書籍

プラズマCVDにおける成膜条件の最適化に向けた
反応機構の理解とプロセス制御・成膜事例

■「所望の薄膜」を形成するプラズマCVDプロセスの確立に向けて■

発刊日 2018年9月27日
体裁B5判並製本  328頁
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ISBNコード978-4-86428-170-6
CコードC3058
電気回路、電磁気学、放電工学、流体力学、化学工学、表面科学……
様々な学問体系が絡み合う、複雑なプラズマCVDを「使いこなしたい!」と願う技術者・研究者へ

○「こういう膜質にしたい」という要望はあるものの、取るべき手段やその理由がわからない人に
○「この数値が関係しそうだ」と予想はつくが、実際にはどうしたらいいかわからない人にも
○  または、自社装置だけでなく「こうしたらいいですよ」と成膜方法も提案できるようになるためにも
 
★1~4章末の「豆知識」は知らない用語の意味&より理解を深める情報を参照・確認するために、ご活用ください★

▼ 本書の一部内容をご紹介 ▼

■プラズマCVD成膜の"ナカミ"を理解する ~基礎的な理論と成膜事例を通じて仕組みを理解する~
 ・SiH4プラズマを用いたa-Si:H成膜例から;SiH3ラジカルの表面反応の基板温度依存性
 ・トレンチ構造への成膜;空隙が形成されるのを防ぐ方法とトレンチ構造へのSiO成膜例
 ・膜のストレスをゼロにする方策;最も簡単だが副作用がある方法、その副作用を解決する方法
 ・機能性の官能基を有する薄膜の堆積;SiO とCHxのハイブリッド膜例、フッ化炭素膜へのベンゼン環構造含有例

■成膜条件の最適化を少しでも効率よく行うためには ~基本的な考え方や手順を解説~
 ・パウダー(粉)の抑制;プラズマ中/チャンバー内壁や電極などからの剥離によるパウダーの対策
 ・基板からの膜剥離対策;剥離しやすい条件ととるべき対策(Si系薄膜の事例で解説)
  他、膜質の均一化・成膜速度・成膜条件と物性の関係など

■もっと実務・実用に近い系で学ぶ!成膜プロセス最適化へ向けた取り組み事例
 ・グラフェン/グラフェンナノリボン/ダイヤモンド/アモルファス炭素
 ・成膜装置規模とDLC膜/SiN成膜の低温化技術/酸化チタン薄膜と親水化/樹脂製の自動車ウィンドウ
 ・CVD・ALD複合装置開発/微粒子挙動のその場観察・計測と汚染制御