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May 8, 2017
次世代リソグラフィ技術の最新動向と今後の展望
～EUVリソグラフィ等の各要素技術、メタルレジスト・ブロック共重合体等の微細加工材料～
受講可能な形式：【Live配信】のみ
■まとめて受講がおトクな “セット申込み”があります！■
●「12/18EUVリソグラフィー」と「12/22フォトレジスト」2セミナーをセットで。
詳しくは → https://www.science-t.com/seminar/S251260.html
●「12/22フォトレジスト」と「12/23次世代リソグラフィ」2セミナーをセットで。
詳しくは → https://www.science-t.com/seminar/S251270.html
●「12/18EUVリソグラフィー」と「12/23次世代リソグラフィ」2セミナーをセットで。
詳しくは → https://www.science-t.com/seminar/S251280.html
●「12/18EUVリソグラフィー」と「12/22フォトレジスト」と「12/23次世代リソグラフィ」3セミナーをセットで。
詳しくは → https://www.science-t.com/seminar/S251290.html
本セミナーでは、EUVリソグラフィや自己組織化リソグラフィ、ナノインプリントリソグラフィ等、近年活発に研究開発がなされている次世代リソグラフィ技術それぞれの原理、技術動向、その微細加工材料などに関する最新動向について概説するとともに、講師の最新の成果を解説する。
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本セミナーでは、EUVリソグラフィや自己組織化リソグラフィ、ナノインプリントリソグラフィ等、近年活発に研究開発がなされている次世代リソグラフィ技術それぞれの原理、技術動向、その微細加工材料などに関する最新動向について概説するとともに、講師の最新の成果を解説する。
このセミナーの受付は終了致しました。
| 日時 | 2025年12月23日（火） 13:00～17:00 |
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受講料(税込)
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| 配布資料 | ・PDFテキスト(印刷不可・編集不可) ※開催2日前からを目安に、弊社HPのマイページよりダウンロード可となります。 | |
| オンライン配信 | ZoomによるLive配信 ►受講方法・接続確認（申込み前に必ずご確認ください） | |
| 備考 | ※講義の録音・録画・撮影はご遠慮ください。 ※開催日の概ね1週間前を目安に、最少催行人数に達していない場合、セミナーを中止することがございます。 | |
| 得られる知識 | ・次世代リソグラフィの技術動向 ・レジスト材料開発 ・半導体の微細化と極端紫外線（EUV）の基礎について ・EUV化学増幅型レジストシステムと反応機構について ・メタルレジストについて ・ブロック共重合体による自己組織化リソグラフィについて ・電子線リソグラフィについて ・ナノインプリントリソグラフィについて | |
| 対象 | ・微細加工関係の研究開発に携わる方 ・レジストおよびブロック共重合体材料開発に携わる方 ・化学や物理化学の基礎知識を有することが望ましいが、必須ではない | |
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セミナー講師
(国研)量子科学技術研究開発機構 高崎量子技術基盤研究所
先端機能材料研究部 プロジェクトリーダー(上席研究員) 山本 洋揮 氏
[その他 肩書・活動等]
大阪大学産業科学研究所 客員准教授
群馬大学理工学府 客員准教授
