講師紹介

氏名
奥山 林明
会社・団体
ETSC Consulting
役職
代表
略歴
2005年にエルピーダメモリへ入社。2015年のマイクロン買収を経てマイクロンメモリジャパンに在籍し、約20年間WET/CMP Equipment技術者として従事。DRAM半導体製造装置の管理・最適化において豊富な実績を持ち、2025年9月独立、コンサルティング事業を開始。
専門
CMP工程(化学機械研磨)、WET工程(洗浄プロセス)、Cu plating工程(銅めっき)、Asher工程(アッシング)
研究内容・キーワード
半導体前工程の装置技術(CMP・WET洗浄・Cuめっき・アッシング)、装置トラブル解析、消耗品コスト削減、ハイブリッド接合とCMP
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