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May 8, 2017
三次元集積化プロセスの基礎と
先進半導体パッケージの最新動向
先進パッケージ開発の経緯を整理
三次元集積化プロセス、Fan-Out型パッケージの基礎を再訪
今後の開発動向と市場動向も解説
受講可能な形式：【ライブ配信】or【アーカイブ配信】の選択受講
【半導体産業応援キャンペーン対象セミナー】3名以上のお申込みでさらにおトク
本セミナーは、三次元集積化プロセスやFan-Out型モールドパッケージの基礎を再整理し、今後の先進半導体パッケージの動向を俯瞰する“中間領域の視座”を参加者の皆様と共有したいと考えています。
| 日時 | 【ライブ配信】 2026年10月8日（木） 10:30～16:30 |
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|---|---|---|---|---|
| 【アーカイブ配信】 2026年10月29日（木） まで受付(視聴期間：10/29～11/12） |
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受講料(税込)
各種割引特典
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55,000円
( E-Mail案内登録価格 52,250円 )
S&T会員登録とE-Mail案内登録特典について
定価：本体50,000円＋税5,000円
E-Mail案内登録価格：本体47,500円＋税4,750円
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E-Mail案内登録なら、2名同時申込みで1名分無料
1名分無料適用条件
2名で55,000円 (2名ともE-Mail案内登録必須／１名あたり定価半額の27,500円)
定価：本体40,000円＋税4,000円 E-Mail案内登録価格：本体38,200円＋税3,820円 ※１名様でオンライン配信セミナーを受講する場合、上記特別価格になります。 ※お申込みフォームで【テレワーク応援キャンペーン】を選択のうえお申込みください。 ※他の割引は併用できません。
本体22,000円＋税2,200円(1名あたり) ※受講者全員のE-Mail案内登録が必須です。 ※お申込みフォームで【半導体産業応援キャンペーン】を選択のうえお申込みください。 ※本ページからのお申込みに限り適用いたします。他の割引は併用できません。
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| 配布資料 | ・PDFテキスト(印刷不可・編集不可) ※開催2日前を目安に、S＆T会員のマイページよりダウンロード可となります。 ※アーカイブ配信受講の場合は配信開始日からダウンロード可となります。 | |||
| オンライン配信 | 本セミナーはライブ配信 or アーカイブ配信の選択受講となります。 Zoomによるライブ配信 ►受講方法・接続確認（申込み前に必ずご確認ください） アーカイブ配信 ►受講方法・視聴環境確認（申込み前に必ずご確認ください）
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| 備考 | ※講義の録画・録音・撮影はご遠慮ください。 ※開催日の概ね1週間前を目安に、最少催行人数に達していない場合、セミナーを中止することがございます。 | |||
| 得られる知識 | ・半導体デバイスパッケージの役割の変化の推移 ・三次元集積化の基幹プロセスの基礎と現状の課題 ・配線階層の境界領域を横断する視座 ・今さら聞けないWLPプロセス構築の留意点 | |||
| 対象 | ・最近の先進パッケージの動向に関心のある装置、材料メーカー関連企業の方 ・半導体パッケージに関心のある若手から中堅のプロセス技術者 ・半導体パッケージ関連市場へ新規参入をお考えの装置、材料関連企業の方 | |||
セミナー講師
神奈川工科大学 工学部 電気電子情報工学科・非常勤講師 江澤 弘和 氏
[プロフィール]
