3.3 ゲートドライブ技術
4.SiおよびWBGパワーデバイスの現状と将来
5.今後の展望
□質疑応答□
※以下のNEDOプロジェクトでの取り組みを中心に、紹介させていただきます。
1.経産省/NEDO:低炭素社会を実現する次世代パワーエレクトロニクスプロジェクト(新世代Siパワーデバイス技術開発)2014~2019年度
2.経産省/NEDO:省エネエレクトロニクスの製造基盤強化に向けた技術開発事業(大口径インテリジェント・シリコンパワー半導体の開発)2021~2025年度
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