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【Live配信(リアルタイム配信)】

プラズマCVD(化学気相堆積)装置による
高品質薄膜の成膜技術、及び量産化対応

■装置メーカーの立場から、プラズマCVD装置の技術/課題と対策を解説■

本セミナーは、Zoomによる【Live配信受講】のみです。
※詳細につきましては下記「オンライン配信」の項目をご確認ください。
★ 30年以上の実績・経験がある装置メーカーから、実務レベルで解説いたします!
日時 2021年6月25日(金)  13:00~16:30
会場 Live配信セミナー ※会社・自宅にいながら受講可能です※  
会場地図
講師 SPPテクノロジーズ(株) マーケティング部 マーケティングコミュニケーショングループ長 金尾 寛人 氏
【経歴・研究内容・専門・活動】
1989年3月 名古屋工業大学 工学部 第一部 電気情報工学科を卒業.
1989年4月 住友金属工業(株)に入社.
Si基板上GaAs膜のヘテロエピタキシー成膜技術の研究開発(1年)や半導体デバイス向けECRプラズマ装置による成膜、エッチング技術の研究開発及び商品開発(10年)
2000年4月 住友精密工業(株)に入社(派遣、2002年3月転籍、2011年12月にSPPテクノロジーズに出向)
MEMSや光デバイス向けプラズマ装置による成膜、エッチング技術の研究開発及び商品開発(3年半)
装置全般の技術営業、マーケティング(現在)
【WebSite】
https://www.spp-technologies.co.jp/
受講料(税込)
各種割引特典
44,000円 ( E-Mail案内登録価格 41,800円 ) S&T会員登録とE-Mail案内登録特典について
定価:本体40,000円+税4,000円
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2名で44,000円 (2名ともE-Mail案内登録必須​/1名あたり定価半額22,000円)
テレワーク応援キャンペーン(1名受講)【Live配信/WEBセミナー受講限定】
1名申込みの場合:受講料( 定価:35,200円/E-Mail案内登録価格 33,440円 ) 

35,200円 ( E-Mail案内登録価格 33,440円 ) 
 定価:本体32,000円+税3,200円
 E-Mail案内登録価格:本体30,400円+税3,040円
1名様でLive配信/WEBセミナーを受講する場合、上記特別価格になります。
※お申込みフォームで【テレワーク応援キャンペーン】を選択のうえお申込みください。
※他の割引は併用できません。
配布資料PDFデータ(印刷可/編集は不可)
※PDFデータは、セミナー開催日の2日前を目安にマイページからダウンロード可能になります。
オンライン配信ZoomによるLive配信 ►受講方法・接続確認(申込み前に必ずご確認ください)
・本セミナーはビデオ会議ツール「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。
備考※資料付
※講義中の録音・撮影はご遠慮ください。
※開催日の概ね1週間前を目安に、最少催行人数に達していない場合、セミナーを中止することがございます。

セミナー趣旨

 当社は、1989年から「研究開発用半導体一貫製造システム」の開発を開始して、装置メーカーとして、30年以上の実績・経験があります。この講演では、プラズマCVD装置に関して、開発してきた技術や課題と対策を中心にご紹介いたします。

セミナー講演内容

<得られる知識・技術>
プラズマCVD装置に関して、開発してきた技術や課題と対策について知ることができます。

<プログラム>
1.プラズマCVD装置の基本構造
 1.1 プラズマCVD装置の構成
 1.2 反応チャンバーの基本構成

2.プラズマCVD装置の用途
 2.1 適用アプリケーション

3.プラズマCVD装置のプロセス性能
 3.1 SiH4系SiO2膜
 3.2 SiH4系SiN膜
 3.3 SiH4系SiON膜
 3.4 SiH4系a-Si膜
 3.5 SiH4系SiC膜
 3.6 TEOS系SiO2膜
 3.7 液体ソース系SiN膜

4.開発用装置と量産用装置
 4.1 プラットフォーム

5.プラズマCVD装置の課題と対策
 5.1 高レート化
 5.2 プロセスの再現性
 5.3 低パーティクル
 5.4 チャンバークリーニング
 5.5 ウェーハ温度の低温化
 5.6 ウェーハ大口径化  など


  □質疑応答□