【オンデマンド配信】
高感度化フォトレジスト材料の
合成・設計・開発技術
~分子設計・合成方法と最新型EUV用レジスト材料の研究動向~
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メタルレジスト、化学増幅型レジスト、非化学増幅型レジスト材料、、、、
EUV露光システムの能力を十分に引き出せるレジスト材料の合成・設計・開発
高分子・低分子化合物のレジスト材料に関する基礎や評価方法を解説
日時 | 2025年6月27日(金) 23:59まで申込み受付 ※映像時間:4時間24分 |
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収録日時 | 2024年12月17日 | |||
受講料(税込)
各種割引特典
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55,000円
( E-Mail案内登録価格 52,250円 )
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定価:本体50,000円+税5,000円
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1名申込みの場合:受講料 44,000円(E-Mail案内登録価格 42,020円 ) 定価:本体40,000円+税4,000円 E-Mail案内登録価格:本体38,200円+税3,820円 ※1名様でオンライン配信セミナーを受講する場合、上記特別価格になります。 ※お申込みフォームで【テレワーク応援キャンペーン】を選択のうえお申込みください。 ※他の割引は併用できません。
3名以上のお申込みで1名あたり:受講料 24,200円 本体22,000円+税2,200円(1名あたり) ※受講者全員のE-Mail案内登録が必須です。 ※お申込みフォームで【半導体産業応援キャンペーン】を選択のうえお申込みください。 ※本ページからのお申込みに限り適用いたします。他の割引は併用できません。
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配布資料 | 製本資料 ※資料のあらゆる二次的な利用は固く禁じます。 講師メールアドレスの掲載:有(セミナーに関する質問に限りメールで質問が可能です) ※ご質問の内容や時期によっては、ご回答できない場合がございますのでご了承下さい。 | |||
オンライン配信 | オンデマンド配信 ►受講方法・視聴環境確認 (申込み前に必ずご確認ください) | |||
備考 | ※録音・撮影、複製は固くお断りいたします。 ※講師の所属などは、収録当時のものをご案内しております | |||
得られる知識 | レジスト材料の合成方法、評価方法、開発方法 | |||
対象 | レジスト材料の開発に関する研究にご興味がある方 | |||
キーワード:レジスト材料、化学増幅型レジスト、非化学増幅型レジスト、EUV用レジスト材料、高感度化レジスト材料 |
セミナー講師
【講師紹介】
セミナー趣旨
本テーマでは、これまで開発されてきたレジスト材料の基本的な構造を紹介しながら、レジスト材料の合成方法について、基本的な合成方法から最新の合成例について解説する。さらに、分子レジストや化学増幅型レジストの原理や合成方法について解説し、EUV用レジスト材料の研究開発例を紹介し、それらの問題点、および今後の分子設計方法について解説する。
セミナー講演内容
1.1 原理
1.2 合成例
1.3 最新の化学増幅型
2.ポジ型レジスト材料
2.1 材料的な特性
2.2 主な応用・用途
3.ネガ型レジスト材料
3.1 材料的な特性
3.2 主な応用・用途
4.高分子レジスト材料と低分子レジスト
4.1 材料的な特性
4.2 主な応用・用途
5.EUV用レジスト材料の評価方法と開発方法の実例
5.1 レジスト材料の評価項目,評価手法について
5.2 レジスト材料の評価方法と開発例
6.最新型EUV用レジスト材料
6.1 メタルレジスト
6.2 化学増幅型レジストと非化学増幅型レジスト材料
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