A251080:半導体洗浄の基礎と要点、困ったときの対策 | 技術セミナーの開催・書籍出版　サイエンス＆テクノロジー＜Ｓ＆Ｔ＞

セミナー印刷

テレワーク応援キャンペーン【オンライン配信セミナー1名受講限定】半導体産業応援キャンペーン対象セミナー【3名以上での申込みがお得】

半導体洗浄の基礎と要点、困ったときの対策

■半導体洗浄の基礎現象（薬液と流れの効果）■
■洗浄機内の流れと反応■　■洗浄の評価方法（実験・計算・観察）■
■狭い空間の洗浄■　■トラブルとその対策■

受講可能な形式：【Live配信(アーカイブ配信付)】のみ
【半導体産業応援キャンペーン対象セミナー】3名以上のお申込みでさらにおトク

■お得な関連情報■「11/21：半導体ウェット洗浄技術の基礎と乾燥技術、および技術トレンドと最先端技術」とセット申込みがおトク！
詳しくはこちら → https://www.science-t.com/seminar/S251000.html

★ アーカイブ受講のみもOKです。
★ 半導体製造プロセスで重要な「洗浄技術」。1日でしっかり理解してもらいます。

日時

【Live配信：アーカイブ付き】 2025年10月30日（木） 10:30～16:30

受講料(税込)

各種割引特典

55,000円 ( E-Mail案内登録価格 52,250円 ) S&T会員登録とE-Mail案内登録特典について

定価：本体50,000円＋税5,000円

E-Mail案内登録価格：本体47,500円＋税4,750円

E-Mail案内登録なら、2名同時申込みで1名分無料 1名分無料適用条件

2名で55,000円（2名ともE-Mail案内登録必須／１名あたり定価半額の27,500円）

【半導体産業応援キャンペーン対象セミナー】3名以上のお申込みでさらにおトク

3名以上のお申込みで1名あたり：受講料 24,200円
　本体22,000円＋税2,200円(1名あたり)
※受講者全員のE-Mail案内登録が必須です。
※お申込みフォームで【半導体産業応援キャンペーン】を選択のうえお申込みください。
※本ページからのお申込みに限り適用いたします。他の割引は併用できません。

テレワーク応援キャンペーン(1名受講)【オンライン配信セミナー受講限定】

1名申込みの場合：受講料44,000円（E-Mail案内登録価格 42,020円）　
　定価：本体40,000円＋税4,000円　E-Mail案内登録価格：本体38,200円＋税3,820円
※１名様でオンライン配信セミナーを受講する場合、上記特別価格になります。
※お申込みフォームで【テレワーク応援キャンペーン】を選択のうえお申込みください。
※他の割引は併用できません。

■■■受講人数ごとのお申込み例■■■

1名で受講の場合：42,020円(税込)　※テレワーク応援キャンペーン/E-mail案内登録の場合
2名で受講の場合：55,000円(税込)　※2名同時申込みで1名分無料：1名あたり27,500円(税込)
3名で受講の場合：72,600円(税込)　※半導体産業応援キャンペーン：1名あたり24,200円(税込)
4名で受講の場合：96,800円(税込)　※半導体産業応援キャンペーン：1名あたり24,200円(税込)
5名で受講の場合：121,000円(税込)　※半導体産業応援キャンペーン：1名あたり24,200円(税込)

特典

■Live受講に加えて、アーカイブでも１週間視聴できます■
【アーカイブの視聴期間】2025年10月31日(金)～11月6日(木)まで
※このセミナーはアーカイブ付きです。セミナー終了後も繰り返しの視聴学習が可能です。

配布資料

PDFテキスト(印刷可・編集不可)
※開催2日前を目安に、弊社HPのマイページよりダウンロード可となります。

オンライン配信

ZoomによるLive配信　►受講方法・接続確認（申込み前に必ずご確認ください）

アーカイブ(見逃し)配信について
※視聴期間は終了翌日から7日間を予定しています。またアーカイブは原則として編集は行いません。
※マイページからZoomの録画視聴用リンクにてご視聴いただきます。