先端機能材料研究部 プロジェクトリーダー(上席研究員) 山本 洋揮 氏
[その他 肩書・活動等]
大阪大学産業科学研究所 客員准教授
群馬大学理工学府 客員准教授
セミナー趣旨
コンピュータ性能の更なる向上が要求されている半導体分野において、EUVリソグラフィが実現された。半導体微細加工技術であるEUVリソグラフィは、今後デジタル社会の構築において3次元微細加工技術と並んで極めて重要である。今後も更なる微細加工技術が要求されており、High-NAEUVリソグラフィなどをはじめ、次世代リソグラフィ技術が検討されている。
本セミナーでは、EUVリソグラフィ技術を中心に、近年活発に研究開発がなされている次世代リソグラフィ技術におけるそれぞれの原理、技術動向、他のリソグラフィ技術と比較した際の優位点をはじめ、実用化・普及の可能性、その微細加工材料などに関する最新動向について概説するとともに、我々の最新の成果を解説する。
本セミナーでは、EUVリソグラフィ技術を中心に、近年活発に研究開発がなされている次世代リソグラフィ技術におけるそれぞれの原理、技術動向、他のリソグラフィ技術と比較した際の優位点をはじめ、実用化・普及の可能性、その微細加工材料などに関する最新動向について概説するとともに、我々の最新の成果を解説する。
セミナー講演内容
１．はじめに
１.1 リソグラフィ技術の変遷
１.2 EUVリソグラフィの現状と課題
１.3 EUVリソグラフィレジスト評価システム
１.4 次世代リソグラフィ技術の動向
２．EBリソグラフィ技術の基礎とレジスト材料の開発例
2.1 電子ビームリソグラフィの位置づけ
2.2 電子ビームの散乱と阻止能
2.3 電子線レジスト
2.3.1 電子線レジストの種類
2.3.2 化学増幅型レジストの酸発生機構
2.3.3 ラインエッジラフネス（LER）の原因の解明
2.3.4 反応機構に基づいたEBリソグラフィ用単一成分化学増幅型レジスト
３．EUVリソグラフィ技術の基礎とレジスト材料の開発例
3.1 EUVリソグラフィの基礎
3.2 EUVリソグラフィの現状と課題
3.3 EUVレジスト
3.3.1 EUVレジストの種類
3.3.2 EUVリソグラフィ用レジスト材料の要求特性
3.3.3 EUV化学増幅型レジストの反応機構とEBレジスト設計指針との違い
3.3.4 EUV化学増幅型レジストの問題点
3.4 EUVメタルレジスト開発
3.4.1 EUVリソグラフィ用メタルレジストの概要
3.4.2 放射線による金属ナノ粒子の形成メカニズムに基づいた有機無機ハイブリッドパターン形成
3.4.3 メタル化合物の添加によるEUVレジストの高感度化
3.4.4 メタルレジスト材料の性能評価
3.4.5 セラミックスレジストの性能評価
3.5 次世代EUVリソグラフィ（High-NA、Hyper NA, EUV-FEL、Beyond EUV）の技術動向と今後の展望
４．ブロック共重合体を用いた自己組織化リソグラフィ技術の基礎と動向
4.1 ブロック共重合体の基礎
4.2 電子線誘起反応によるブロック共重合体のラメラ配向制御
4.3 新規ブロック共重合体の合成と評価
５．ナノインプリントリソグラフィ技術の現状と動向
5.1 ナノインプリントリソグラフィ技術の基礎
5.2 ナノインプリントリソグラフィ技術の現状と動向
６．おわりに
□ 質疑応答 □
１.1 リソグラフィ技術の変遷
１.2 EUVリソグラフィの現状と課題
１.3 EUVリソグラフィレジスト評価システム
１.4 次世代リソグラフィ技術の動向
２．EBリソグラフィ技術の基礎とレジスト材料の開発例
2.1 電子ビームリソグラフィの位置づけ
2.2 電子ビームの散乱と阻止能
2.3 電子線レジスト
2.3.1 電子線レジストの種類
2.3.2 化学増幅型レジストの酸発生機構
2.3.3 ラインエッジラフネス（LER）の原因の解明
2.3.4 反応機構に基づいたEBリソグラフィ用単一成分化学増幅型レジスト
