A261211:ナノインプリントリソグラフィ(NIL)の基礎と応用技術動向 | 技術セミナーの開催・書籍出版　サイエンス＆テクノロジー＜Ｓ＆Ｔ＞

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セミナーセミナー番号:A261211(ナノインプリント)

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【 2 名同時申込で 1 名無料】対象セミナー早期申込割引価格対象セミナー【1名受講限定】

ナノインプリントリソグラフィの基礎と応用技術動向

ナノインプリントリソグラフィ（Nanoimprint Lithography: NIL）の基礎と実用例を解説

受講可能な形式：【会場受講】

　本セミナーでは、NILの基礎と要素技術を紹介した後、実用例等を解説する。また、ロールトゥロール（RTR）NILについても説明し、反射防止構造フィルムの製造例などについても言及する。さらに、最新のメタレンズやAR/VRグラスへの応用についても紹介する。

日時

2026年12月11日（金） 13:00～16:30

会場

東京・品川区大井町きゅりあん 4階第1特別講習室

会場地図

受講料(税込)

各種割引特典

49,500円 ( E-Mail案内登録価格 46,970円 ) S&T会員登録とE-Mail案内登録特典について

定価：本体45,000円＋税4,500円

E-Mail案内登録価格：本体42,700円＋税4,270円

E-Mail案内登録なら、2名同時申込みで1名分無料 1名分無料適用条件

2名で49,500円 (2名ともE-Mail案内登録必須／１名あたり定価半額24,750円)

1名でのお申込みには、お申込みタイミングによって割引価格がございます

早期申込割引価格対象セミナー【オンライン配信セミナー1名受講限定】

10月31日までの1名申込み：受講料 31,900円(E-mail案内登録価格 31,900円)
　定価／E-mail案内登録価格ともに：本体29,000円＋税2,900円
　　※１名様で開催月の2ヵ月前の月末までにお申込みの場合、上記特別価格になります。
　　※本ページからのお申込みに限り適用いたします。※他の割引は併用できません。

配布資料

製本テキスト(会場にて直接お渡しします)

備考

※講義の録画・録音・撮影はご遠慮ください。
※開催日の概ね1週間前を目安に、最少催行人数に達していない場合、セミナーを中止することがございます。

得られる知識

・ナノインプリントリソグラフィ（NIL）の基礎
・NILにおける金型作製技術、転写樹脂選定、応用事例
・ロールトゥロール（RTR）NILによる転写例
・反射防止構造フィルムの量産例とその応用
・新技術動向、メタレンズ、AR/VRグラス等

セミナーリクエスト

セミナー講師

東京理科大学先進工学部電子システム工学科・教授　谷口淳氏
【その他活動等】
　応用物理学会ナノインプリント技術研究会運営委員長

セミナー趣旨

　ナノインプリントリソグラフィ（Nanoimprint Lithography: NIL）は、ナノオーダーの金型転写技術であり、簡単な原理でナノパターンが得られる利点がある。NILは、1995年にプリンストン大学のChou先生が提唱してから30年以上たち、製品化も進んでいる。
　本講演では、NILの基礎と要素技術を紹介した後、実用例等を紹介することで、新製品等のヒントが得られると考えている。また、ロールトゥロール（RTR）NILの説明も行い、反射防止構造フィルムの製造例なども紹介する。こちらもフィルムベースの新製品等のヒントが得られると考えている。さらに、最新のメタレンズやAR/VRグラスへの応用についても紹介する。

セミナー講演内容

１．はじめに
　1.1 ナノインプリントリソグラフィの歴史
　1.2 ナノインプリントリソグラフィの現状

２．ナノインプリントの基礎
　2.1 ナノインプリントの要素技術（金型、樹脂、装置等）
　2.2 ナノインプリントの各種方式
　2.3 ナノインプリントの位置づけ

３．ナノインプリントの応用技術
　3.1 ナノトランスファープロセス
　3.2 金属パターン転写

４．ロールトゥロール (RTR) ナノインプリント
　4.1 RTR NILの基礎
　4.2 反射防止構造（モスアイ構造）
　4.3 モスアイ構造の作製方法
　4.4 モスアイ構造の転写方法
　4.5 モスアイ構造の応用例

５．将来展望
　5.1 メタレンズ
　5.2 AR/MR グラス

6．まとめ

□ 質疑応答 □

セミナーリクエスト

セミナーセミナー番号:A261211(ナノインプリント)

ナノインプリントリソグラフィの基礎と応用技術動向

受講可能な形式：【会場受講】

1名分無料適用条件

セミナー講師

セミナー趣旨

セミナー講演内容

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