備考

※講義中の録音・撮影はご遠慮ください。
※開催日の概ね1週間前を目安に、最少催行人数に達していない場合、セミナーを中止することがございます。

セミナーリクエスト

セミナー講師

反応装置工学ラボ・代表、横浜国立大学名誉教授　羽深等　氏
＜主な経歴＞
新潟大学理学部化学科　理学士（1979年3月）
京都大学大学院理学研究科化学専攻　理学修士（1981年3月）
広島大学大学院工学研究科　博士（工学）（1996年9月）
信越化学工業株式会社　1981年4月～2000年3月
横浜国立大学工学部物質工学科　助教授　2000年4月～2002年3月
横浜国立大学大学院工学研究院　教授　2002年4月～2022年3月
横浜国立大学大学院工学研究院名誉教授　2022年４月
反応装置工学ラボ　代表　2022年4月～
＜研究分野＞
半導体結晶製造プロセスの化学工学（実験と解析）
半導体シリコンウエハ湿式洗浄装置（枚葉式・バッチ式）の解析・設計
シリコン系半導体の薄膜成長（CVD, PECVD）・エッチング・装置クリーニングのプロセス開発と解析
半導体シリコン表面の分子吸着・脱離挙動の測定と解析
＜WebSite＞
反応装置工学ラボ　https://www.rare-lab.com/

セミナー趣旨

　半導体洗浄の基礎現象・要点から困った時の対策まで説明します。半導体にとって清浄面であることの意味と価値、薬液の働き方を改めて考え、水の流れを動画で眺めると、洗浄では何をどのようにしているのか分かります。ここでは、身近な流れ、枚葉式洗浄機とバッチ式洗浄機の流れの可視化実験動画を見て感覚をつかみ、数値シミュレーション結果で理解します。超音波の効果についても流れと気泡の動きを動画により理解します。それにより、洗浄機内の流れが結果を左右すること、流れを変えて使う工夫、微細パターン洗浄の特徴を考え、トラブル時の視点と対策を紹介します。

セミナー講演内容

＜習得できる知識＞
・半導体洗浄の要素と要点
・目的に合わせた清浄の定義
・キレイに仕上げるための表面と流れの工夫
・洗浄条件設計方法
・流れ・気泡などの使い方と作り方

＜プログラム＞
１．洗う理由：汚れの種類と由来

２．半導体洗浄の４要素:温度、時間、化学、力学

３．半導体の洗浄に特有のこと

４．先端技術情報（半導体洗浄を取扱っている国際学会・国内学会）

５．半導体洗浄の基礎現象（薬液と流れの効果）
　5.1 表面の現象とプロセス（付着・脱離・引き剥がす・乾かす）
　　5.1.1 表面現象、薬液洗浄と物理的洗浄
　　5.1.2 洗浄後の表面、乾燥とパターン倒れ
　　5.1.3 ドライ洗浄と超臨界流体洗浄
　5.2 流れ、熱、拡散、反応（洗う＝汚れを動かす操作）
　5.3 身近な流れの可視化観察例

６．洗浄機内の流れと反応
　6.1 枚葉式洗浄機
　　6.1.1 水の流れ（観察動画と計算例、回転数、ノズルスイング）
　　6.1.2 化学反応の例（酸化膜エッチング速度の数値解析事例）
　6.2 バッチ式洗浄機
　　6.2.1 水の流れ(観察動画と計算例)
　　6.2.3 水流を最適化した事例（水噴出角度、槽内循環流）
　　6.2.4 ウエハ挿入と取出しの際の汚れの付着と脱落
　　6.2.5 上下に揺動する理由
　6.3 超音波の働き、水と気泡の動き（観察動画）
　　6.3.1 超音波出力と水の動き
　　6.3.2 ウエハ支持棒の周りの気泡の動き
　　6.3.3 超音波洗浄槽の工夫、最適化の要点