３．EUVリソグラフィ技術の基礎とレジスト材料の開発例
3.1 EUVリソグラフィの基礎
3.2 EUVリソグラフィの現状と課題
3.3 EUVレジスト
3.3.1 EUVレジストの種類
3.3.2 EUVリソグラフィ用レジスト材料の要求特性
3.3.3 EUV化学増幅型レジストの反応機構とEBレジスト設計指針との違い
3.3.4 EUV化学増幅型レジストの問題点
3.4 EUVメタルレジスト開発
3.4.1 EUVリソグラフィ用メタルレジストの概要
3.4.2 放射線による金属ナノ粒子の形成メカニズムに基づいた有機無機ハイブリッドパターン形成
3.4.3 メタル化合物の添加によるEUVレジストの高感度化
3.4.4 メタルレジスト材料の性能評価
3.4.5 セラミックスレジストの性能評価
3.5 次世代EUVリソグラフィ（High-NA、Hyper NA, EUV-FEL、Beyond EUV）の技術動向と今後の展望
４．ブロック共重合体を用いた自己組織化リソグラフィ技術の基礎と動向
4.1 ブロック共重合体の基礎
4.2 電子線誘起反応によるブロック共重合体のラメラ配向制御
4.3 新規ブロック共重合体の合成と評価
５．ナノインプリントリソグラフィ技術の現状と動向
5.1 ナノインプリントリソグラフィ技術の基礎
5.2 ナノインプリントリソグラフィ技術の現状と動向
６．おわりに
□ 質疑応答 □
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開催日
03月26日
二次元物質の基礎と半導体デバイスへの応用と展開
受講可能な形式：【ライブ配信(見逃し配信付)】のみ
【 2 名 同 時 申 込 で 1 名 無 料 】 対 象 セ ミ ナ ー
エレクトロニクス | 化学・材料
セミナー
番号 B260367
開催日
03月27日
04月10日
蒸着法による機能性有機分子の薄膜化技術
受講可能な形式：【ライブ配信(見逃し配信付)】or【アーカイブ配信】のみ
【 2 名 同 時 申 込 で 1 名 無 料 】 対 象 セ ミ ナ ー
エレクトロニクス | 化学・材料
セミナー
番号 B260327
開催日
03月27日
03月27日
＜半導体クリーン化・歩留向上技術＞半導体製造ラインの汚染の実態と歩留向上のためのシリコンウェーハ表面汚染防止技術の基礎から最新動向まで
受講可能な形式：【会場受講】or【Live配信】のみ
【 2 名 同 時 申 込 で 1 名 無 料 】 対 象 セ ミ ナ ー
エレクトロニクス | 化学・材料
セミナー
番号 S260399
開催日
03月27日
03月27日
04月17日
04月17日
半導体製造におけるシリコンウェーハ表面のクリーン化・歩留向上技術および洗浄・乾燥技術：基礎から最新動向まで2か月連続セミナー
受講可能な形式：【会場受講】or【Live配信】のみ
【 2 名 同 時 申 込 で 1 名 無 料 】 対 象 セ ミ ナ ー
エレクトロニクス | 化学・材料
セミナー
番号 Z260380
開催日
03月30日
セミナー
番号 O260214
開催日
03月30日
【オンデマンド配信】セラミックグリーンシート成形技術の総合知識
【 2 名 同 時 申 込 で 1 名 無 料 】 対 象 セ ミ ナ ー
エレクトロニクス | 化学・材料
セミナー
番号 B260340
開催日
03月30日
光電融合集積回路の基礎と開発動向：異種材料集積技術を利用したメンブレン・ハイブリッド光集積回路を中心に
受講可能な形式：【ライブ配信(見逃し配信付)】のみ
【 2 名 同 時 申 込 で 1 名 無 料 】 対 象 セ ミ ナ ー
エレクトロニクス | 化学・材料
セミナー
番号 O260378
開催日
03月30日
【オンデマンド配信】ガスバリア技術の基礎と活用動向およびウェットプロセスによるウルトラ・ハイバリア技術
【オンデマンド配信】※会社・自宅にいながら学習可能です※
