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May 8, 2017
【 2 名 同 時 申 込 で 1 名 無 料 】 対 象 セ ミ ナ ー
【Live配信セミナー（Zoom使用）】 ※会社・自宅にいながら学習可能です※
【Live配信（リアルタイム配信）】
【特典：アーカイブ付（1週間視聴OK）】
ドライエッチング技術の基礎と
原子層エッチング（ALE）の最新技術動向
■最先端半導体プロセスに用いられるドライエッチング技術■
■原子層エッチング（ALE：アトミックレイヤーエッチング）技術■
■プラズマＣＶＤ、原子層堆積（ALD)プロセス、デジタル・トランスフォーメーション（DX)■
このセミナーは、Zoomによる【Live配信受講】に加えて、
【アーカイブ(視聴期間6/8～6/14まで)】も付いていますので、繰り返しの視聴学習が可能です。
（※アーカイブは原則編集は行いません。Zoomの録画をご視聴いただけます。）
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（※アーカイブは原則編集は行いません。Zoomの録画をご視聴いただけます。）
★ 大きな注目を最先端半導体プロセス：ドライエッチング、ALE、ALD、プラズマCVD、DXまで徹底解説！
★ 基礎となる物理化学原理、表面反応機構から最新技術動向、マテリアルズ・インフォマティクスや機械学習まで！
★ 特にビジネスとしての動きが速い半導体業界。最新技術を俯瞰的に学ぶ！
★ 基礎となる物理化学原理、表面反応機構から最新技術動向、マテリアルズ・インフォマティクスや機械学習まで！
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このセミナーの受付は終了致しました。
| 日時 | 2022年6月6日（月） 10:30～16:30 |
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|---|---|---|
| 会場 | Live配信セミナー(会社・自宅にいながら受講可能) |
会場地図 |
| 講師 | 大阪大学 大学院工学研究科 教授 浜口 智志 氏 【経歴】 1982年東京大学理学部物理学科卒業 1987年同大学院理学系研究科物理学専攻博士課程修了 1988年ニューヨーク大学大学院数学科博士課程修了 1988年-1990年テキサス大学物理学科核融合研究所（IFS) 研究員 1990年-1998年IBM ワトソン研究所主任研究員 1998年-2004年京都大学エネルギー科学研究科・助教授 2004年-現在 大阪大学工学研究科・教授 【学位】理学博士、Ph.D. in mathematics 【専門】プラズマ物理学、プラズマプロセス工学、核融合科学 【学会活動】国際真空科学技術応用国際連合（IUVSTA)プラズマ科学技術分科会(PSTD)長、Journal of Plasma Medicine 編集委員長、ライプニッツ・プラズマ科学技術研究所（ドイツ）科学諮問評議会委員、プラズマ医療国際学会（IPMS)元会長、米国真空学会(AVS) プラズマ科学技術分科会(PSTD)長、等。 【受賞】2016:プラズマ賞・米国真空学会（AVS), 2012:米国物理学会（APS)フェロー、2011:AVSフェロー、2019ドイツ研究振興協会メルカトールフェロー、2022：日本学術振興会プラズマ材料科学第153委員会プラズマ材料科学賞 等 【WebSite】http://www.camt.eng.osaka-u.ac.jp/hamaguchi/ |
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受講料(税込)
各種割引特典
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49,500円
( E-Mail案内登録価格 46,970円 )
S&T会員登録とE-Mail案内登録特典について
定価：本体45,000円＋税4,500円
E-Mail案内登録価格：本体42,700円＋税4,270円
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E-Mail案内登録なら、2名同時申込みで1名分無料
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※テレワーク応援キャンペーン(1名受講)【Live配信/WEBセミナー受講限定】 1名申込みの場合：受講料( 定価：39,600円／E-mail案内登録価格 37,620円 ) 定価：本体36,000円＋税3,600円 E-mail案内登録価格：本体34,200円＋税3,420円 ※１名様でLive配信/WEBセミナーを受講する場合、上記特別価格になります。 ※お申込みフォームで【テレワーク応援キャンペーン】を選択のうえお申込みください。 ※他の割引は併用できません。 |
