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【Live配信(リアルタイム配信)】
ウェットエッチングの基礎と
ノウハウおよびトラブル対策

~形状コントロールと高精度化~

■ウェットエッチングの基礎のメカニズム■
■エッチングの高精度化、制御技術■
■プロセスの基礎、最適化、トラブル対策とノウハウ■

本セミナーは、Zoomによる【Live配信受講】のみです。会場開催はございません。
※詳細につきましては下記「オンライン配信」の項目をご確認ください。
濡れ性制御、反応性コントロール、界面密着制御、マスク耐性、、、
様々な要因が関わっているエッチングの高精度化・最適化を目指して

基本プロセスフロー:前処理、表面洗浄、エッチング液、マスク除去、洗浄、、、
プロセス支配要因:濡れ、律速、反応速度、エッチング機構、、、

エッチング表面で何が起こっているのか、どう最適化できるのか

マスクパターンの剥離,エッチング液の濡れ不良、ホールパターンの気泡詰まり、
 気泡・異物等のエッチング表面の荒れ、金属汚染、再付着防止、乾燥痕、、、、、

エッチングプロセスにおける不具合、トラブルの最短の解決のために
日時 2021年2月26日(金)  10:30~16:30
会場 Live配信セミナー(リアルタイム配信) ※会社・自宅にいながら学習可能です※  
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受講料(税込)
各種割引特典
49,500円 ( E-Mail案内登録価格 47,020円 ) S&T会員登録について
定価:本体45,000円+税4,500円
E-Mail案内登録価格:本体42,750円+税4,270円
※テレワーク応援キャンペーン(1名受講)【Live配信/WEBセミナー受講限定】
 1名申込みの場合:受講料( 定価:35,200円/E-Mail案内登録価格 33,440円 )
35,200円 ( E-Mail案内登録価格 33,440円 ) 

  定価:本体32,000円+税3,200円
  E-Mail案内登録価格:本体30,400円+税3,040円
※1名様でLive配信/WEBセミナーを受講する場合、上記特別価格になります。
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E-Mail案内登録なら、2名同時申込みで1名分無料 1名分無料適用条件
2名で49,500円 (2名ともE-Mail案内登録必須​/1名あたり定価半額24,750円) 
配布資料セミナー資料は、電子媒体(PDFデータ/印刷可)を弊社HPのマイページよりダウンロードいただきます。
  (開催2日前を目安に、ダウンロード可となります)
  (ダウンロードには会員登録(無料)が必要となります。
オンライン配信【ZOOMによるLive配信】
 ・本セミナーはビデオ会議ツール「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。
 ・お申し込み前に、接続確認用URL(https://zoom.us/test)にアクセスして接続できるか等ご確認下さい。
 ・お申込み受理のご連絡メールに接続テスト用のURL、ミーティングID​、パスワードが記されております。
 ・セミナー開催日時に、視聴サイトにログインしていただき、ご視聴ください。
 ・開催日時にリアルタイムで講師へのご質問も可能です。
 ・タブレットやスマートフォンでも視聴できます。
備考※資料付
※講義中の録音・撮影はご遠慮ください。
※開催日の概ね1週間前を目安に、最少催行人数に達していない場合、セミナーを中止することがございます。
得られる知識ウェットエッチングの基礎、コントロール要因、形状制御技術
対象初心者の方にも分かりやすく解説します

セミナー講師

長岡技術科学大学 電気電子情報工学専攻 電子デバイス・フォトニクス工学講座 教授 博士(工学) 河合 晃 氏
アドヒージョン(株)(研究成果活用企業(大学ベンチャー))代表取締役兼務

三菱電機(株)ULSI研究所での勤務を経て、大学にて電子デバイス、実装技術、リソグラフィ、コーティング、表面界面、プロセス技術の研究開発に従事。各種論文査読委員、NEDO技術委員、国および公的プロジェクト審査員などを歴任。原著論文160報以上、国際学会120件、講演会200回以上、特許出願多数、受賞多数。大学ベンチャー企業として、アドヒージョン(株)代表取締役 兼務。共同研究および技術コンサルティング実績100社以上。

【講師紹介】

セミナー趣旨

 ウェットエッチングは工業的にも歴史が古く、かつ、高周波プリント基板やLSIおよび液晶デバイスなどの様々な先端分野で主力の加工技術となっています。また、ウェットエッチングは、量産性やコスト性および設備の簡易さに優れており、かつ、エッチングと同時にウェット洗浄も行えるという特長を有しています。
 しかし、ウェットエッチングには、濡れ性制御、反応性コントロール、界面密着制御、マスク耐性などの様々な要因が関わっており、高精度化のためには、それぞれを最適化することが必要です。近年では、ウェットエッチングによるアンダーカット形状の高精度化が求められています。
 本セミナーでは、ウェットエッチングの基礎メカニズムに重点を置きながら、エッチングの高精度化、トラブル対策についても解説します。日頃の技術開発やトラブル相談にも個別に応じます。

セミナー講演内容

1.ウェットエッチングの基礎
  ・加工技術としての位置づけ(設計値とシフト量)
  ・基本プロセスフロー(前処理、表面洗浄、エッチング液、マスク除去、洗浄)
  ・プロセス支配要因(濡れ、律速、反応速度、エッチング機構)
  ・等方性エッチング(アンダーカット)
  ・結晶異方性エッチング(結晶方位依存性)
  ・表面エネルギー理論による界面浸透解析(拡張エネルギーS,円モデル)
  ・処理装置(液循環、ディップ、シャワー、スピンエッチ、フィルタリング)

2.アンダーカット形状コントロール
 ・支配要因(界面濡れ性、応力集中、液循環、マスク耐性)
 ・形状コントロール(エッチングラインの高精度化)
 ・高精度形状計測(断面SEM、定在波法、光干渉法、X線CT)

3.プロセスの基礎と最適化要因
 3.1 被加工表面の最適化(表面被膜、汚染、欠陥の影響)
  ・被加工膜の材質依存性(Cu、Al、Si、ガラス、高分子膜)
  ・表面汚染(大気中放置、自然酸化)
  ・表面前処理(疎水化および親水化)
 3.2エッチング液
  ・エッチング液の選定(等方性/異方性)
  ・エッチングレート(反応律速)
  ・エッチング液の劣化(物質移動律速)
 3.3 エッチングマスク
  ・マスク剤の選定(レジスト膜、無機膜)
  ・マスク剤の最適化(マスク形成と高精度化)
  ・マスクの形状劣化(熱だれ、転写特性)
  ・マスク内の応力分布と付着強度(応力集中と緩和理論)
  ・エッチング液の浸透(CLSM解析)

4.トラブル要因と解決方法(最短の解決のために)
  ・マスクパターンの剥離(付着エネルギーWa及び剥離要因)
  ・エッチング液の濡れ不良(ピンニング不良)
  ・エッチング開始点の遅れ(コンタクトラインのVF変形)
  ・ホールパターンの気泡詰まり(界面活性剤)
  ・エッチング表面の荒れ(気泡、異物)
  ・金属汚染(RCA洗浄)
  ・液中酸化(溶存酸素)
  ・再付着防止(DLVO理論、ゼータ電位)
  ・乾燥痕(マランゴニー対流、IPA蒸気乾燥)

5.質疑応答
(日頃の技術開発およびトラブル相談に個別に応じます)