７．洗浄の評価方法（実験・計算・観察）

８．狭い空間の洗浄
　8.1 液の侵入と濡れ（親水性・疎水性）
　8.2 狭い空間における反応の速度
　8.3 微細パターンの洗浄面積（パターン表面積≫見かけのウエハ面積）

９．まとめ：困った時の視点と対策（流れと境界層）
　9.1 洗えない時
　9.2 洗えるが残る時

　　□質疑応答□

セミナーリクエスト

セミナーセミナー番号:A251080(半導体洗浄)

半導体洗浄の基礎と要点、困ったときの対策

1名分無料適用条件

セミナー講師

セミナー趣旨

セミナー講演内容

関連商品

先進半導体パッケージの技術動向と三次元集積化プロセス開発の道程 受講可能な形式：【Live配信】のみ 【 2 名 同 時 申 込 で 1 名 無 料 】 対 象 セ ミ ナ ー

半導体デバイスの物理的ウエット洗浄の基礎と最新情報の展開 受講可能な形式：【ライブ配信】or【アーカイブ配信】のみ 【2名同時申込で1名無料】対象セミナー

レジストリソグラフィー技術の基礎と実務およびトラブル対策 受講可能な形式：【ライブ配信】or【アーカイブ配信】のみ 【2名同時申込で1名無料】対象セミナー

先端パッケージングの全体像（開発動向＆ビジネス化戦略）およびRDLインターポーザ最新技術動向 受講可能な形式：【会場受講】or【アーカイブ配信】 【 2 名 同 時 申 込 で 1 名 無 料 】 対 象 セ ミ ナ ー

クライオエッチングの基礎・現状・課題と低温下における表面反応 受講可能な形式：【Live配信(アーカイブ配信付)】のみ 【 2 名 同 時 申 込 で 1 名 無 料 】 対 象 セ ミ ナ ー

半導体封止材の設計・開発とその技術および半導体パッケージのトレンド 受講可能な形式：【ライブ配信】or【アーカイブ配信】のみ 【2名同時申込で1名無料】対象セミナー

＜実践的で詳細に学ぶ＞シリコンフォトニクスの基礎と応用 受講可能な形式：【会場受講】のみ 【 2 名 同 時 申 込 で 1 名 無 料 】 対 象 セ ミ ナ ー

半導体ウェット洗浄技術の基礎と乾燥技術、および技術トレンドと最先端技術 NEW 受講可能な形式：【Live配信】のみ 【 2 名 同 時 申 込 で 1 名 無 料 】 対 象 セ ミ ナ ー

【オンデマンド配信】半導体テスト技術の基礎と動向 【オンデマンド配信】※会社・自宅にいながら学習可能です※ 【 2 名 同 時 申 込 で 1 名 無 料 】 対 象 セ ミ ナ ー

半導体デバイス製造を支えるCMP技術の開発動向 ～微細化・高集積化・難加工基板への対応で重要性が増すCMP技術の進展～

【期間限定価格30%OFF】光半導体とそのパッケージング・封止技術 ～LED,レーザ,フォトダイオード,光ICなど、光半導体の種類・原理・用途から 封止・材料技術、ディスプレイや高速通信など先端応用に関わる開発課題まで～

半導体封止材料 総論 ～基本組成から製造・評価・配合設計技術・今後の先端開発指針まで～

先進半導体パッケージの技術動向と三次元集積化プロセス開発の道程 受講可能な形式：【Live配信】のみ 【 2 名 同 時 申 込 で 1 名 無 料 】 対 象 セ ミ ナ ー

半導体デバイスの物理的ウエット洗浄の基礎と最新情報の展開 受講可能な形式：【ライブ配信】or【アーカイブ配信】のみ 【2名同時申込で1名無料】対象セミナー

レジストリソグラフィー技術の基礎と実務およびトラブル対策 受講可能な形式：【ライブ配信】or【アーカイブ配信】のみ 【2名同時申込で1名無料】対象セミナー

先端パッケージングの全体像（開発動向＆ビジネス化戦略）およびRDLインターポーザ最新技術動向 受講可能な形式：【会場受講】or【アーカイブ配信】 【 2 名 同 時 申 込 で 1 名 無 料 】 対 象 セ ミ ナ ー

