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May 8, 2017
セミナー
【期間限定：講演収録でも講師とQ&Aもできる！】
【WEBセミナー：オンデマンド配信】
＜90分速習セミナー＞
半導体洗浄のポイント・コツを修得！
※視聴期間は14日間（申込み日を含む）で、お申込み完了後すぐにご視聴いただけます。
このセミナーは、講師と直接Q&Aもできる、収録済みセミナー（2020年8月5日収録）です。
※このセミナーに関する質問に限り、講師と直接メールにてQ&Aをすることができます。
このセミナーは、講師と直接Q&Aもできる、収録済みセミナー（2020年8月5日収録）です。
※このセミナーに関する質問に限り、講師と直接メールにてQ&Aをすることができます。
★ 洗浄の基礎から学びますので、半導体以外の洗浄をしている技術者にも参考にして頂けます。
★ 忙しいけれど学習したい。サクッと学びたい。オンライン受講は短時間がいい。短時間ならオンラインがいい。
お申込み後、すぐに学べるオンデマンドの90分のオンラインセミナー！
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このセミナーの受付は終了致しました。
| 日時 | 2021年2月25日（木） 23:59まで申込み受付中／【収録日：2020年8月5日(水)10:30～12:10】※視聴時間：1時間30分 |
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|---|---|---|
| 会場 | Webセミナー ※会社・自宅にいながら受講可能です※ 【視聴期間はお申込み日から14日間です。】 |
会場地図 |
| 講師 | 横浜国立大学 大学院理工学府 化学・生命系理工学専攻 教授 羽深 等 氏 【経歴】 新潟大学理学部化学科 理学士（1979年3月） 京都大学大学院理学研究科化学専攻 理学修士（1981年3月） 広島大学大学院工学研究科 博士（工学）（1996年9月） 信越化学工業（信越半導体） 1981年4月～2000年3月 横浜国立大学工学部物質工学科 助教授 2000年4月～2002年3月 横浜国立大学大学院工学研究院 教授 2002年4月～現在に至る 【研究分野】 半導体結晶製造プロセスの化学工学（実験と解析） 半導体シリコンウエハ湿式洗浄装置（枚葉・バッチ）の解析・設計 半導体シリコンと炭化珪素の薄膜成長（CVD）・エッチング・装置クリーニング技術開発 半導体シリコン表面の分子吸着・脱離挙動の測定と解析 【講師WebSite】 http://www.habukalab.ynu.ac.jp/ |
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受講料(税込)
各種割引特典
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27,500円
( E-Mail案内登録価格 26,070円 )
S&T会員登録とE-Mail案内登録特典について
定価：本体25,000円＋税2,500円
E-Mail案内登録価格：本体23,700円＋税2,370円
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E-Mail案内登録なら、2名同時申込みで1名分無料
1名分無料適用条件
2名で27,500円 (2名ともE-mail案内登録必須／1名あたり定価半額13,750円)※他の割引は併用できません。 |
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| 配布資料 | PDFデータをマイページからダウンロードできます。（印刷可／編集は不可) | |
| 備考 | ※Webセミナーの録音・撮影、複製は固くお断りいたします。 | |
