サイトリニューアルをしました。
May 8, 2017
日時 | 2021年2月25日(木) 23:59まで申込み受付中/【収録日:2020年8月5日(水)10:30~12:10】※視聴時間:1時間30分 |
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会場 | Webセミナー ※会社・自宅にいながら受講可能です※ 【視聴期間はお申込み日から14日間です。】 |
会場地図 |
講師 | 横浜国立大学 大学院理工学府 化学・生命系理工学専攻 教授 羽深 等 氏 【経歴】 新潟大学理学部化学科 理学士(1979年3月) 京都大学大学院理学研究科化学専攻 理学修士(1981年3月) 広島大学大学院工学研究科 博士(工学)(1996年9月) 信越化学工業(信越半導体) 1981年4月~2000年3月 横浜国立大学工学部物質工学科 助教授 2000年4月~2002年3月 横浜国立大学大学院工学研究院 教授 2002年4月~現在に至る 【研究分野】 半導体結晶製造プロセスの化学工学(実験と解析) 半導体シリコンウエハ湿式洗浄装置(枚葉・バッチ)の解析・設計 半導体シリコンと炭化珪素の薄膜成長(CVD)・エッチング・装置クリーニング技術開発 半導体シリコン表面の分子吸着・脱離挙動の測定と解析 【講師WebSite】 http://www.habukalab.ynu.ac.jp/ |
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受講料(税込)
各種割引特典
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27,500円
( E-Mail案内登録価格 26,070円 )
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定価:本体25,000円+税2,500円
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2名で27,500円 (2名ともE-mail案内登録必須/1名あたり定価半額13,750円)※他の割引は併用できません。 |
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配布資料 | PDFデータをマイページからダウンロードできます。(印刷可/編集は不可) | |
備考 | ※Webセミナーの録音・撮影、複製は固くお断りいたします。 | |
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