ナノインプリントリソグラフィの基礎・応用
ナノインプリントリソグラフィ(Nanoimprint Lithography: NIL)の基礎、要素技術、実用例を解説
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本セミナーでは、NILの基礎と要素技術を紹介した後、実用例等を解説する。また、ロールトゥロール(RTR)NILやメタサーフェスおよびAR/MRグラスでのNILの応用状況についても概説する。
日時 | 2024年7月29日(月) 13:00~16:30 |
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会場 | 東京・品川区大井町 きゅりあん 5階 第1講習室 |
会場地図 |
受講料(税込)
各種割引特典
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配布資料 | 製本テキスト(会場にて直接お渡しします) | |
備考 | ※講義の録画・録音・撮影はご遠慮ください。 ※開催日の概ね1週間前を目安に、最少催行人数に達していない場合、セミナーを中止することがございます。 | |
得られる知識 | ・ナノインプリントリソグラフィ(NIL)の基礎 ・NILにおける金型作製技術 ・NILにおける転写樹脂 ・NILにおける応用例 ・ロールトゥロール(RTR)NILによる転写例 ・反射防止構造フィルムの量産例とその応用 ・リソグラフィ用途の動向 ・新技術動向、メタレンズ、AR/VRグラス 等 |
セミナー講師
【その他 活動等】
応用物理学会 ナノインプリント技術研究会 運営委員長
セミナー趣旨
本講演では、NILの基礎と要素技術を紹介した後、実用例等を紹介することで、今後の新製品のヒントが得られると考えている。また、ロールトゥロール(RTR)NILの説明も行い、反射防止構造フィルムの製造例なども紹介する。こちらもフィルムベースの新製品のヒントが得られると考えている。また、近年活発化しているメタサーフェスおよびAR/MRグラス等の状況も概説する。
セミナー講演内容
1.1 ナノインプリントリソグラフィの現状
1.2 ナノインプリントリソグラフィの実用例
2.ナノインプリントの基礎
2.1 ナノインプリントの歴史
2.2 ナノインプリントの要素技術
2.3 ナノインプリントの各種方式
2.4 ナノインプリントの位置づけ
3.ナノインプリントの応用技術
3.1 ナノトランスファープロセス
3.2 金属パターン転写
4.ロールトゥロール (RTR) ナノインプリント
4.1 RTR NILの基礎
4.2 反射防止構造(モスアイ構造)
4.3 モスアイ構造の作製方法
4.4 モスアイ構造の転写方法
4.5 モスアイ構造の応用例
5. 将来展望
5.1 メタサーフェス
5.2 AR/MR グラス
6.まとめ
□ 質疑応答 □
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