【半導体後工程技術の深化、進化、真価】
BSPDN構造・ハイブリッド接合に向けた
プロセス、材料、集積技術の革新動向
受講可能な形式:【Live配信(アーカイブ配信付)】のみ
近年注目されている、BSPDN構造やハイブリッド接合。それらに用いられる材料や要素技術・動向・展望を紹介。
IITC 2025で発表されたBSPDN構造の熱マネジメント向上をはじめ、
自身も革新的な最先端テーマの研究に携わる横国大・井上先生による、先端3D集積の革新動向セミナーです。
近年注目されている、BSPDN構造やハイブリッド接合。それらに用いられる材料や要素技術・動向・展望を紹介。
IITC 2025で発表されたBSPDN構造の熱マネジメント向上をはじめ、
自身も革新的な最先端テーマの研究に携わる横国大・井上先生による、先端3D集積の革新動向セミナーです。
日時 | 2026年2月10日(火) 13:00~16:30 |
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受講料(税込)
各種割引特典
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49,500円
( E-Mail案内登録価格 46,970円 )
S&T会員登録とE-Mail案内登録特典について
定価:本体45,000円+税4,500円
E-Mail案内登録価格:本体42,700円+税4,270円
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E-Mail案内登録なら、2名同時申込みで1名分無料
1名分無料適用条件
2名で49,500円 (2名ともE-mail案内登録必須/1名あたり定価半額の24,750円)
1名申込みの場合:受講料 39,600円(E-Mail案内登録価格 37,840円) 定価:本体36,000円+税3,600円 E-Mail案内登録価格:本体34,400円+税3,440円 ※1名様でオンライン配信セミナーを受講する場合、上記特別価格になります。 ※お申込みフォームで【テレワーク応援キャンペーン】を選択のうえお申込みください。 ※他の割引は併用できません。
3名以上のお申込みで1名あたり:受講料 22,000円 本体20,000円+税2,000円(1名あたり) ※受講者全員のE-Mail案内登録が必須です。 ※お申込みフォームで【半導体産業応援キャンペーン】を選択のうえお申込みください。 ※本ページからのお申込みに限り適用いたします。他の割引は併用できません。
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配布資料 | PDFテキスト(印刷可・編集不可) ※開催2日前を目安に、弊社HPのマイページよりダウンロード可となります。 | |||
オンライン配信 | ZoomによるLive配信 ►受講方法・接続確認(申込み前に必ずご確認ください) セミナー視聴・資料ダウンロードはマイページから お申し込み後、マイページの「セミナー資料ダウンロード/映像視聴ページ」に お申込み済みのセミナー一覧が表示されますので、該当セミナーをクリックしてください。 開催日の【2日前】より視聴用リンクと配布用資料のダウンロードリンクが表示されます。 アーカイブ(見逃し)配信について 視聴期間:2月12日(木)PM~2月18日(水) ※アーカイブは原則として編集は行いません ※視聴準備が整い次第、担当から視聴開始のメールご連絡をいたします。 (開催終了後にマイページでご案内するZoomの録画視聴用リンクからご視聴いただきます) | |||
備考 | ※講義中の録音・撮影はご遠慮ください。 ※開催日の概ね1週間前を目安に、最少催行人数に達していない場合、セミナーを中止することがございます。 |
セミナー講師
横浜国立大学 理工学部 機械・材料・海洋系学科 准教授 工学(博士) 井上 史大 氏
【専門】半導体プロセス 【講師紹介】
【専門】半導体プロセス 【講師紹介】
セミナー趣旨
半導体の前工程と後工程の境目がなくなってきており、さまざまな3D集積技術がトレンドに挙がってきている。本講演でそれら技術の詳細と必要となるプロセス技術、材料を紹介する。
セミナー講演内容
1.3Dロジックデバイス
1.1 BSPDNとは?
1.2 開発動向
1.3 必要となる要素技術
・ウエハ接合
・ウエハエッジ
・Si薄化
・リソグラフィコレクション
2.Wafer-to-Wafer ハイブリッド接合
2.1 ハイブリッド接合とは?
2.2 開発動向
2.3 Cuパッドデザイン
2.4 アライメント精度
2.5 接合絶縁膜
2.6 めっき技術
2.7 CMP技術
2.8 洗浄技術
2.9 プラズマ活性化技術
2.10 接合強度測定
3.Die-to-Wafer ハイブリッド接合
3.1 チップレット
3.2 ダイレベルハイブリッド
3.3 ダイボンダ―
3.4 ダイシング
3.5 リコンストラクティッドボンディング
3.6 接合強度測定手法
4.まとめ
□質疑応答□
※上記の前回講演骨子をベースに更新予定。
1.1 BSPDNとは?
1.2 開発動向
1.3 必要となる要素技術
・ウエハ接合
・ウエハエッジ
・Si薄化
・リソグラフィコレクション
2.Wafer-to-Wafer ハイブリッド接合
2.1 ハイブリッド接合とは?
2.2 開発動向
2.3 Cuパッドデザイン
2.4 アライメント精度
2.5 接合絶縁膜
2.6 めっき技術
2.7 CMP技術
2.8 洗浄技術
2.9 プラズマ活性化技術
2.10 接合強度測定
3.Die-to-Wafer ハイブリッド接合
3.1 チップレット
3.2 ダイレベルハイブリッド
3.3 ダイボンダ―
3.4 ダイシング
3.5 リコンストラクティッドボンディング
3.6 接合強度測定手法
4.まとめ
□質疑応答□
※上記の前回講演骨子をベースに更新予定。
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