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光ナノインプリント技術の研究最前線

~材料・プロセスの新技術~

光ナノインプリントリソグラフィによるナノ造形・微細加工技術の先端研究例を東北大学・中川勝教授が解説します。
基板-レジスト間、レジスト-モールド間における理想的な界面を形成する材料技術、成形状態の可視化を可能とするレジスト材料、極限ナノ造形を目指すレーザー加工孔版印刷+光ナノインプリント成形技術など独自の先端技術が語られます。
日時 2021年9月27日(月)  13:00~16:30
会場 Live配信セミナー ※会社・自宅にいながら受講可能です※  
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得られる知識・成形に適した光硬化性材料の組み合わせ
・シランカップリング剤などのモールド・基板の表面修飾方法
・レジスト成形雰囲気の特徴
・モールドエッジでの成形樹脂の形状制御

セミナー講師

東北大学 多元物質科学研究所 マテリアル・計測ハイブリッド研究センター 光機能材料化学研究分野
教授 博士(工学) 中川 勝 氏


[経歴]
 1992年 上智大学 理工学部 化学科 卒業
 1997年 上智大学大学院 理工学研究科 応用化学専攻 博士後期課程 修了 博士(工学)取得
 1997~2002年 東京工業大学 資源化学研究所 助手
 2002~2007年 同研究所 助教授
 2007~2008年  同研究所 准教授
 2008~現在 東北大学 多元物質科学研究所 教授
 2017~2020年 同研究所 所長補佐(ネットワーク型共同研究拠点担当)
 2020~2021年 同研究所 高分子・ハイブリッド材料研究センター長
 2021~      同研究所 マテリアル・計測ハイブリッド研究センター長

[専門] 光機能材料化学,高分子科学, 表面・界面科学, ナノ成形加工
[研究室WEBページ]

 

セミナー趣旨

 下地基板のナノ加工のための有型成形加工技術、光ナノインプリントリソグラフィに資する材料・プロセス・装置技術を概説します。
 材料では、基板―レジスト間の密着分子層形成材料の選択、レジスト―モールド間の離型促進分子層の選択、成形状態の可視化を可能とするレジスト材料について説明します。
 プロセスでは、非破壊で広領域の検査が可能な蛍光検査法、粗密パターンに対応するための被成形体の位置選択的配置法のレーザー加工孔版印刷を紹介します。特に、筆者らが注力しているレーザー加工孔版印刷法を組み込んだナノインプリント技術の特徴を習得できます。

セミナー講演内容

1. ナノインプリント技術における界面形成分子材料の重要性
  1.1 基板-レジスト間の密着分子層
   ・形成材料の選択
   ・レジスト成形・リソグラフィプロセスでの効果
   ・ナノすき間に向けた材料の組合せ
  1.2 レジストーモールド間の離型促進分子層
   ・モールドへの修飾材料
   ・化学気相表面修飾の重要性
   ・一桁ナノ成形に向けた材料選択
   ・内添離型剤の効果
   ・偏在補助剤
   ・潤滑液体層
   ・ハイブリッドモールド材料の耐久性
  1.3 成形状態の可視化を可能とするレジスト材料
   ・紫外線硬化性可視蛍光液体
   ・雰囲気ガスと充填欠陥・モールド汚染
   ・残膜厚・パターンの均一性
   ・蛍光アライメント技術への応用

2. レーザー加工孔版印刷を組込んだ新しいナノインプリントリソグラフィ技術
  2.1 従来の孔版印刷に対する優位性
   ・使用できる液体の粘度範囲
   ・印刷液滴の均一性と定量性
  2.2 光ナノインプリントリソグラフィでの実施例
   ・酸素反応性イオンエッチングによる残膜除去
   ・シリコン微細加工の例
   ・マイクロパット電極

□ 質疑応答 □