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半導体デバイス製造工程における
物理的洗浄技術の基礎と静電気障害対策

~進化し続ける半導体デバイスに対応できる製造プロセスを確立するために~

受講可能な形式:【Live配信】のみ


半導体の基礎の基礎、流体力学、電気磁気学、AIから解説し、物理的洗浄について原理から丁寧に説明
半導体デバイス製造工程の歩留まりを決定する洗浄プロセスの中でも
 スプレー、超音波、ブラシを利用した物理的洗浄方法とその際に理的生じる静電気障害への対策
半導体デバイスのマーケット動向と業界動向も解説
日時 2023年4月26日(水)  13:00~16:30
会場 Live配信セミナー(会社・自宅にいながら受講可能)  
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受講料(税込)
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※開催日の概ね1週間前を目安に、最少催行人数に達していない場合、セミナーを中止することがございます。

セミナー講師

愛知工業大学 工学部 電気学科 教授 博士(工学) 清家 善之 氏
※元旭サナック(株)
【講師紹介】

セミナー趣旨

 近年、半導体デバイスの進化はものすごいスピードを進んでいます。このセミナーは半導体デバイスの物理的洗浄に関して説明を行います。セミナーでは半導体デバイスのマーケットの動向と業界動向から工学基礎(半導体の基礎の基礎、流体力学、電気磁気学、AI)から説明を行い、現在半導体デバイスの製造プロセスで使われている物理的洗浄について原理から丁寧に説明します。また講演者が専門としている半導体デバイス製造時の静電気障害の対策についても紹介し、それを防止するためのAI技術についても述べます。半導体デバイス製造プロセスにどのようにAIが用いることができるがヒントになると幸いです。基礎的なことからお話しますので、半導体デバイス洗浄に関わる3から4年の方や半導体デバイス洗浄にビジネスをお探しの方に最適かと思います。

セミナー講演内容

1.半導体デバイスのマーケットの動向と業界動向

2.半導体デバイスの物理的洗浄の必要性

 2.1 半導体デバイスの基礎
 2.2 半導体製造プロセス
 2.3 半導体デバイス製造プロセスにおける洗浄の必要性
 2.4 化学的洗浄と物理的洗浄

3.水流を利用した洗浄について
 3.1 流体力学の基礎
 3.2 高圧スプレー洗浄
 3.3 二流体スプレー洗浄
 3.4 超音波洗浄スプレー洗浄
 3.5 ブラシ洗浄
 3.6 次世代の物理的洗浄技術

4.スプレー洗浄時の静電気障害
 4.1 静電気の基礎
 4.2 半導体デバイスの洗浄の静電気障害
 4.3 スプレー時に発生する静電気と静電気障害のメカニズム

5.AIを用いた半導体デバイスの生産技術
 5.1 AIの基礎
 5.2 半導体製造に用いられるAI
 5.3 静電気障害防止を例にしたAIの活用法

□質疑応答□