1985年(株)東芝入社。Siウエーハの高品質化業務を経て、CMOSデバイスのメタライゼーションプロセス開発を中心に、メモリ、ロジックの微細化、量産技術、歩留り向上、品質事故対策、協業企業への技術移管、企業間共同開発に従事。2000年以降、ロジックデバイスのLow-k CPI低減開発と並行して、Micro-Bump、RDL、TSV､FOWLPを中心に“中間領域技術”の開拓を主導。微細化だけでは得られない半導体製品の付加価値創出を推進。2017年東芝メモリ(株)(現キオクシア)へ転籍。2018年から神奈川工科大学非常勤講師を兼務。2019年定年退職。2020年から伴走コンサルティング事業（ezCoworks）を運営。
[プロフィール]
1985年(株)東芝入社。Siウエーハの高品質化業務を経て、CMOSデバイスのメタライゼーションプロセス開発を中心に、メモリ、ロジックの微細化、量産技術、歩留り向上、品質事故対策、協業企業への技術移管、企業間共同開発に従事。2000年以降、ロジックデバイスのLow-k CPI低減開発と並行して、Micro-Bump、RDL、TSV､FOWLPを中心に“中間領域技術”の開拓を主導。微細化だけでは得られない半導体製品の付加価値創出を推進。2017年東芝メモリ(株)(現キオクシア)へ転籍。2018年から神奈川工科大学非常勤講師を兼務。2019年定年退職。2020年から伴走コンサルティング事業（ezCoworks）を運営。
セミナー趣旨
最近のAgentic AIの進展により、GPUが推論、CPUが計画・実行を担う新たな役割分担が生まれ、CPU 側の処理負荷が再び高まっています。 GPU–CPU間の往復処理が増える中で、一定の低Latencyを許容すれば、中間データの大量保持に適したNANDフラッシュメモリの需要がAI分野で掘り起こされつつあります。 GPUのHBM(High Bandwidth Memory)依存は変わらず、CPU側でもHBM利用が拡大しつつあり、将来的には Humanoid Roboticsを含むPhysical AIにおいてもHBM搭載が不可欠となれば、メモリの供給がAI市場を支配する構図は長期化する可能性が高くなります。
最近のパッケージ関連の主要カンファレンスではデータセンターの電力消費抑制が重要課題となり、Co-Packaged Opticsや冷却構造などパッケージレベルの課題が集中的に議論される場面が増えています。 また、先端、非先端デバイスのMix & MatchによるSoC(System-on-a-Chip)開発の効率化に活路を見出すチップレットインテグレーションは民生機器から車載、メディカル、社会インフラに至る多様な市場でイノベーション創出への寄与が期待されており、商流の早期確立が求められています。 こうした状況を踏まえ、本セミナーは三次元集積化プロセスやFan-Out型モールドパッケージの基礎を再整理し、今後の先進半導体パッケージの動向を俯瞰する“中間領域の視座”を参加者の皆様と共有したいと考えています。
最近のパッケージ関連の主要カンファレンスではデータセンターの電力消費抑制が重要課題となり、Co-Packaged Opticsや冷却構造などパッケージレベルの課題が集中的に議論される場面が増えています。 また、先端、非先端デバイスのMix & MatchによるSoC(System-on-a-Chip)開発の効率化に活路を見出すチップレットインテグレーションは民生機器から車載、メディカル、社会インフラに至る多様な市場でイノベーション創出への寄与が期待されており、商流の早期確立が求められています。 こうした状況を踏まえ、本セミナーは三次元集積化プロセスやFan-Out型モールドパッケージの基礎を再整理し、今後の先進半導体パッケージの動向を俯瞰する“中間領域の視座”を参加者の皆様と共有したいと考えています。
セミナー講演内容
１．半導体市場概況
1.1 Current Topics（注目記事から）
1.2 最近の先進半導体デバイスパッケージ
２．中間領域技術の進展による価値創出
2.1 “後工程”プロセスの高品位化
2.2 デバイスレベル性能向上とシステムレベル性能向上
2.3 チップ冷却システム事例
３．三次元集積化プロセスの基礎
3.1 ロジックとメモリのチップ積層SoC (RDL、Micro-bumping、Mass reflow積層導入の原点)
3.2 Via middle、Backside ViaのTSVプロセス選択（CIS、HBMからBSPDNへ)
3.3 Wafer Level Hybrid Bonding (CIS、NANDメモリのデバイス性能向上)
3.4 CoW(D2W) Hybrid Bonding（SRAM増強、異種チップ積層）の課題
