薄膜作製の基礎と薄膜評価・トラブル対策
スパッタ法、真空蒸着法、CVD法の原理やそれぞれの膜の特徴、作製した薄膜の評価方法 等など…
狙った特性を有する薄膜を得るための薄膜作製プロセス設計の基礎的かつ系統的な知識を解説
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| 日時 | 2026年11月18日(水) 10:30~16:30 |
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受講料(税込)
各種割引特典
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55,000円
S&T会員登録とE-Mail案内登録特典について
定価:本体50,000円+税5,000円
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1名でのお申込みには、お申込みタイミングによって以下の2つ割引価格がございます
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| 特典 | ■ライブ配信受講に加えて、見逃し配信(アーカイブ)でも1週間視聴できます■ 【見逃し配信の視聴期間(予定)】2026年11月19日(木)~11月26日(木)まで ※このセミナーは見逃し配信付です。セミナー終了後も繰り返しの視聴学習が可能です。 【見逃し配信(アーカイブ)について 【ライブ配信受講を欠席し、見逃し配信視聴のみの受講も可能です。】 ※視聴期間は終了翌日から7日間を予定しています。また録画データは原則として編集は行いません。 ※マイページからZoomの録画視聴用リンクにてご視聴いただきます。 | ||
| 配布資料 | ・PDFテキスト(印刷不可・複製不可) ※開催2日前からを目安に、S&T会員のマイページよりダウンロード可となります。 | ||
| オンライン配信 | Zoomによるライブ配信 ►受講方法・接続確認(申込み前に必ずご確認ください) | ||
| 備考 | ※講義の録画・録音・撮影はご遠慮ください。 ※開催日の概ね1週間前を目安に、最少催行人数に達していない場合、セミナーを中止することがございます。 | ||
| 得られる知識 | ・現場で必要とされる薄膜技術の基礎知識を習得できる ・薄膜技術で必要とされる真空工学,表面物性工学の知識を習得できる ・薄膜の形成過程,薄膜の諸特性、薄膜とバルクとの違いについての知識が得られる ・真空蒸着法,スパッタ法,CVD法の特徴、類似点、違い、得られる薄膜の特徴が理解できる ・必要な特性を有する薄膜を得るために必要なプロセス設計を行えるようになる ・トラブル発生時、その解決に向けた指針を立てることができるようになる | ||
| 対象 | ・薄膜作製に関連する研究・開発・製造業務に新規に従事する方,従事して2~3年程度の方 ・薄膜作製に関してある程度の実務経験はあるが,自分の知識を系統的に整理したい方 ・高等学校程度の物理,化学および数学の知識をお持ちの方 | ||
セミナー講師
[略歴]
1996〜2000 アネルバ株式会社(現 キヤノンアネルバ株式会社) 半導体装置事業部 技術担当
2000〜2007 三重大学 大学院工学研究科 電気電子工学専攻 助手
2002〜2003 米国ノースカロライナ大学チャペルヒル校 客員研究員
2007〜2022 三重大学 大学院工学研究科 電気電子工学専攻 准教授
2023〜現在 同 教授
セミナー趣旨
本講座では 、薄膜技術に携わる初級〜中級の技術者の方々を対象に 、薄膜技術に関する基礎的かつ系統的な知識を習得し 、実際の業務に生かして頂くことを目標とします。
セミナー講演内容
1.1 真空工学
1.2 表面物性工学
1.3 プラズマ工学
2.物理気相成長(PVD)法
2.1 真空蒸着法
a.原理
b.真空蒸着法の種類
c.真空蒸着法の留意事項
2.2 スパッタ法
a.原理
b.スパッタ法の種類
c.スパッタ法で作製される薄膜の特徴
d.スパッタ法の留意事項
3.化学気相成長(CVD)法
3.1 原理
3.2 化学気相成長法の種類
3.3 化学気相成長法で作製される薄膜の特徴
3.4 化学気相成長法の留意事項
4.薄膜評価法
4.1 形態観察
4.2 膜組成、膜構造分析
4.3 付着力、膜応力測定
4.4 電気的特性、光学的特性測定
5.薄膜作製プロセスで遭遇するさまざまなトラブルと解決策
5.1 膜質に関するトラブル
5.2 装置に関するトラブル
□ 質疑応答 □
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