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半導体製造プロセスにおける
フィルタ技術の基礎と選定・活用

分離・除去メカニズムから、プロセス条件に応じたフィルタ選定、歩留まり改善の考え方、
金属除去フィルタ、先端半導体におけるフィルタ技術動向までを体系的に解説

受講可能な形式:【ライブ配信(見逃し配信付)】のみ
半導体製造では、薬液中のパーティクルや金属不純物といった汚染物質の適切な管理が、製品品質や歩留まりの向上に重要です。
半導体薬液中の汚染物質の影響と汚染管理の基本的な考え方から、フィルタの種類・基礎原理、ろ過膜の特性と評価方法、半導体製造プロセスにおけるフィルタの活用、要求性能、プロセス条件に応じたフィルタ選定のポイント、金属除去フィルタの除去メカニズムと性能評価、先端半導体におけるフィルタ技術動向まで、半導体製造用フィルタメーカーの講師が実務的な観点から解説します。
日時 2026年10月22日(木)  13:00~16:30
受講料(税込)
各種割引特典
定価:本体45,000円+税4,500円
E-Mail案内登録なら、2名同時申込みで1名分無料 1名分無料適用条件
2名で49,500円 (2名ともE-mail案内登録必須​/1名あたり定価半額24,750円)
【半導体産業応援キャンペーン対象セミナー】3名以上のお申込みでさらにおトク
 3名以上のお申込みで1名あたり:受講料 22,000円
 本体20,000円+税2,000円(1名あたり)
 ※受講者全員のE-Mail案内登録が必須です。
 ※お申込みフォームで【半導体産業応援キャンペーン】を選択のうえお申込みください。
 ※本ページからのお申込みに限り適用いたします。他の割引は併用できません。
 
テレワーク応援キャンペーン(1名受講)【オンライン配信セミナー受講限定】
1名申込みの場合: 受講料 39,600円(E-Mail案内登録価格 37,840円)
 定価:本体36,000円+税3,600円
 E-Mail案内登録価格:本体34,400円+税3,440円
  ※1名様でオンライン配信セミナーを受講する場合、上記特別価格になります。
  ※お申込みフォームで【テレワーク応援キャンペーン】を選択のうえお申込みください。
  ※他の割引は併用できません。
 
 ■■■受講人数ごとのお申込み例■■■
 1名で受講の場合:37,840円(税込) ※テレワーク応援キャンペーン/E-mail案内登録の場合
 2名で受講の場合:49,500円(税込) ※2名同時申込みで1名分無料:1名あたり24,750円(税込)
 3名で受講の場合:66,000円(税込) ※半導体産業応援キャンペーン:1名あたり22,000円(税込)
 4名で受講の場合:88,000円(税込) ※半導体産業応援キャンペーン:1名あたり22,000円(税込)
 5名で受講の場合:110,000円(税込) ※半導体産業応援キャンペーン:1名あたり22,000円(税込)
特典■ライブ受講に加えて、見逃し配信でも1週間視聴できます■
【見逃し配信の視聴期間】2026年10月23日(金)~10月29日(木)まで
※このセミナーは見逃し配信付きです。セミナー終了後も繰り返しの視聴学習が可能です。
※ライブ配信を欠席し見逃し視聴のみの受講も可能です。
※動画は未編集のものになります。
※視聴ページは、開催翌営業日の午前中には、マイページにリンクを設定する予定です。
配布資料PDFテキスト(印刷可・編集不可)
※開催2日前を目安に、弊社HPのマイページよりダウンロード可となります。
オンライン配信Zoomによるライブ配信 ►受講方法・接続確認申込み前に必ずご確認ください
備考※講義中の録音・撮影はご遠慮ください。
※開催日の概ね1週間前を目安に、最少催行人数に達していない場合、セミナーを中止することがございます。
得られる知識本講演を通じて、半導体製造工程における汚染管理の基本的な考え方と、各種フィルタの分離・除去メカニズムを理解できます。また、プロセス条件に応じたフィルタ選定のポイントや、ろ過性能・寿命・歩留まり改善に関する実践的な知識を習得できます。
対象半導体製造に携わる技術者、研究開発者、品質管理担当者を対象とします。半導体製造工程で使用されるフィルタの基礎知識から選定・評価・活用方法までを学びたい方におすすめの内容です。

セミナー講師

日本インテグリス合同会社 Lead Application Engineer 三浦 こずえ 氏
専門:応用化学

セミナー趣旨

 半導体デバイスの微細化・高性能化に伴い、製造プロセスにおける汚染管理の重要性はますます高まっています。フィルタは、パーティクル、金属、有機物などの不純物を除去し、製品品質や歩留まり向上に重要な役割を果たしています。
 本講演では、フィルタの基礎原理から用途別の活用方法、不純物除去メカニズム、選定・評価の考え方までを体系的に解説します。

セミナー講演内容

1.半導体薬液中の不純物
 1.1 汚染物質の種類
 1.2 汚染物質の由来
 1.3 汚染物質の及ぼす影響
 
2.フィルタの基礎
 2.1 ろ過膜の定義と種類
 2.2 フィルタの種類と構成
 2.3 粒子捕捉メカニズム
 2.4 ろ過膜の特性と評価方法
 2.5 膜材質と濡れ性
 2.6 親水化処理
 2.7 目詰まりとフィルタ寿命
 
3.半導体プロセスにおけるフィルタ用途と選定のポイント
 3.1 フォトリソグラフィ工程におけるフィルタ用途
 3.2 高純度薬液におけるフィルタ用途
 3.3 フィルタに求められる性能
 3.4 プロセス条件に応じたフィルタ選定のポイント
 3.5 フィルタ適用事例
 3.6 先端半導体におけるフィルタ技術動向
 
4.金属除去フィルタ
 4.1 金属除去フィルタとは?
 4.2 金属除去メカニズム
 4.3 金属除去フィルタの性能評価方法
 4.4 有機溶剤中の金属除去について

 □質疑応答□