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【Webセミナー対応】
半導体デバイスにおける洗浄技術の基礎と歩留改善のための
効果的な汚染制御技術

このセミナーは【会場での受講】の他に、【WEBセミナー(アーカイブ:撮影した動画)】でのご受講が可能です。
※WEBセミナーは、セミナー終了10日後を目途に、10日間・動画をご視聴いただけます。
なぜ半導体洗浄が製品の信頼性関わる歩留に影響してくるのか・・・
洗浄技術の基礎から歩留改善のための技術について経験豊富な講師がわかりやすく解説します
また次世代の汚染制御・洗浄乾燥技術についても言及!
このセミナーの受付は終了致しました。
日時 2020年6月24日(水)  13:00~16:30
会場 東京・港区浜松町 芝エクセレントビル B1F KCDホール  
会場地図
受講料(税込)
各種割引特典
44,000円 ( S&T会員受講料 41,800円 ) S&T会員登録について
定価:本体40,000円+税4,000円
会員:本体38,000円+税3,800円
S&T会員なら、2名同時申込みで1名分無料 1名分無料適用条件
2名で44,000円 (2名ともS&T会員登録必須​/1名あたり定価半額の22,000円)
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 1名申込みの場合:受講料( 定価:35,200円/S&T会員 33,440円 )
  35,200円 ( S&T会員受講料 33,440円 )
   定価:本体32,000円+税3,200円
   会員:本体30,400円+税3,040円
 ※1名様でLive配信/WEBセミナーを受講する場合、上記特別価格になります。
 ※お申込みフォームで【テレワーク応援キャンペーン】を選択のうえお申込みください。
 ※他の割引は併用できません。
備考※資料付
※講義中の録音・撮影はご遠慮ください。
※講義中のパソコン使用はキーボードの打音などでご遠慮いただく場合がございます。
得られる知識半導体製造における汚染制御と歩留改善に洗浄技術が重要であることが理解できる
最新の洗浄液技術を習得できます
対象研究開発および製造業務にたずさわっている中堅、若手や新人の方対象です
※特に予備知識は必要ありません。基礎から解説いたします
【WEBセミナー:アーカイブ受講対応セミナー】
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 ・当日のセミナーを、後日にお手元のPCやスマホ・タブレッドなどからご視聴・学習することができます。
 ・後日(開催終了後から10日以内を目途)に、メールにてご連絡申し上げます。
 ・S&T会員マイページ(無料)にログインいただき、ご視聴ください。
 ・視聴期間は10日間です。ご視聴いただけなかった場合でも期間延長いたしませんのでご注意ください。
 ・セミナー資料は印刷・郵送いたします。
 ・このセミナーに関する質問に限り、後日に講師にメールで質問可能です。(テキストに講師の連絡先を掲載)
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セミナー講師

オフィスシラミズ 室長 白水 好美 氏
【専門】半導体洗浄、クリーン化、微量分析技術、歩留改善

セミナー趣旨

 半導体製造において、各種汚染は歩留低下を引き起こします。序論として汚染が半導体デバイスにおよぼす影響を示し、それを踏まえて、半導体洗浄に関して説明します。従来の洗浄から最近の洗浄、目的別洗浄について詳細を説明します。洗浄以外の汚染制御技術に関しても紹介します。最後に次世代の汚染制御の問題点と洗浄乾燥技術について解説します。

セミナー講演内容

1.序論-汚染が半導体デバイスに与える影響
 1-0 クリーン化の重要性
 1-1 金属汚染(Fe, Cu等)およびナノパーティクル
 1-2 分子汚染(NH3, アミン, 有機物, 酸性成分)
 1-3 各種汚染の分析解析方法及びモニタリング技術
 
2.洗浄技術
 2-1 RCA洗浄
 2-2 各種洗浄液と洗浄メカニズム-薬液系洗浄 vs. 純水系洗浄
 2-3 洗浄プロセスの動向
 2-4 最先端の洗浄技術とその問題点
 
3.その他の汚染制御技術
 3-1 工場設計
 3-2 ウェーハ保管、移送方法
 
4.次世代の汚染制御の問題点と今後の課題
 4-1 新洗浄乾燥技術(SCCO2洗浄乾燥, PK剤乾燥)
 4-2 次世代の洗浄、汚染制御の問題点と今後の課題 

  □質疑応答・名刺交換□