【Live配信(リアルタイム配信)】
【出席者特典:アーカイブ付(5日間視聴OK)】
自動車の電動化に向けた、
SiCパワーデバイス・GaNパワーデバイス開発の
最新状況と今後の動向
■最新のSi-IGBT、SiC、GaN、高温対応実装技術まで■
“セミナーの出席者に限り”、特典としてアーカイブ(5日間視聴可能)も付いていますので、
繰り返しの視聴学習が可能です。
(※原則編集は行いません。3営業日以内を目途にZoomのURLまたは当社サイトのマイページからご視聴いただけます。)
本セミナーは、Zoomによる【Live配信受講】のみです。会場開催はございません。
※詳細につきましては下記「ライブ配信」の項目をご確認ください。
繰り返しの視聴学習が可能です。
(※原則編集は行いません。3営業日以内を目途にZoomのURLまたは当社サイトのマイページからご視聴いただけます。)
本セミナーは、Zoomによる【Live配信受講】のみです。会場開催はございません。
※詳細につきましては下記「ライブ配信」の項目をご確認ください。
★ パワー半導体市場予測から、自動車用途に向けたSiCパワーデバイス、GaNパワーデバイスの最新動向!
★ 過去30年を俯瞰し、シリコンパワー半導体からSiC/GaNの最新技術動向を解説!
★ 過去30年を俯瞰し、シリコンパワー半導体からSiC/GaNの最新技術動向を解説!
このセミナーの受付は終了致しました。
日時 | 2021年1月20日(水) 10:30~16:30 |
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会場 | Live配信セミナー(リアルタイム配信) ※会社・自宅にいながら学習可能です※ |
会場地図 |
講師 | 筑波大学 数理物質系 教授 岩室 憲幸 氏 【経歴・活動など】 1984年 早稲田大学理工学部卒、1998年 博士(工学)(早稲田大学) 富士電機株式会社に入社。 1988年から現在までパワーデバイスシミュレーション技術、IGBT、ならびにWBGデバイス研究、開発、製品化に従事 1992年North Carolina State Univ. Visiting Scholar. MOS-gate thyristorの研究に従事 1999年-2005年 薄ウェハ型IGBTの製品開発に従事 2009 年5月-2013年3月 産業技術総合研究所に出向。SiC-MOSFET、SBDの研究,量産技術開発に従事。 2013年4月- 国立大学法人 筑波大学 教授。現在に至る IEEE Senior Member, 電気学会上級会員、応用物理学会会員 【受賞】 1.日経エレクトロニクス パワーエレクトロニクスアワード2020 最優秀賞 (2020年12月) 2.電気学会 第23回優秀活動賞 技術報告賞 (2020年4月) 3.電気学会 優秀技術活動賞 グループ著作賞(2011年) 【専門】 シリコン、SiCパワー半導体設計,解析技術 【講師WebSite】 http:// power.bk.tsukuba.ac.jp/ |
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受講料(税込)
各種割引特典
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55,000円
( E-Mail案内登録価格 52,250円 )
S&T会員登録について
定価:本体50,000円+税5,000円
E-Mail案内登録価格:本体47,500円+税4,750円
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E-Mail案内登録なら、2名同時申込みで1名分無料
1名分無料適用条件
2名で55,000円 (2名ともE-Mail案内登録必須/1名あたり定価半額27,500円)
※テレワーク応援キャンペーン(1名受講)【Live配信/WEBセミナー受講限定】 1名申込みの場合:受講料( 定価:49,500円/E-Mail案内登録価格 46,970円 ) 49,500円 ( E-Mail案内登録価格 46,970円 ) 定価:本体45,000円+税4,500円 E-Mail案内登録価格:本体42,700円+税4,270円 ※1名様でLive配信/WEBセミナーを受講する場合、上記特別価格になります。 ※お申込みフォームで【テレワーク応援キャンペーン】を選択のうえお申込みください。 ※他の割引は併用できません。 |
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特典 | ※出席参加者に限り、アーカイブ:録画映像(5日間視聴可)も付いています。繰り返しの視聴学習が可能! (※原則編集は行いません。3営業日以内を目途にZoomのURLまたは当社サイトのマイページからご視聴いただけます。) | |