【 2 名 同 時 申 込 で 1 名 無 料 】 対 象 セ ミ ナ ー
エレクトロニクス | 化学・材料
セミナー
番号 B260371
開催日
03月31日
04月14日
セミナー
番号 B260440
開催日
04月10日
先端半導体プロセス・チップレットにおける注目技術と特許動向および知財戦略の要点
受講可能な形式：【ライブ配信(アーカイブ配信付)】のみ
【 2 名 同 時 申 込 で 1 名 無 料 】 対 象 セ ミ ナ ー
エレクトロニクス | 化学・材料
セミナー
番号 B260450
開催日
04月10日
チップレット集積・インターポーザの要素技術と最新開発動向
受講可能な形式：【ライブ配信（見逃し配信付）】のみ
【 2 名 同 時 申 込 で 1 名 無 料 】 対 象 セ ミ ナ ー
エレクトロニクス | 化学・材料
セミナー
番号 A260465
開催日
04月15日
計算化学からみた エッチングガスの電子物性と解離 ─ 特にイオン及びラジカル生成 ─
受講可能な形式：【ライブ配信】のみ
【 2 名 同 時 申 込 で 1 名 無 料 】 対 象 セ ミ ナ ー
エレクトロニクス | 化学・材料
セミナー
番号 B260415
開催日
04月15日
光電コパッケージ(CPO)の技術動向とシリコンフォトニクス内蔵基板による実装革新 NEW
受講可能な形式：【ライブ配信(見逃し配信付)】のみ
【 2 名 同 時 申 込 で 1 名 無 料 】 対 象 セ ミ ナ ー
エレクトロニクス
セミナー
番号 A260415
開催日
04月15日
セミナー
番号 B260437
開催日
04月17日
04月17日
＜半導体洗浄・乾燥技術＞半導体製造におけるシリコンウェーハの精密洗浄・乾燥および汚染除去技術の基礎から最新動向まで
受講可能な形式：【会場受講】or【Live配信】のみ
【 2 名 同 時 申 込 で 1 名 無 料 】 対 象 セ ミ ナ ー
エレクトロニクス | 化学・材料
セミナー
番号 B260467
開催日
04月17日
セミナー
番号 A260437
開催日
04月17日
セミナー
番号 A260421
開催日
04月21日
～進化と変化に対応するための半導体キャッチアップ講座～半導体の技術進化と産業構造変化および今後の展望
受講可能な形式：【ライブ配信(見逃し配信付)】のみ
【 2 名 同 時 申 込 で 1 名 無 料 】 対 象 セ ミ ナ ー
エレクトロニクス | 化学・材料
セミナー
番号 B260421
開催日
04月21日
05月18日
スパッタリング法の総合知識と薄膜の特性制御・改善、品質トラブルへの対策
受講可能な形式：【ライブ配信】or【アーカイブ配信】のみ
【 2 名 同 時 申 込 で 1 名 無 料 】 対 象 セ ミ ナ ー
エレクトロニクス | 化学・材料
セミナー
番号 B260452
開催日
04月22日
ナノインプリントの基礎から材料・プロセス・装置技術および最新応用事例まで
受講可能な形式：【ライブ配信(見逃し配信付)】のみ
【 2 名 同 時 申 込 で 1 名 無 料 】 対 象 セ ミ ナ ー
エレクトロニクス | 化学・材料
セミナー
番号 B260432
開催日
04月22日
セミナー
番号 B260422
開催日
04月22日
05月12日
電気・電子機器の信頼性と安全性、発火防止における原理・原則と具体策
受講可能な形式：【ライブ配信】or【アーカイブ配信】のみ
【 2 名 同 時 申 込 で 1 名 無 料 】 対 象 セ ミ ナ ー
エレクトロニクス
セミナー
番号 O260336
開催日
04月24日
【オンデマンド配信】半導体関連企業の羅針盤シリーズ【2025年12月版】
【オンデマンド配信】※会社・自宅にいながら学習可能です※
【 2 名 同 時 申 込 で 1 名 無 料 】 対 象 セ ミ ナ ー
エレクトロニクス | 化学・材料
セミナー
番号 A260434
開催日
04月24日
05月15日