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| 配布資料 | PDFデータ（印刷可／編集は不可） ※PDFデータは、セミナー開催日の2日前を目安にマイページからダウンロード可能になります。 | |
| オンライン配信 | ZoomによるLive配信 ►受講方法・接続確認（申込み前に必ずご確認ください） ・本セミナーはビデオ会議ツール「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。 ■最近よくあるお問い合わせ■ １．受講中の、カメラのON/OFF、マイクのON/OFFについて。 → カメラは任意です、カメラが付いていなくても受講できます（OFFで構いません）。 → 講義中はマイクOFF(ミュート)にしてください。質疑応答は、音声／チャット どちらでも質問ができます。 ２．他の受講者に、所属を知られたくない。 → Zoom入室の際、会社名を入れる必要はありません。名字（出席確認のため）だけで結構です。 ３．開催日までに振込み(入金)が間に合わない。 → 受講後でも構いません。お申込み時に振込み予定日を記入いただくか、決まり次第のご連絡で構いません。 | |
| 備考 | ※資料付 ※講義中の録音・撮影はご遠慮ください。 ※開催日の概ね1週間前を目安に、最少催行人数に達していない場合、セミナーを中止することがございます。 | |
このセミナーは終了しました。
セミナー趣旨
本講座では、最先端半導体プロセスに用いられるドライエッチング技術全体を、基礎となる物理化学原理から解説し、特に、近年注目を集める原子層エッチング（ALE）技術について、表面反応機構から最新技術動向までを詳しく紹介する。関連項目として、プラズマＣＶＤと原子層堆積（ALD)プロセス、および、現在進行しつつあるプロセス開発におけるデジタル・トランスフォーメーション（DX)の最新研究動向についても、概要を紹介する。プラズマプロセスの初心者でも聴講できる講義内容を目指す。
セミナー講演内容
＜得られる知識、技術＞
・プラズマプロセスの基礎知識
・ドライエッチングの基礎知識
・原子層エッチング（ALE)の基礎知識と最新技術動向
＜プログラム＞
１．背景
２．プラズマ科学の基礎
３．代表的なプラズマプロセス装置
４．反応性イオンエッチング（RIE）の基礎
4.1 プラズマ表面相互作用
4.2 表面帯電効果
4.3 シリコン系材料エッチング反応機構
4.4 金属・金属酸化物材料エッチング反応機構
4.5 高アスペクト比（HAR)エッチング概要
５．プラズマCVD概要：原子層堆積（ALD)の基礎として
６．ALDプロセスの概要：原子層エッチング（ALE）の逆過程として
6.1 熱ALD
6.2 プラズマ支援(PA-)ALD
７．ALEプロセスの概要と最新技術動向
7.1 PA-ALE
7.2 熱ALE：リガンド交換
7.3 熱ALE：金属錯体形成
８．半導体プロセス分野のデジタル・トランスフォーメーション（DX)
8.1 プロセス数値シミュレーションとTCAD(technical computer aided design)
8.2 仮想計測(VM)とプロセス装置制御
8.3 マテリアルズ・インフォマティクス
8.4 プロセス開発における機械学習（ML)・AIの活用
９．まとめ
□質疑応答□
・プラズマプロセスの基礎知識
・ドライエッチングの基礎知識
・原子層エッチング（ALE)の基礎知識と最新技術動向
＜プログラム＞
１．背景
２．プラズマ科学の基礎
３．代表的なプラズマプロセス装置
４．反応性イオンエッチング（RIE）の基礎
4.1 プラズマ表面相互作用
4.2 表面帯電効果
4.3 シリコン系材料エッチング反応機構
4.4 金属・金属酸化物材料エッチング反応機構
4.5 高アスペクト比（HAR)エッチング概要
５．プラズマCVD概要：原子層堆積（ALD)の基礎として
６．ALDプロセスの概要：原子層エッチング（ALE）の逆過程として
6.1 熱ALD
6.2 プラズマ支援(PA-)ALD
７．ALEプロセスの概要と最新技術動向
7.1 PA-ALE
7.2 熱ALE：リガンド交換
7.3 熱ALE：金属錯体形成
８．半導体プロセス分野のデジタル・トランスフォーメーション（DX)
8.1 プロセス数値シミュレーションとTCAD(technical computer aided design)
8.2 仮想計測(VM)とプロセス装置制御
8.3 マテリアルズ・インフォマティクス
8.4 プロセス開発における機械学習（ML)・AIの活用
９．まとめ
□質疑応答□
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