アドヒージョン(株)　代表取締役社長　博士(工学)　河合 晃　氏
国立大学法人長岡技術科学大学 名誉教授

【講師紹介】
　三菱電機（株）ULSI研究所にて10年間勤務し、製品開発・試作・量産移管・歩留り・工場管理の業務に従事し、高精度なレジストリソグラフィー技術開発に従事した。その後、長岡技術科学大学にて勤務し、機能性薄膜、表面界面制御、ナノデバイスなどの先端分野の研究を実施してきた。各種論文査読委員、NEDO技術委員、国および公的プロジェクト審査員などを歴任。現在、技術コンサルティング会社として、アドヒージョン（株）代表取締役社長を務める。著書33件、受賞多数、原著論文166報、国際学会124件、特許多数、講演会200回以上、日本接着学会評議員、応用物理学会会員、産学連携・技術コンサルティング実績150社以上。
【講師WebSite】
http://www.adhesion.co.jp

　半導体デバイスは現在の科学および産業に多大な貢献をしています。また、その高機能化の進歩は極めて速く、多くの基盤技術が創生されています。その中でも、半導体基板のクリーン化技術は、製品歩留まりに直結しているため、重要なキーテクノロジーの1つとして位置づけられています。
　本セミナーでは、長年、講師がスーパークリーンルーム内で先端製品の開発製造に携わった経験から、ユーザー視点における半導体洗浄やクリーン化技術の要点とノウハウを丁寧に解説します。特に、半導体、有機・無機・金属等の微小欠陥の性質や、これらの付着除去・管理・計測方法、および固体表面と固液界面の性質等について解説します。
　本講座を通じて、基礎から学んでいただけます。また、受講者が抱えている日頃の研究開発および現場トラブルに関する相談にも個別に対応します。

1．洗浄技術と半導体デバイス
　・基本洗浄方式（ウェット、ドライ、物理除去）
　・歩留まりと欠陥（致命欠陥とは）

2．洗浄の基本メカニズム（付着・脱離）
　・相互作用因子（粒子間の引力とは）
　・ファイン粒子の性質（JKR理論、DMT理論、Hertz理論、毛管凝縮）
　・DPAT技術（AFMによる剥離力の直接測定）
　・液体ラプラス力（液膜による凝集力）
　・溶液中の粒子付着と除去（DLVO理論）
　・ゼータ電位と分散凝集制御（溶液中の帯電）
　・表面エネルギーと洗浄（分散・極性成分、付着エネルギーWa解析）
　・界面への洗浄液の浸透機構（拡張濡れエネルギーS、円モデル、気泡制御）

3．有効な付着物の除去方法とは？（徹底的に除去するには）
　・超純水（機能水、帯電防止、腐食防止）
　・RCA洗浄（重金属除去、酸化還元電位）
　・腐食溶解（ポテンシャル－ｐH電位図）
　・マイクロ気泡の脱離（溶存酸素、低表面張力液体による除去）
　・超音波洗浄（異物除去メカニズム）
　・乾燥痕対策（IPA・スピン乾燥）
　・プラズマ処理（有機物分解と物理スパッタ）
　・ブラシスクラバー（機械的除去）
　・エッジバックリンス（ウェハ端面の洗浄技術）

4．効率的なクリーン化技術とは（クリーンルーム運営）
　・花粉、PM2.5、バクテリア、マイクロビーズ（身近な異物）
　・フィルター技術（フィルタリングの基礎、無塵紙）
　・単分子有機汚染（保管中のクリーンネスとは）
　・パーティクルカウンター（気中浮遊粒子）
　・動線のコントロール（安全性と作業の効率化）

5．質疑応答
　（日頃の疑問、トラブル、解析・技術開発相談に個別に応じます）

参考資料
　表面エネルギーによる濡れ・付着性解析（測定方法）