シリコン・パワー半導体における
CMPの技術動向
~半導体製造における化学機械研磨技術の基礎と最新動向~
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CMPの適用、除去メカニズム、装置コンセプト、洗浄プロセス、、、それぞれの基本、現状と課題
パワー半導体とシリコン半導体におけるCMP技術の違い
SiC基板、サファイア基板の研磨技術の動向、高効率研磨微粒子の研究状況、、、
CMP技術の基礎、半導体プロセスにおけるCMPの適用、パワー半導体の基板製造技術
| 日時 | 【ライブ配信】 2026年2月27日(金) 13:00~16:30 |
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| オンライン配信 | ライブ配信(Zoom) ►受講方法・接続確認(申込み前に必ずご確認ください) アーカイブ配信 ►受講方法・視聴環境確認(申込み前に必ずご確認ください) | |||
| 備考 | ※講義中の録音・撮影はご遠慮ください。 ※開催日の概ね1週間前を目安に、最少催行人数に達していない場合、セミナーを中止することがございます。 | |||
| 得られる知識 | ・CMP技術の基礎的な内容 ・半導体プロセスにおけるCMPの適用例 ・パワー半導体の基板製造技術 | |||
セミナー講師
専門:材料科学,ナノマイクロ加工,半導体プロセス, CMP(Chemical Mechanical Polishing)
セミナー趣旨
セミナー講演内容
1-1 CMPの適用例 ~半導体プロセスでCMPの頻度が増えたのは何故か
1-2 CMPの除去メカニズム
1-3 CMP装置のコンセプト
1-4 洗浄プロセスの現状と課題
2.パワー半導体とシリコン半導体におけるCMP技術の違い
2-1 装置構成
2-2 工程管理とモニタリング手法の概念
2-3 スラリーについて
2-4 ポリシングパッドの役割
3.パワー半導体におけるCMP技術について
3-1 基板製造プロセス概要
3-2 基板研磨法
3-3 高効率研磨微粒子による研究事例
4.シリコン半導のCMP技術について
4-1 フロントエンドCMPの適用例
4-2 エンドポイントの考え方
4-3 パターン研磨における課題
5.半導体技術とCMPの将来展望について
質疑応答
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・小型化/高機能化する電子デバイスに求められるサーマルマネジメント技術の進化
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・沸騰冷却 / 磁性流体 / 電気流体力学(EHD) 現象を利用した、熱輸送デバイスの開発
・新しい熱輸送現象として注目される「表面フォノンポラリトン」の原理と応用展開
・5G 対応スマートフォンおよびミニ基地局の放熱対策部品の事例を製品分解をもとに解説
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金属ナノ粒子の合成・設計・制御と応用技術
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高周波対応基板の材料・要素技術の開発動向
小型化・集密化する電子デバイスを支える熱輸送・冷却技術の進化と新展開
・小型化/高機能化する電子デバイスに求められるサーマルマネジメント技術の進化
・ヒートパイプの/ 極薄化 / 自励振動型 / ループ型、 並列細管熱輸送デバイスの開発動向
・沸騰冷却 / 磁性流体 / 電気流体力学(EHD) 現象を利用した、熱輸送デバイスの開発
・新しい熱輸送現象として注目される「表面フォノンポラリトン」の原理と応用展開
・5G 対応スマートフォンおよびミニ基地局の放熱対策部品の事例を製品分解をもとに解説
環境発電・エネルギーハーベスティング技術―デバイス開発と応用展開―
~各種発電技術の仕組み・特徴、市場動向、先進的なデバイス・応用開発事例まで~
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