クライオエッチングの基礎・現状・課題と低温下における表面反応 受講可能な形式：【Live配信(アーカイブ配信付)】のみ 【 2 名 同 時 申 込 で 1 名 無 料 】 対 象 セ ミ ナ ー

半導体封止材の設計・開発とその技術および半導体パッケージのトレンド 受講可能な形式：【ライブ配信】or【アーカイブ配信】のみ 【2名同時申込で1名無料】対象セミナー

＜実践的で詳細に学ぶ＞シリコンフォトニクスの基礎と応用 受講可能な形式：【会場受講】のみ 【 2 名 同 時 申 込 で 1 名 無 料 】 対 象 セ ミ ナ ー

半導体ウェット洗浄技術の基礎と乾燥技術、および技術トレンドと最先端技術 NEW 受講可能な形式：【Live配信】のみ 【 2 名 同 時 申 込 で 1 名 無 料 】 対 象 セ ミ ナ ー

【オンデマンド配信】半導体テスト技術の基礎と動向 【オンデマンド配信】※会社・自宅にいながら学習可能です※ 【 2 名 同 時 申 込 で 1 名 無 料 】 対 象 セ ミ ナ ー

半導体デバイス製造を支えるCMP技術の開発動向 ～微細化・高集積化・難加工基板への対応で重要性が増すCMP技術の進展～

【期間限定価格30%OFF】光半導体とそのパッケージング・封止技術 ～LED,レーザ,フォトダイオード,光ICなど、光半導体の種類・原理・用途から 封止・材料技術、ディスプレイや高速通信など先端応用に関わる開発課題まで～

半導体封止材料 総論 ～基本組成から製造・評価・配合設計技術・今後の先端開発指針まで～

お知らせ

サイトマップ

サイエンス&テクノロジー

先進半導体パッケージの技術動向と三次元集積化プロセス開発の道程
受講可能な形式：【Live配信】のみ

【 2 名同時申込で 1 名無料】対象セミナー

半導体デバイスの物理的ウエット洗浄の基礎と最新情報の展開
受講可能な形式：【ライブ配信】or【アーカイブ配信】のみ

【2名同時申込で1名無料】対象セミナー

レジストリソグラフィー技術の基礎と実務およびトラブル対策
受講可能な形式：【ライブ配信】or【アーカイブ配信】のみ

【2名同時申込で1名無料】対象セミナー

先端パッケージングの全体像（開発動向＆ビジネス化戦略）およびRDLインターポーザ最新技術動向
受講可能な形式：【会場受講】or【アーカイブ配信】

【 2 名同時申込で 1 名無料】対象セミナー

クライオエッチングの基礎・現状・課題と低温下における表面反応
受講可能な形式：【Live配信(アーカイブ配信付)】のみ

【 2 名同時申込で 1 名無料】対象セミナー

半導体封止材の設計・開発とその技術および半導体パッケージのトレンド
受講可能な形式：【ライブ配信】or【アーカイブ配信】のみ

【2名同時申込で1名無料】対象セミナー

＜実践的で詳細に学ぶ＞シリコンフォトニクスの基礎と応用
受講可能な形式：【会場受講】のみ

【 2 名同時申込で 1 名無料】対象セミナー

半導体ウェット洗浄技術の基礎と乾燥技術、および技術トレンドと最先端技術 NEW
受講可能な形式：【Live配信】のみ

【 2 名同時申込で 1 名無料】対象セミナー

【オンデマンド配信】半導体テスト技術の基礎と動向
【オンデマンド配信】※会社・自宅にいながら学習可能です※

【 2 名同時申込で 1 名無料】対象セミナー

半導体デバイス製造を支えるCMP技術の開発動向
～微細化・高集積化・難加工基板への対応で重要性が増すCMP技術の進展～

半導体封止材料総論
～基本組成から製造・評価・配合設計技術・今後の先端開発指針まで～