3.5 Si/OrganicインタポーザーからSiブリッジによるモールドインタポーザへ（レティクルサイズ制約の解放）
3.6 RDL微細化、多層化（ダマシンプロセス導入の要否）
４．Fan-Out(FO)型パッケージの基礎
4.1 FOプロセス選択肢の拡張
4.2 封止材料起因の課題
4.3 Through Mold Interconnect形成による三次元FOパッケージ
4.4 メモリ、パワーデバイスへ浸透するFOパッケージ
５．Panel Level Process/Package (PLP)の高品位化
5.1 モールド樹脂基板の反り低減の課題
5.2 マスクレス露光によるインテグレーション規模拡大
６．今後の開発動向と市場動向
6.1 “ガラス基板プロセス”の課題整理
6.2 Co-Packaged Opticsの課題とPIC変調素子材料の話題(TFLN、BTO他）
6.3 AI市場を支配するメモリの動向（LPW、HBF、HBS）
□ 質疑応答 □
1.1 Current Topics（注目記事から）
1.2 最近の先進半導体デバイスパッケージ
２．中間領域技術の進展による価値創出
2.1 “後工程”プロセスの高品位化
2.2 デバイスレベル性能向上とシステムレベル性能向上
2.3 チップ冷却システム事例
３．三次元集積化プロセスの基礎
3.1 ロジックとメモリのチップ積層SoC (RDL、Micro-bumping、Mass reflow積層導入の原点)
3.2 Via middle、Backside ViaのTSVプロセス選択（CIS、HBMからBSPDNへ)
3.3 Wafer Level Hybrid Bonding (CIS、NANDメモリのデバイス性能向上)
3.4 CoW(D2W) Hybrid Bonding（SRAM増強、異種チップ積層）の課題
3.5 Si/OrganicインタポーザーからSiブリッジによるモールドインタポーザへ（レティクルサイズ制約の解放）
3.6 RDL微細化、多層化（ダマシンプロセス導入の要否）
４．Fan-Out(FO)型パッケージの基礎
4.1 FOプロセス選択肢の拡張
4.2 封止材料起因の課題
4.3 Through Mold Interconnect形成による三次元FOパッケージ
4.4 メモリ、パワーデバイスへ浸透するFOパッケージ
５．Panel Level Process/Package (PLP)の高品位化
5.1 モールド樹脂基板の反り低減の課題
5.2 マスクレス露光によるインテグレーション規模拡大
６．今後の開発動向と市場動向
6.1 “ガラス基板プロセス”の課題整理
6.2 Co-Packaged Opticsの課題とPIC変調素子材料の話題(TFLN、BTO他）
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開催日
08月28日
【オンデマンド配信】スパッタリング法の総合知識と薄膜の特性制御・改善、品質トラブルへの対策
【オンデマンド配信】※会社・自宅にいながら学習可能です※
【 2 名 同 時 申 込 で 1 名 無 料 】 対 象 セ ミ ナ ー
エレクトロニクス | 化学・材料
セミナー
番号 S260990
開催日
09月02日
09月09日
先端半導体デバイスの多層配線技術と2.5D/3Dデバイス集積化【2日間セミナー】
受講可能な形式：【ライブ配信】のみ
【 2 名 同 時 申 込 で 1 名 無 料 】 対 象 セ ミ ナ ー
エレクトロニクス | 化学・材料
セミナー
番号 B260902
開催日
09月02日
微細Cu配線・Low‑k材料・BS‑PDNに見る先端多層配線技術
受講可能な形式：【ライブ配信】のみ
【 2 名 同 時 申 込 で 1 名 無 料 】 対 象 セ ミ ナ ー
エレクトロニクス | 化学・材料
セミナー
番号 A260907
開催日
09月07日
セミナー
番号 B260909
開催日
09月09日
HBM・チップレット時代の3D積層技術と先進パッケージの最新動向
受講可能な形式：【ライブ配信】のみ
【 2 名 同 時 申 込 で 1 名 無 料 】 対 象 セ ミ ナ ー
エレクトロニクス | 化学・材料
セミナー
番号 A260910
開催日
09月10日
真空技術の基礎と正しい真空システムの設計＆活用法 NEW
受講可能な形式：【ライブ配信(見逃し配信付)】のみ