配布資料 | PDFデータ(印刷可/編集は不可) ※PDFデータは、セミナー開催日の2日前を目安にマイページからダウンロード可能になります。 | |
オンライン配信 | 【ZoomによるLive配信】 ・本セミナーはビデオ会議ツール「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。 ・お申込み受理のご連絡メールに接続テスト用のURL、ミーティングID、パスコードが記されております。 「Zoom」をインストールができるか、接続できるか等をご確認下さい。 ・セミナー開催日時に、視聴サイトにログインしていただき、ご視聴ください。講師へのご質問も可能です。 ・お申込みの際は、接続確認用URL(https://zoom.us/test)にアクセスして接続できるか等ご確認下さい。 ・開始時に視聴できないなどのお問い合わせが増えています。予めZoomのテスト確認を必ずお願いいたします。 Zoomのテスト http://zoom.us/test 音声に関するQ&A https://support.zoom.us/hc/ja/articles/115002262083 Zoomのアプリの他、ブラウザによる視聴環境について https://support.zoom.us/hc/ja/articles/214629443-Zoom Internet Explorer 10以降 Chromium Edge 80以降 Google Chrome 53.0.2785以降 Safari 10.0.602.1.50以降 Firefox 76以降 | |
備考 | ※資料付 ※講義中の録音・撮影はご遠慮ください。 ※開催日の概ね1週間前を目安に、最少催行人数に達していない場合、セミナーを中止することがございます。 |
このセミナーは終了しました。
セミナー趣旨
2020年現在、世界各国は自動車の電動化(xEV)開発に向け大きく進展している。そして2030年代には日、米、欧、中がガソリン車の新車販売を禁止するなど、xEVは、もはや大きな潮流となった感がある。xEVの性能を決める基幹部品であるパワーデバイスでは、新材料SiC/GaNデバイスの普及が大いに期待されている。
しかしながら現状では、シリコンIGBTがxEV用途の主役に君臨しており、今後しばらくはシリコンIGBTの時代が続くともいわれている。これはとりもなおさず、SiC/GaNデバイスの性能、信頼性、さらには価格が市場の要求に十分応えられていないことによる。最強の競争相手であるシリコンIGBTからSiC/GaN開発技術の現状と今後の動向について、半導体素子や実装技術、さらには市場予測を含め、わかりやすく、かつ丁寧に解説する。
しかしながら現状では、シリコンIGBTがxEV用途の主役に君臨しており、今後しばらくはシリコンIGBTの時代が続くともいわれている。これはとりもなおさず、SiC/GaNデバイスの性能、信頼性、さらには価格が市場の要求に十分応えられていないことによる。最強の競争相手であるシリコンIGBTからSiC/GaN開発技術の現状と今後の動向について、半導体素子や実装技術、さらには市場予測を含め、わかりやすく、かつ丁寧に解説する。
セミナー講演内容
<得られる知識・技術>
パワー半導体デバイスならびにパッケージの最新技術動向。Si-IGBTの強み、SiC/GaNパワーデバイスの特長と課題。パワー半導体デバイスならびにSiC/GaN市場予測。シリコンIGBT、SiCデバイス実装技術。SiC/GaNデバイス特有の設計、プロセス技術、など。
<プログラム>
1.パワーエレクトロニクス(パワエレ)とはなに?
1.1 パワエレ&パワーデバイスの仕事
1.2 パワー半導体の種類と基本構造
1.3 パワーデバイスの適用分野
1.4 パワーデバイスのお客様は何を望んでいるのか?
1.5 シリコンMOSFET・IGBTの伸長
1.6 パワーデバイス開発のポイント
2.最新シリコンパワーデバイス(Si-IGBT)の進展と課題
2.1 パワーデバイス市場の現在と将来
2.2 IGBT開発のポイント
2.3 IGBT特性改善を支える技術
2.4 薄ウェハ化の限界
2.5 IGBT特性改善の次の一手
2.6 新型IGBTとして期待されるRC-IGBTとはなに?
2.7 シリコンIGBTの実装技術
3.SiCパワーデバイスの現状と課題
3.1 半導体デバイス材料の変遷
3.2 ワイドバンドギャップ半導体とは?
3.3 なぜSiCパワーデバイスなのか
3.4 各社はSiC-IGBTではなくSiC-MOSFETを開発する。なぜか?
