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【 2 名 同 時 申 込 で 1 名 無 料 】 対 象 セ ミ ナ ー 【Live配信セミナー(Zoom使用)】 ※会社・自宅にいながら学習可能です※

【Live配信(リアルタイム配信)】
薄膜トランジスタの基礎と
高性能化・高信頼性化技術、最新動向

薄膜シリコントランジスタ、酸化物薄膜トランジスタの基礎知識から高性能化・高信頼性に向けた技術を解説!
互いのメリットデメリットとは?デバイスの評価技術、形成技術とは?
初学者にもわかりやすく基礎から最新動向までを学べます!!
日時 2021年1月15日(金)  10:30~16:30
会場 Live配信セミナー(リアルタイム配信) ※会社・自宅にいながら学習可能です※  
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受講料(税込)
各種割引特典
49,500円 ( S&T会員受講料 46,970円 ) S&T会員登録について
定価:本体45,000円+税4,500円
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配布資料配布資料:製本テキスト(開催前日着までを目安に発送)
     ※セミナー資料はお申し込み時のご住所へ発送させていただきます。
     ※開催日の4~5日前に発送します。
      開催前日の営業日の夕方までに届かない場合はお知らせください。

     ※開催まで4営業日~前日にお申込みの場合、セミナー資料の到着が、
      開講日に間に合わない可能性がありますこと、ご了承下さい。
備考※資料付
※講義中の録音・撮影はご遠慮ください。
得られる知識1. 薄膜形成技術
2. 薄膜評価技術
3. 薄膜トランジスタの動作原理
4. 薄膜トランジスタの評価技術
5. 薄膜トランジスタの応用技術
対象半導体分野の初学者
※予備知識は不要です(高校の物理程度)。
【ZoomによるLive配信】
  ・本セミナーはビデオ会議ツール「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。

  ・お申し込み後、接続確認用URL(https://zoom.us/test)にアクセスして
   接続できるか等ご確認下さい。

  ・後日、別途視聴用のURLをメールにてご連絡申し上げます。
  ・セミナー開催日時に、視聴サイトにログインしていただき、ご視聴ください。
  ・リアルタイムで講師へのご質問も可能です。
  ・タブレットやスマートフォンでも視聴できます。

セミナー講師

セミナー趣旨

 薄膜トランジスタ技術は、ディスプレイを始め、LSI、メモリー、センサーなど様々な分野においてその応用がますます広がっている。本講演では、薄膜形成技術の基礎と評価技術、シリコン薄膜トランジスタ、酸化物薄膜トランジスタにおける高性能化・高信頼性化技術について、詳しく説明する。また、真空プロセスに加えて、液体プロセスについてもその形成技術を紹介する。また、新たな応用分野についても、最新動向について説明する。

セミナー講演内容

1. はじめに

2. 薄膜技術の基礎
 2.1 薄膜形成の物理
 2.2 薄膜形成技術
 2.3 薄膜の特長
 2.4 薄膜の評価技術
 2.5 薄膜の最新動向

3. 薄膜トランジスタの動作原理

4. 低温多結晶薄膜(LTPS)トランジスタ
 4.1 薄膜シリコンの結晶化技術
 4.2 薄膜トランジスタの歴史
 4.3 デバイス構造
 4.4 プロセス技術
 4.5 信頼性評価技術
 4.6 回路応用技術
 4.7 LTPS技術の最新動向

5. 酸化物薄膜トランジスタ
 5.1 薄膜トランジスタの歴史
 5.2 酸化物薄膜の物理
 5.3 デバイス構造
 5.4 プロセス技術
 5.5 信頼性評価技術
 5.6 回路応用技術
 5.7 酸化物薄膜技術の最新動向

6. まとめと今後の課題



  □ 質疑応答 □