【 2 名 同 時 申 込 で 1 名 無 料 】 対 象 セ ミ ナ ー
エレクトロニクス
セミナー
番号 B260914
開催日
09月14日
次世代AIハードウェア（ニューロモルフィック、物理リザバー、インセンサコンピューティング）の最新動向とナノ材料AIデバイスの構築・実装・応用
受講可能な形式：【ライブ配信(見逃し配信付)】のみ
【 2 名 同 時 申 込 で 1 名 無 料 】 対 象 セ ミ ナ ー
エレクトロニクス | 化学・材料
セミナー
番号 B260955
開催日
09月15日
セミナー
番号 A260955
開催日
09月25日
半導体量子ビットの基礎と研究動向および技術課題と展望
受講可能な形式：【ライブ配信(見逃し配信付)】のみ
【 2 名 同 時 申 込 で 1 名 無 料 】 対 象 セ ミ ナ ー
エレクトロニクス | 化学・材料
セミナー
番号 O260736
開催日
09月25日
【オンデマンド配信】次世代半導体パッケージおよび実装技術動向と市場展望
【 2 名 同 時 申 込 で 1 名 無 料 】 対 象 セ ミ ナ ー
エレクトロニクス | 化学・材料
セミナー
番号 O260773
開催日
09月29日
【オンデマンド配信】AI半導体デバイス・サーバーにおける熱対策と冷却技術の最新動向 NEW
【オンデマンド配信】※会社・自宅にいながら学習可能です※
【 2 名 同 時 申 込 で 1 名 無 料 】 対 象 セ ミ ナ ー
エレクトロニクス | 化学・材料
セミナー
番号 O260733
開催日
09月29日
【オンデマンド配信】半導体関連企業の羅針盤シリーズ【2026年6月版】
【オンデマンド配信】※会社・自宅にいながら学習可能です※
【 2 名 同 時 申 込 で 1 名 無 料 】 対 象 セ ミ ナ ー
エレクトロニクス | 化学・材料
セミナー
番号 A261002
開催日
10月02日
ＡＬＤ（原子層堆積法）の基礎とプロセス最適化および最新技術動向
受講可能な形式：【会場受講】のみ
【 2 名 同 時 申 込 で 1 名 無 料 】 対 象 セ ミ ナ ー
エレクトロニクス | 化学・材料
セミナー
番号 B261008
開催日
10月08日
10月22日
クリーンルーム 清浄度維持の勘どころ
受講可能な形式：【ライブ配信】or【アーカイブ配信】のみ
【 2 名 同 時 申 込 で 1 名 無 料 】 対 象 セ ミ ナ ー
エレクトロニクス | 化学・材料
セミナー
番号 A261027
開催日
10月27日
11月10日
書籍
番号 M090
発刊
2024年06月
次世代ウェアラブルデバイスに向けたフレキシブル・伸縮性エレクトロニクス技術とセンサ開発
～生体データを連続的・高精度に違和感なくセンシングするために～
～皮膚/生体貼付型・衣服型など未来のウェアラブルセンサに向けて～
エレクトロニクス | 化学・材料
書籍
番号 M085
発刊
2023年07月
書籍
番号 M084
発刊
2023年04月
書籍
番号 M080
発刊
2023年02月
光半導体とそのパッケージング・封止技術
～LED,レーザ,フォトダイオード,光ICなど、光半導体の種類・原理・用途から
封止・材料技術、ディスプレイや高速通信など先端応用に関わる開発課題まで～
化学・材料 | エネルギー・環境・機械
書籍
番号 M069
発刊
2021年03月
小型化・集密化する電子デバイスを支える熱輸送・冷却技術の進化と新展開
・小型化/高機能化する電子デバイスに求められるサーマルマネジメント技術の進化
・ヒートパイプの/ 極薄化 / 自励振動型 / ループ型、 並列細管熱輸送デバイスの開発動向
・沸騰冷却 / 磁性流体 / 電気流体力学（EHD） 現象を利用した、熱輸送デバイスの開発
・新しい熱輸送現象として注目される「表面フォノンポラリトン」の原理と応用展開
・5G 対応スマートフォンおよびミニ基地局の放熱対策部品の事例を製品分解をもとに解説
エレクトロニクス | 化学・材料 | エネルギー・環境・機械
書籍
番号 M061
発刊
2020年08月
環境発電・エネルギーハーベスティング技術―デバイス開発と応用展開―
～各種発電技術の仕組み・特徴、市場動向、先進的なデバイス・応用開発事例まで～
エレクトロニクス | 化学・材料 | エネルギー・環境・機械
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