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【Live配信(リアルタイム配信)】
原子層堆積(ALD)法による
薄膜作製技術の基礎と応用・技術トレンド

~原理・優位性・材料・成膜条件・注意点・新技術・展望など~

原子層堆積(ALD)法の原理・特徴・装置といった基礎から、薄膜の特性評価、用いられる材料群、成膜条件・注意点、エネルギーデバイス作製や各種材料の表面改質への応用、新しい成膜材料やプラズマ技術を用いた成膜等の最近のALD技術まで!
ALD技術を活用するための基礎と応用・トレンドについて詳しく解説します。
日時 2021年12月10日(金)  13:00~16:30
会場 Live配信セミナー ※会社・自宅にいながら受講可能です※  
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受講料(税込)
各種割引特典
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1名申込みの場合:受講料( 定価:35,200円/E-Mail案内登録価格:33,440円 )

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1名様でLive配信/WEBセミナーを受講する場合、上記特別価格になります。
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配布資料電子媒体(PDFデータ/印刷可)
・弊社HPのマイページよりダウンロードいただきます。
・開催2日前を目安に、ダウンロード可となります。
・ダウンロードには会員登録(無料)が必要となります。
オンライン配信ZoomによるLive配信 ►受講方法・接続確認申込み前に必ずご確認ください
備考※資料付
※講義中の録音・撮影はご遠慮ください。
※開催日の概ね1週間前を目安に、最少催行人数に達していない場合、セミナーを中止することがございます。
得られる知識ALD技術の基礎、ALD技術を用いた応用例、薄膜作製技術、ALD装置
対象原子層堆積法の導入を検討されている方。
原子層堆積法について興味のある方であれば、初心者でも受講可能。

セミナー講師

北海道大学 電子科学研究所 教授 松尾 保孝 氏
専門:ナノテクノロジー

セミナー趣旨

 原子層堆積(ALD)法はその名前の通りに、原子1層レベルの厚みで膜厚を制御しながら薄膜を作製する技術として注目されています。一方で、どういった材料が成膜可能か、どのようなデバイスへの成膜が可能かを理解するためにはその原理を理解しておくことが重要です。
 本セミナーでは原子層堆積法の基本的な原理、どのような装置で実現可能かといった技術的を説明すると共に、一般的に用いられる真空蒸着等の薄膜形成技術との異なる部分にも注目し、技術の有効性について説明を行います。また、エネルギーデバイスへの応用やソフトマテリアルなどへの適用などのアプリケーションに関する説明、新しい成膜材料やプラズマ技術を用いた成膜等の最近のALD技術のトレンドを紹介いたします。

セミナー講演内容

1.原子層堆積(ALD)とは
 1.1 微細加工技術で用いられる様々な薄膜作製技術.
 1.2 原子層堆積法の歴史
 1.3 原子層堆積法の原理と特徴
 1.4 原子層堆積法を実現する装置
 1.5 原子層堆積法で得られる薄膜と特性評価
 1.6 原子層堆積法で用いられる材料群
 1.7 成膜する場合の条件、注意点
 
 
2.原子層堆積法の応用と展望
 2.1 エネルギーデバイス作製への応用
 2.2 各種材料の表面改質への応用
 2.3 新しい技術と今後の展望

 □質疑応答□