3.5 SiCウェハができるまで
3.6 SiC-SBDそしてSiC-MOSFET開発へ
3.7 SiC-MOSFETの普及拡大のために解決すべき課題
3.8 SiC-MOSFET最近のトピックス
3.9 SiCのデバイスプロセス(Siパワーデバイスと何が違うのか)
3.10 SiCデバイス信頼性向上のポイント
3.11 SiC-MOSFET内蔵ダイオードのVf劣化とは?
3.12 ショットキーバリアダイオード(SBD)内蔵SiC-MOSFET
4.GaNパワーデバイスの現状と課題
4.1 なぜGaNパワーデバイスなのか?
4.2 GaNデバイスの構造
4.3 SiCとGaNデバイスの狙う市場
4.4 GaNパワーデバイスはHEMT構造。その特徴は?
4.5 ノーマリ-オフ・ノーマリーオン特性とはなに?
4.6 GaN-HEMTのノーマリ-オフ化
4.7 GaN-HEMTの課題
4.8 GaNパワーデバイスの弱点はなにか
4.9 縦型GaNデバイスの最新動向
4.10 縦型SiCデバイス 対 縦型GaNデバイス。勝ち筋はどちらに?
5.SiCパワーデバイス高温対応実装技術
5.1 高温動作ができると何がいいのか
5.2 SiC-MOSFETモジュール用パッケージ
5.3 パワーモジュール動作中の素子破壊例
5.4 SiCモジュールに必要な実装技術
6.まとめ
□質疑応答□
パワー半導体デバイスならびにパッケージの最新技術動向。Si-IGBTの強み、SiC/GaNパワーデバイスの特長と課題。パワー半導体デバイスならびにSiC/GaN市場予測。シリコンIGBT、SiCデバイス実装技術。SiC/GaNデバイス特有の設計、プロセス技術、など。
<プログラム>
1.パワーエレクトロニクス(パワエレ)とはなに?
1.1 パワエレ&パワーデバイスの仕事
1.2 パワー半導体の種類と基本構造
1.3 パワーデバイスの適用分野
1.4 パワーデバイスのお客様は何を望んでいるのか?
1.5 シリコンMOSFET・IGBTの伸長
1.6 パワーデバイス開発のポイント
2.最新シリコンパワーデバイス(Si-IGBT)の進展と課題
2.1 パワーデバイス市場の現在と将来
2.2 IGBT開発のポイント
2.3 IGBT特性改善を支える技術
2.4 薄ウェハ化の限界
2.5 IGBT特性改善の次の一手
2.6 新型IGBTとして期待されるRC-IGBTとはなに?
2.7 シリコンIGBTの実装技術
3.SiCパワーデバイスの現状と課題
3.1 半導体デバイス材料の変遷
3.2 ワイドバンドギャップ半導体とは?
3.3 なぜSiCパワーデバイスなのか
3.4 各社はSiC-IGBTではなくSiC-MOSFETを開発する。なぜか?
3.5 SiCウェハができるまで
3.6 SiC-SBDそしてSiC-MOSFET開発へ
3.7 SiC-MOSFETの普及拡大のために解決すべき課題
3.8 SiC-MOSFET最近のトピックス
3.9 SiCのデバイスプロセス(Siパワーデバイスと何が違うのか)
3.10 SiCデバイス信頼性向上のポイント
3.11 SiC-MOSFET内蔵ダイオードのVf劣化とは?
3.12 ショットキーバリアダイオード(SBD)内蔵SiC-MOSFET
4.GaNパワーデバイスの現状と課題
4.1 なぜGaNパワーデバイスなのか?
4.2 GaNデバイスの構造
4.3 SiCとGaNデバイスの狙う市場
4.4 GaNパワーデバイスはHEMT構造。その特徴は?
4.5 ノーマリ-オフ・ノーマリーオン特性とはなに?
4.6 GaN-HEMTのノーマリ-オフ化
4.7 GaN-HEMTの課題
4.8 GaNパワーデバイスの弱点はなにか
4.9 縦型GaNデバイスの最新動向
4.10 縦型SiCデバイス 対 縦型GaNデバイス。勝ち筋はどちらに?
5.SiCパワーデバイス高温対応実装技術
5.1 高温動作ができると何がいいのか
5.2 SiC-MOSFETモジュール用パッケージ
5.3 パワーモジュール動作中の素子破壊例
5.4 SiCモジュールに必要な実装技術
6.まとめ
□質疑応答□
このセミナーは終了しました。