| 【期間限定：講師とQ&Aもできる、講演収録済みWEBセミナー（オンデマンド配信）とは？】 以下の流れ・受講内容となります。 ・録画セミナーの動画をお手元のPCやスマホ・タブレッドなどからご視聴・学習することができます。 ・申込み後すぐに視聴可能です(事前に「会員ログイン」または「新規会員登録」し、申込みされた場合のみ)。 S&T会員マイページ（無料）にログインいただき、ご視聴ください。 ※会員ログインまたは新規会員登録せずに申込みされた場合は、 営業日3日後までに弊社にてマイページに設定し、閲覧通知のE-Mailをお送りいたします。 ・視聴期間は申込日より14日間です。 ご視聴いただけなかった場合でも期間延長いたしませんのでご注意ください。 ・セミナー資料はマイページからダウンロードできますので、視聴開始に合わせてお手元で学習できます。 ・このセミナーに関する質問に限り、講師とメールにて個別Q&Aをすることができます。 具体的には、セミナー資料に講師のメールアドレスを掲載していますので、セミナーに関する質問がございましたら 直接メールでご質問ください。 （ご質問の内容や時期によっては、ご回答できない場合がございますのでご了承下さい。） 下記受講条件をご確認ください。 （1）S&T会員登録が必須になります（マイページ機能を利用するため） 映像視聴、各種データのダウンロードなどにS&T会員マイページ機能（無料）を利用します。 会員情報のご登録は、セミナー申込み時、または ＞＞こちら よりお手続きいただけます。 ※弊社案内(E-Mail,DM)を希望されない方は案内方法欄のチェックを外してください。 なお、案内希望チェックがない場合、E-mail案内登録価格(5%OFF)は適用できません。 【E-mail案内登録価格5%OFFは、受講者全員がE-MailまたはDM案内希望の場合のみ適用】 （2）動画視聴・インターネット環境をご確認ください セキュリティの設定や、動作環境によってはご視聴いただけない場合がございます。 以下のサンプル動画が閲覧できるかを事前にご確認いただいたうえで、お申し込みください。 ■サンプル動画■ ＞＞ 視聴環境 ＞＞ テスト視聴サイト （3）申込み後、すぐに視聴可能なため、Webセミナーのキャンセルはできません。予めご了承ください。 |
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このセミナーは終了しました。
セミナー趣旨
本セミナーでは、洗浄する目的から基本に立ち返ります。洗うとは如何なることで何のためなのか、半導体の場合にきれいとは何なのか、どのような方法で、どのような状態にすればきれいなのかを考えてみます。ここでは特に、洗浄という一連の工程を、現象と項目ごとに分類して理解して行き、何故洗うのか、普通に洗うことと半導体の洗浄の違いは何か、どのように仕上げたら良いのか、足元をすくわれるとしたら何なのか、を解説し、対策を取る際の考え方と方法を簡潔に説明します。半導体以外の洗浄をしている技術者にも参考にして頂けます。
セミナー講演内容
＜得られる知識、技術＞
半導体をはじめとする先端材料の洗浄方法を組み立てるための要素に関する知識
目的に合わせた「清浄」の定義
キレイにするために表面を取扱う考え方
工業プロセスに共通して潜在する化学工学（移動現象）
＜プログラム＞
１．洗う理由：汚れは何？いつ、どこからなぜやって来る？
２．一般の洗浄（洗浄の４要素:温度、時間、化学、力学）
３．半導体の洗浄に特有のこと
４．先端技術情報（半導体洗浄を取扱っている国際学会・国内学会）
５．半導体洗浄の基礎現象
5.1 表面現象（付着・脱離・引き剥がす）
5.2 化学工学：流れ、熱、拡散、反応
5.3 装置内流れの種類
６．洗浄機内の流れと反応
6.1 枚葉式洗浄機
6.1.1 水の流れ（観察と計算）
6.1.2 化学反応の例
6.2 バッチ式洗浄機
6.2.1 水の流れ(観察と計算)
6.2.2 水流を最適化（変える）
6.3 超音波の働きと水の動き（観察）
７．まとめ：課題解決の要素
■Ｑ＆Ａ■
このセミナーに関する質問に限り、講師とメールにて個別Q&Aをすることができます。
具体的には、セミナー資料に講師のメールアドレスを掲載していますので、セミナーに関する質問がございましたら
直接メールでご質問ください。
（ご質問の内容や時期によっては、ご回答できない場合がございますのでご了承下さい。）
半導体をはじめとする先端材料の洗浄方法を組み立てるための要素に関する知識
目的に合わせた「清浄」の定義
キレイにするために表面を取扱う考え方
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１．洗う理由：汚れは何？いつ、どこからなぜやって来る？
２．一般の洗浄（洗浄の４要素:温度、時間、化学、力学）
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6.1.2 化学反応の例
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