イチからわかる、半導体製造装置の基礎・トレンドと今後の展望（2026年春版） NEW
受講可能な形式：【Live配信】or【アーカイブ配信】のみ
【 2 名 同 時 申 込 で 1 名 無 料 】 対 象 セ ミ ナ ー
エレクトロニクス | 化学・材料
セミナー
番号 A260428
開催日
04月28日
＜なぜ今、めっきが半導体・電子デバイスに重要なのか？＞よくわかる！めっき技術／新めっき技術と半導体・エレクトロニクスデバイスへの応用・最新動向
受講可能な形式：【ライブ配信】のみ
【 2 名 同 時 申 込 で 1 名 無 料 】 対 象 セ ミ ナ ー
エレクトロニクス | 化学・材料
セミナー
番号 B260514
開催日
05月14日
チップレット・光電融合時代を支える半導体パッケージ基板の設計と実装技術
受講可能な形式：【ライブ配信(見逃し配信付)】のみ
【 2 名 同 時 申 込 で 1 名 無 料 】 対 象 セ ミ ナ ー
エレクトロニクス | 化学・材料
セミナー
番号 B260570
開催日
05月20日
06月04日
5G/6G・V2X・AI時代に求められる電波吸収体・電波シールドの設計と特性評価
受講可能な形式：【ライブ配信(アーカイブ配信付)】or【アーカイブ配信】のみ
【 2 名 同 時 申 込 で 1 名 無 料 】 対 象 セ ミ ナ ー
エレクトロニクス | 化学・材料
セミナー
番号 O260332
開催日
05月22日
【オンデマンド配信】特許情報からみた次世代フォトニクスネットワーク実現への道光電融合材料・技術［2025］
【 2 名 同 時 申 込 で 1 名 無 料 】 対 象 セ ミ ナ ー
エレクトロニクス | 化学・材料
セミナー
番号 A260528
開催日
05月28日
セミナー
番号 B260729
開催日
07月29日
＜実践的で詳細に学ぶ＞シリコンフォトニクスの基礎と応用
受講可能な形式：【ライブ配信】のみ
【 2 名 同 時 申 込 で 1 名 無 料 】 対 象 セ ミ ナ ー
エレクトロニクス | 化学・材料
書籍
番号 M090
発刊
2024年06月
次世代ウェアラブルデバイスに向けたフレキシブル・伸縮性エレクトロニクス技術とセンサ開発
～生体データを連続的・高精度に違和感なくセンシングするために～
～皮膚/生体貼付型・衣服型など未来のウェアラブルセンサに向けて～
エレクトロニクス | 化学・材料
書籍
番号 M085
発刊
2023年07月
書籍
番号 M084
発刊
2023年04月
書籍
番号 M080
発刊
2023年02月
光半導体とそのパッケージング・封止技術
～LED,レーザ,フォトダイオード,光ICなど、光半導体の種類・原理・用途から
封止・材料技術、ディスプレイや高速通信など先端応用に関わる開発課題まで～
化学・材料 | エネルギー・環境・機械
書籍
番号 M069
発刊
2021年03月
小型化・集密化する電子デバイスを支える熱輸送・冷却技術の進化と新展開
・小型化/高機能化する電子デバイスに求められるサーマルマネジメント技術の進化
・ヒートパイプの/ 極薄化 / 自励振動型 / ループ型、 並列細管熱輸送デバイスの開発動向
・沸騰冷却 / 磁性流体 / 電気流体力学（EHD） 現象を利用した、熱輸送デバイスの開発
・新しい熱輸送現象として注目される「表面フォノンポラリトン」の原理と応用展開
・5G 対応スマートフォンおよびミニ基地局の放熱対策部品の事例を製品分解をもとに解説
エレクトロニクス | 化学・材料 | エネルギー・環境・機械
書籍
番号 M061
発刊
2020年08月
環境発電・エネルギーハーベスティング技術―デバイス開発と応用展開―
～各種発電技術の仕組み・特徴、市場動向、先進的なデバイス・応用開発事例まで～
エレクトロニクス | 化学・材料 | エネルギー・環境・機械
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