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塗布型透明導電膜の
材料開発と成膜・パターン形成技術

~塗布・印刷プロセスで実用的な高透過率・低シート抵抗を実現する材料・加工技術~
~各応用デバイスにおける要求特性とニーズを把握~

絶版となりました
(2020年3月24日15:00 更新)
発刊日 2015年9月29日
体裁B5判並製本  292頁
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ISBNコード978-4-86428-123-2
CコードC3058
 ~フレキシブル/プリンタブル/大型・低抵抗化/低コスト化の実現を目指す
   ITO代替材料の進化と実用化の最新情報をつかむ!~
  ・性能指数を用いた各ITO代替材料の比較とポジショニングマップ、開発の方向性
  ・Ag/Cuメタルメッシュ
多様なパターニング方法と実現された性能値とは?
  ・銀ナノワイヤで得られている性能値と、そのフィルム加工技術
  ・
銅ナノワイヤの実用化への課題と優れた特性を示す最新の研究例
  ・
酸化グラフェンの溶液調製と塗布膜形成・デバイス適用例
  ・CNT透明導電膜の分散・インク調製・塗布工程の要点、高性能化への材料技術
  ・
新規ナノ炭素材料・CNBの性能値と特性を活かした用途開発
  ・導電性高分子/
PEDOT:PSSの高導電化の動向、ナノワイヤ・CNTとの複合化など新展開

 この他、進化する応用デバイス側から見た要求特性と新規材料への期待、
アプリケーション動向も解説!
 透明導電材料、周辺材料、フィルム加工、応用デバイス企業に贈る、透明導電膜の今とこれからが分かる!